[實用新型]一種淋釉器

有效

• 申請號: 202120106475.4
• 申請日: 2021-01-14
• 公開（公告）號: CN215825556U
• 公開（公告）日: 2022-02-15
• 發明（設計）人: 廖紹基;黃彬成
• 申請（專利權）人: 佛山市瓏華臺科技開發有限公司
• 主分類號: B28B11/04
• 分類號: B28B11/04;B28B17/00
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 胡楓;周應勛

1.一種淋釉器，其特征在于，包括淋釉板和向所述淋釉板輸送釉漿的上釉機構；

其中，所述上釉機構包括與所述淋釉板對應設置的布釉輥和用于調節上釉量的計量輥和擋釉板，所述布釉輥和計量輥的兩側設有所述擋釉板，所述計量輥、布釉輥和擋釉板之間形成用于緩存釉漿的蓄釉池；

所述蓄釉池內的釉漿通過粘附于轉動的布釉輥，移至所述淋釉板處。

2.如權利要求1所述的淋釉器，其特征在于，所述淋釉器還包括用于向所述蓄釉池補充釉漿的釉漿容器，所述釉漿容器設有用于釋放釉漿的下釉管，所述下釉管對應設于所述蓄釉池的上方。

3.如權利要求1所述的淋釉器，其特征在于，所述布釉輥的最高點高于所述計量輥的最高點，以使所述蓄釉池的液面最大高度為所述計量輥的最高點。

4.如權利要求1所述的淋釉器，其特征在于，所述布釉輥的直徑大于所述計量輥的直徑。

5.如權利要求2所述的淋釉器，其特征在于，所述淋釉器還包括用于蓄釉槽，所述蓄釉槽對應設于所述上釉機構的下方，以回收從所述蓄釉池流出的釉漿。

6.如權利要求5所述的淋釉器，其特征在于，所述淋釉器還包括回釉泵，所述蓄釉槽設有與所述回釉泵連通的回釉口，所述蓄釉槽內的釉漿通過所述回釉泵輸送至所述釉漿容器內。

7.如權利要求1所述的淋釉器，其特征在于，所述布釉輥的輥面的粘附系數大于所述計量輥的輥面的粘附系數。

8.如權利要求2所述的淋釉器，其特征在于，所述下釉管設有出釉縫隙，所述出釉縫隙內設有用于改變出釉量的擋板，所述下釉管安裝有用于移動所述擋板的螺桿，所述螺桿的一端與所述擋板相抵觸。

9.如權利要求1所述的淋釉器，其特征在于，所述布釉輥和計量輥之間留有預設間距的蓄油縫隙。

10.如權利要求1所述的淋釉器，其特征在于，所述布釉輥的輥面由橡膠制成，所述計量輥的輥面由金屬制成。