[實用新型]一種錫槽物理模擬的溫控系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202120697905.4 | 申請日： | 2021-04-07 |
| 公開（公告）號： | CN214756951U | 公開（公告）日： | 2021-11-16 |
| 發(fā)明（設計）人： | 彭壽;張沖;周剛;楊勇;柯震坤;李金威;李常青;曹欣;單傳麗;倪嘉;崔介東;趙鳳陽;仲召進;王萍萍;高強;王巍巍;韓娜;石麗芬 | 申請（專利權(quán)）人： | 中建材蚌埠玻璃工業(yè)設計研究院有限公司;玻璃新材料創(chuàng)新中心（安徽）有限公司 |
| 主分類號： | H05B1/00 | 分類號： | H05B1/00 |
| 代理公司： | 安徽省蚌埠博源專利商標事務所(普通合伙) 34113 | 代理人： | 楊晉弘 |
| 地址： | 233010 安徽*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 物理 模擬 溫控 系統(tǒng) | ||
1.一種錫槽物理模擬的溫控系統(tǒng)，包括錫槽模型（1），錫槽模型（1）沿入口至出口方向依次設置四個加熱段，每個加熱段內(nèi)均設有加熱模塊（4），其特征在于：每個加熱段內(nèi)還分別設有溫度檢測模塊（5），所述錫槽模型（1）上方設有加熱采集器（2），加熱采集器（2）外形輪廓與錫槽模型（1）相匹配，所述加熱采集器（2）與升降裝置（7）連接，所述加熱模塊（4）、溫度檢測模塊（5）及加熱采集器（2）分別與控制箱（3）電學連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種錫槽物理模擬的溫控系統(tǒng)，其特征在于：所述加熱采集器（2）包括腔體（21），腔體（21）內(nèi)設有與錫槽模型（1）相對應的四個加熱區(qū)，每個加熱區(qū)分別設有一組加熱管（21a），每組加熱管（21a）數(shù)量沿入口至出口方向依次減少，每個加熱區(qū)分別設有紅外線測溫儀（21b）。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種錫槽物理模擬的溫控系統(tǒng)，其特征在于：所述加熱管（21a）為石英石加熱管。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種錫槽物理模擬的溫控系統(tǒng)，其特征在于：所述升降裝置（7）包括懸臂式的機架（71），機架（71）上端連接步進電機（72），步進電機（72）通過絲杠螺母機構(gòu)連接加熱采集器（2）。
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