[實用新型]一種清除物料中金屬雜質的系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202120342334.2
• 申請日: 2021-02-04
• 公開（公告）號: CN214718529U
• 公開（公告）日: 2021-11-16
• 發(fā)明（設計）人: 李偉;李瑞軍;燕瑞芬;呼瑞鵬;郝二軍;王小波
• 申請（專利權）人: 陜西北元化工集團股份有限公司
• 主分類號: B07C5/34
• 分類號: B07C5/34;B07C5/02
• 代理公司: 西安毅聯(lián)專利代理有限公司 61225
• 代理人: 韓金明

1.一種清除物料中金屬雜質的系統(tǒng)，其特征在于，包括

金屬檢測模塊，用于檢測輸送帶上物料中的金屬，所述金屬檢測模塊包括金屬傳感器，所述金屬傳感器發(fā)出檢測波，所述檢測波覆蓋所述輸送帶的寬度，且在輸送帶上覆蓋的長度為1-1.5米范圍均能檢測到物料是否有金屬；當檢測到金屬時，輸出觸發(fā)信號；

控制模塊，所述控制模塊連接所述金屬檢測模塊，并接收觸發(fā)信號，所述控制模塊還連接氣動模塊；

氣動模塊，包括控制閥和氣動執(zhí)行單元，所述控制閥控制氣動執(zhí)行單元的工作，所述控制模塊控制所述控制閥的開啟與關閉；所述氣動執(zhí)行單元還連接物料導流模塊；

物料導流模塊，當所述金屬檢測模塊檢測到金屬時，所述氣動執(zhí)行單元控制所述物料導流模塊進行物料導流。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種清除物料中金屬雜質的系統(tǒng)，其特征在于，所述金屬檢測模塊包括第一處理器，所述第一處理器和所述控制模塊連接；

所述金屬檢測模塊檢測到輸送帶上的物料包括金屬時，所述第一處理器接收到檢測信號并處理，所述第一處理器還將處理結果發(fā)送給所述控制模塊，所述控制模塊控制所述氣動模塊的控制閥，所述控制模塊給所述控制閥一個開啟信號，所述控制閥將所述開啟信號傳輸給所述氣動執(zhí)行單元；所述執(zhí)行單元發(fā)送物料導流信號給所述物料導流模塊。

3.根據(jù)權利要求1所述的一種清除物料中金屬雜質的系統(tǒng)，其特征在于，所述物料導流模塊包括物料導流執(zhí)行機構，所述物料導流執(zhí)行機構位于所述輸送帶的正上方，所述氣動執(zhí)行單元帶動所述物料導流執(zhí)行機構的工作。

4.根據(jù)權利要求3所述的一種清除物料中金屬雜質的系統(tǒng)，其特征在于，還包括限位模塊，所述限位模塊連接所述物料導流執(zhí)行機構和所述氣動執(zhí)行單元，所述限位模塊用于控制所述氣動執(zhí)行單元的停止，進而控制物料導流執(zhí)行機構的停止。

5.根據(jù)權利要求4所述的一種清除物料中金屬雜質的系統(tǒng)，其特征在于，所述氣動模塊還包括第二處理器；

所述限位模塊發(fā)送停止信號給所述第二處理器，所述第二處理器處理停止信號并發(fā)送給所述控制模塊，所述控制模塊將信號發(fā)送給控制閥，所述控制閥控制所述氣動執(zhí)行單元給所述物料導流模塊發(fā)送停止信號，所述控制閥進而控制所述物料導流執(zhí)行機構的停止。

6.根據(jù)權利要求1所述的一種清除物料中金屬雜質的系統(tǒng)，其特征在于，所述輸送帶的一側設有橫向支架和豎向支架，所述橫向支架的底部連接有物料導流執(zhí)行機構。

7.根據(jù)權利要求6所述的一種清除物料中金屬雜質的系統(tǒng)，其特征在于，所述豎向支架的一側連接有氣動執(zhí)行單元。

8.根據(jù)權利要求3所述的一種清除物料中金屬雜質的系統(tǒng)，其特征在于，所述物料導流執(zhí)行機構為凹槽結構，所述輸送帶的中心設有凹面，所述凹面的中心部位和所述凹槽結構的中心部位偏離，偏離距離為8-12cm。

9.根據(jù)權利要求1所述的一種清除物料中金屬雜質的系統(tǒng)，其特征在于，所述輸送帶的一側下方設有落料斗。