[發明專利]目標檢測方法、裝置、電子設備以及存儲介質在審
| 申請號: | 202111658123.0 | 申請日: | 2021-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN114913117A | 公開(公告)日: | 2022-08-16 |
| 發明(設計)人: | 孫智宇;劉奇 | 申請(專利權)人: | 美的集團股份有限公司 |
| 主分類號: | G06T7/00 | 分類號: | G06T7/00;G06V10/74;G06V10/82;G06N3/04;G06N3/08;G06K17/00 |
| 代理公司: | 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 瞿璨 |
| 地址: | 528311 廣東省佛山市順德區*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 目標 檢測 方法 裝置 電子設備 以及 存儲 介質 | ||
1.一種目標檢測方法,其特征在于,包括:
獲取第一圖像、標準圖像以及檢測配置文件;
基于所述第一圖像與所述標準圖像,得到所述第一圖像的第一特征參數、所述標準圖像的第二特征參數及所述第一特征參數與所述第二特征參數的匹配關系;
基于所述檢測配置文件、所述第一特征參數、所述第二特征參數以及所述匹配關系,得到所述第一圖像內待測目標的第二圖像;
基于所述第二圖像,得到檢測結果。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于所述第一圖像與所述標準圖像,得到所述第一圖像的第一特征參數、所述標準圖像的第二特征參數、所述第一特征參數與所述第二特征參數的匹配關系的步驟,包括:
獲取所述第一圖像的第一特征參數;其中,所述第一特征參數包括第一關鍵點與第一子特征參數;
基于所述第一關鍵點與所述第一子特征參數,得到所述第一圖像的第一匹配參數;
獲取所述標準圖像的第二特征參數;其中,所述第二特征參數包括第二關鍵點與第二子特征參數;
基于所述第二關鍵點與所述第二子特征參數,得到所述標準圖像的第二匹配參數;
基于所述第一匹配參數與所述第二匹配參數,得到所述第一關鍵點與所述第二關鍵點的匹配關系。
3.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,所述基于所述第一匹配參數與所述第二匹配參數,得到所述第一關鍵點與所述第二關鍵點的匹配關系的步驟,包括:
根據所述第一匹配參數與所述第二匹配參數,獲取所述第一關鍵點中的第i個點與所述第二關鍵點中的第j個點;其中,所述第一關鍵點中的第i個點與所述第二關鍵點中的第j個點相匹配;
基于所述第i個點與所述第j個點,獲取所述第一關鍵點與所述第二關鍵點的匹配點的對數;
響應于所述匹配點的對數大于或等于進行圖像變換所需的關鍵點的數量,輸出所述匹配關系;
響應于所述匹配點的對數小于進行圖像變換所需的關鍵點的數量,結束目標檢測。
4.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,所述檢測配置文件包括預設的圖像變換類型,所述基于所述檢測配置文件、所述第一特征參數、所述第二特征參數以及所述匹配關系,得到所述第一圖像內待測目標的第二圖像的步驟,包括:
基于所述預設的圖像變換類型、所述第一關鍵點、所述第二關鍵點以及所述匹配關系,得到逆變換矩陣;
基于所述逆變換矩陣,得到所述標準圖像中標準目標在所述第一圖像的第一映射坐標;
基于所述第一映射坐標,得到所述第一圖像的待測區域;
響應于所述待測區域內所述待測目標的中心坐標未超出所述第一圖像邊界,修正所述第一映射坐標,得到第二映射坐標;其中,所述第二映射坐標為所述待測目標在所述第一圖像的位置坐標;
基于所述第二映射坐標,得到所述第二圖像。
5.根據權利要求4所述的方法,其特征在于,所述第二圖像的數量至少為一個,一個所述第二圖像包括一個所述待測目標,所述基于所述第二圖像,得到檢測結果的步驟,包括:
將至少一個所述第二圖像進行分類;
對至少一個類別的所述第二圖像進行評估,得到至少一個所述待測目標的檢測分值;
根據所述第二圖像與所述檢測分值,得到所述檢測結果;其中,所述檢測結果包括至少一個所述待測目標的檢測分值與所述第二映射坐標。
6.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述獲取第一圖像、標準圖像以及檢測配置文件的步驟,包括:
獲取待測產品的一維碼;
基于所述一維碼,得到所述待測產品的商品信息;
響應于成功獲取所述商品信息,獲取所述第一圖像;
基于所述商品信息,得到所述標準圖像與所述檢測配置文件。
7.根據權利要求6所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:
建立所述標準圖像與所述檢測配置文件;其中,所述檢測配置文件包括所述標準圖像內所有標準目標的位置信息;
根據預設的圖像變換類型,修改所述檢測配置文件中的可配置項。
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