[發明專利]液體噴射裝置

在審

• 申請號: 202011423902.8
• 申請日: 2020-12-08
• 公開（公告）號: CN113022161A
• 公開（公告）日: 2021-06-25
• 發明（設計）人: 塩原裕規
• 申請（專利權）人: 精工愛普生株式會社
• 主分類號: B41J11/00
• 分類號: B41J11/00
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 李丹

1.一種液體噴射裝置，其特征在于，具備：

液體噴射部，構成為對介質噴射通過光的照射而硬化的液體；

照射部，構成為對噴射有所述液體的所述介質照射光；以及

氧氣濃度降低機構，使噴射區域以及照射區域中的氧氣濃度低于大氣的氧氣濃度，所述噴射區域是在所述液體噴射部噴射所述液體時形成在所述液體噴射部與所述介質之間的區域，所述照射區域是在所述照射部照射光時形成在所述照射部與所述介質之間的區域。

2.根據權利要求1所述的液體噴射裝置，其特征在于，

所述氧氣濃度降低機構具有構成為向所述噴射區域以及所述照射區域供給惰性氣體的惰性氣體供給機構。

3.根據權利要求2所述的液體噴射裝置，其特征在于，

所述照射部具有在與介質輸送方向正交的方向上設置在與所述液體噴射部排列的位置處的第一照射部以及第二照射部，

所述惰性氣體供給機構具有第一惰性氣體供給管和第二惰性氣體供給管，所述第一惰性氣體供給管具有第一噴射口，所述第二惰性氣體供給管具有第二噴射口，

所述第一噴射口設置在第一照射部與所述液體噴射部之間，所述第二噴射口設置在所述第二照射部與所述液體噴射部之間。

4.根據權利要求3所述的液體噴射裝置，其特征在于，

所述第一照射部以及所述第二照射部在與所述介質輸送方向正交的方向上，隔著所述液體噴射部而配置。

5.根據權利要求4所述的液體噴射裝置，其特征在于，

所述液體噴射部設置于滑架，所述滑架構成為在與介質輸送方向正交的方向上移動，

在所述滑架向第一方向移動時，從設置于所述第一方向的所述第一噴射口噴出惰性氣體，在所述液體噴射部向所述第一方向的相反方向的第二方向移動時，從設置于所述第二方向的所述第二噴射口噴出惰性氣體。

6.根據權利要求1所述的液體噴射裝置，其特征在于，

所述氧氣濃度降低機構具有：

減壓泵，構成為使減壓區域減壓；以及

氧氣透過膜，至少設置于劃分所述減壓區域與所述噴射區域以及所述照射區域的壁面的一部分。

7.根據權利要求6所述的液體噴射裝置，其特征在于，

所述液體噴射部以及所述照射部設置于滑架，所述滑架構成為在與介質輸送方向正交的方向上移動，

所述滑架形成為向下面側開放的箱狀，

所述氧氣透過膜通過覆蓋除了所述液體噴射部以及所述照射部的底面之外的所述滑架的下部，從而形成被所述滑架以及所述氧氣透過膜覆蓋的所述減壓區域。

8.根據權利要求1至7中任一項所述的液體噴射裝置，其特征在于，

所述液體噴射裝置還具備脫氣機構，所述脫氣機構構成為對供給到所述液體噴射部的所述液體進行脫氣。

9.根據權利要求1至7中任一項所述的液體噴射裝置，其特征在于，

所述液體噴射裝置還具備維護所述液體噴射部的維護機構，并且在維護時停止所述氧氣濃度降低機構的驅動。