[發明專利]一種染色釜在審
| 申請號: | 202111609949.8 | 申請日: | 2021-12-27 |
| 公開(公告)號: | CN114232249A | 公開(公告)日: | 2022-03-25 |
| 發明(設計)人: | 王健;楊為東;萬剛;郭堃;王大偉;劉崇波;劉紹冰;林大鵬;戴志敬;杜吉浩;王超 | 申請(專利權)人: | 青島即發集團股份有限公司 |
| 主分類號: | D06B3/09 | 分類號: | D06B3/09;D06B23/00;D06B23/04 |
| 代理公司: | 北京中知法苑知識產權代理有限公司 11226 | 代理人: | 陳俊由 |
| 地址: | 266200 山東省青島市*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 染色 | ||
本申請公開了一種染色釜,涉及紡織品印染技術領域。該染色釜包括釜體,所述釜體底部為下端開口的漏斗狀;所述釜體底部內側設有呈倒置圓臺形的整流箱,所述整流箱的外側壁靠近釜體底部內側壁且兩者之間設有間隙;所述整流箱上方設有紗籠底座,且所述整流箱頂部邊緣與紗籠底座底部密封連接;所述紗籠底座上設有若干紗柱;所述整流箱底部開口且連接進氣管,所述整流箱底部開口的直徑小于釜體底部開口的直徑,所述釜體底部開口處連接出氣管;所述進氣管嵌入出氣管中而不互通。本申請從根本上解決染色釜內流量分配不均的問題,以實現染色釜內上下的待染物無色差。
技術領域
本申請涉及紡織品印染技術領域,具體涉及一種染色釜。
背景技術
超臨界CO2流體染色技術是一種新型的不用水作介質的無污染的染色工藝。在染色過程中,將染料溶解在超臨界CO2流體中,溶解的染料隨染液的流動逐漸靠近纖維界面,染料被纖維表面吸附,在纖維內外產生一個濃度差或者內外染料化學位差,染料向纖維內部擴散轉移。由于超臨界CO2流體染色技術無需化學助劑,無污水排放,且染料可重復使用,上染速度快,均染和透染性能好,染色的重現性好,因此對印染行業可持續發展具有重要意義。
超臨界CO2流體染色裝備在染色時,CO2流體通過循環泵的作用在系統中循環流動,將染料釜中的染料攜帶至染色釜中的待染物上,完成上染。循環泵在工作時,葉輪旋轉導致循環泵進、出口存在壓力差,導致染色釜內流量分配不均。與循環泵進口相連接的染色釜出口處吸力較大,導致流經離染色釜出口較近的待染物的流量大,該處的待染物獲得的染料多,顏色相對較深。超臨界CO2流體染色裝備的常規染色釜一般為下進上出,因此流經染色釜下部待染物的流量小,流經染色釜上部待染物的流量大,導致待染物上下存在色差。
目前超臨界CO2流體染色裝備普遍存在流量分配不均的問題,盡管已有相關技術通過控制調節循環泵流量和揚程來改善流量分配不均的問題,但效果甚微,并未從根本上解決。
發明內容
本申請實施例通過提供一種染色釜,從根本上解決常規染色釜內流量分配不均的問題,可以實現染色釜內上下的待染物無色差。
為達到上述目的,本申請主要提供如下技術方案:
本申請實施例提供了一種染色釜,所述染色釜包括釜體,所述釜體底部為下端開口的漏斗狀;
所述釜體底部內側設有呈倒置圓臺形的整流箱,所述整流箱的外側壁靠近釜體底部內側壁且兩者之間設有間隙;所述整流箱上方設有紗籠底座,且所述整流箱頂部邊緣與紗籠底座底部密封連接;所述紗籠底座上設有若干紗柱;
所述整流箱底部開口且連接進氣管,所述整流箱底部開口的直徑小于釜體底部開口的直徑,所述釜體底部開口處連接出氣管;所述進氣管嵌入出氣管中而不互通。
優選地,所述紗籠底座上開有若干進氣孔,所述紗柱為頂端封閉、底端開口且內部中空的管狀,所述紗柱側壁上設有多個透氣微孔,所述紗柱底端在進氣孔處與紗籠底座密封連接,以使紗籠底座下方與紗柱內部相通。
優選地,所述紗籠底座上設有多個進氣孔,且紗柱的數量與進氣孔的數量相同。
優選地,所述整流箱內設有若干層水平放置的均流板,且均流板上設有多個分流孔。
優選地,所述均流板為多層時,均流板上分流孔的直徑從下至上依次減小。
優選地,所述均流板邊緣設有氟橡膠墊圈。
優選地,所述整流箱底部開口與進氣管為密封可活動連接,所述整流箱的高度可調。
優選地,所述整流箱底部開口與進氣管為螺紋連接。
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