[發(fā)明專利]劃片機(jī)多序列晶圓切割方法、系統(tǒng)、智能終端及存儲(chǔ)介質(zhì)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202111573089.7 | 申請(qǐng)日: | 2021-12-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114361066A | 公開(公告)日: | 2022-04-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊云龍;呂孝袁;李鋮 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江蘇京創(chuàng)先進(jìn)電子科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67;H01L21/66 |
| 代理公司: | 北京維正專利代理有限公司 11508 | 代理人: | 何爽 |
| 地址: | 215500 江蘇省蘇州市*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 劃片 序列 切割 方法 系統(tǒng) 智能 終端 存儲(chǔ) 介質(zhì) | ||
1.一種劃片機(jī)多序列晶圓切割方法,其特征在于,所述方法包括以下步驟:
獲取待加工的產(chǎn)品序列,所述產(chǎn)品序列至少包括待加工產(chǎn)品的尺寸信息以及各個(gè)尺寸對(duì)應(yīng)的產(chǎn)品數(shù);
獲取晶圓圖像,在所述晶圓圖像上建立以晶圓圓心為坐標(biāo)原點(diǎn)的二維坐標(biāo)系,基于所述產(chǎn)品序列在二維坐標(biāo)系上生成待加工產(chǎn)品的分布陣列;
基于所述分布陣列獲取切割指令集,所述切割指令至少包括切割路徑以及步距序列;
基于所述切割指令集控制切割設(shè)備執(zhí)行晶圓切割。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種劃片機(jī)多序列晶圓切割方法,其特征在于,所述產(chǎn)品序列還包括:不同尺寸的所述待加工產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的生產(chǎn)優(yōu)先級(jí)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種劃片機(jī)多序列晶圓切割方法,其特征在于:所述獲取晶圓圖像,在所述晶圓圖像上建立以晶圓圓心為坐標(biāo)原點(diǎn)的二維坐標(biāo)系,基于所述產(chǎn)品序列在二維坐標(biāo)系上生成待加工產(chǎn)品的分布陣列包括:
獲取晶圓圖像,在所述晶圓圖像上建立以晶圓圓心為坐標(biāo)原點(diǎn)的二維坐標(biāo)系,所述二維坐標(biāo)系包括第一坐標(biāo)軸以及與第一坐標(biāo)軸垂直的第二坐標(biāo)軸;
獲取所述晶圓圖像沿第一坐標(biāo)軸的第一直徑,以及沿第二坐標(biāo)軸的第二直徑;
當(dāng)?shù)谝恢睆脚c第二直徑相等時(shí),則基于所述產(chǎn)品序列在二維坐標(biāo)系上生成待加工產(chǎn)品的分布陣列。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種劃片機(jī)多序列晶圓切割方法,其特征在于:所述基于所述產(chǎn)品序列在二維坐標(biāo)系上生成待加工產(chǎn)品的分布陣列包括:
解析所述產(chǎn)品序列,獲取不同尺寸的待加工產(chǎn)品的尺寸信息以及對(duì)應(yīng)的產(chǎn)品數(shù);
將相同尺寸的所述待加工產(chǎn)品整合并排列為若干個(gè)切割域,每個(gè)所述切割域內(nèi)僅包括同一尺寸的產(chǎn)品;
以所述二維坐標(biāo)系的坐標(biāo)原點(diǎn)為中心排列切割域,基于排列后的切割域獲取待加工產(chǎn)品的分布陣列。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種劃片機(jī)多序列晶圓切割方法,其特征在于:所述獲取晶圓圖像,在所述晶圓圖像上建立以晶圓圓心為坐標(biāo)原點(diǎn)的二維坐標(biāo)系,基于所述產(chǎn)品序列在二維坐標(biāo)系上生成待加工產(chǎn)品的分布陣列包括:
若所述晶圓圖像上無法容納產(chǎn)品序列中的所有待加工產(chǎn)品,則基于所述待加工產(chǎn)品的生產(chǎn)優(yōu)先級(jí),優(yōu)先排列所述生產(chǎn)優(yōu)先級(jí)高的待加工產(chǎn)品。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種劃片機(jī)多序列晶圓切割方法,其特征在于:所述基于所述切割指令集控制切割設(shè)備執(zhí)行晶圓切割之后,還包括:
按照預(yù)設(shè)的周期獲取所述切割設(shè)備的作業(yè)數(shù)據(jù);
將所述作業(yè)數(shù)據(jù)與切割指令集對(duì)照;
若所述作業(yè)數(shù)據(jù)與切割指令集偏離,則糾正切割設(shè)備并記錄偏離數(shù)據(jù)。
7.一種劃片機(jī)多序列晶圓切割系統(tǒng),其特征在于,所述系統(tǒng)包括:
序列獲取模塊(1),用于獲取待加工的產(chǎn)品序列,所述產(chǎn)品序列至少包括待加工產(chǎn)品的尺寸信息以及各個(gè)尺寸對(duì)應(yīng)的產(chǎn)品數(shù);
序列分布模塊(2),用于獲取晶圓圖像,在所述晶圓圖像上建立以晶圓圓心為坐標(biāo)原點(diǎn)的二維坐標(biāo)系,基于所述產(chǎn)品序列在二維坐標(biāo)系上生成待加工產(chǎn)品的分布陣列;
指令生成模塊(3),用于基于所述分布陣列獲取切割指令集,所述切割指令至少包括切割路徑以及步距序列;
指令執(zhí)行模塊(4),用于基于所述切割指令集控制切割設(shè)備執(zhí)行晶圓切割。
8.一種智能終端,其特征在于,所述智能終端包括處理器和存儲(chǔ)器,所述存儲(chǔ)器中存儲(chǔ)有至少一條指令、至少一段程序、代碼集或指令集,所述至少一條指令、所述至少一段程序、所述代碼集或指令集由所述處理器加載并執(zhí)行以實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1至6任一所述的一種劃片機(jī)多序列晶圓切割方法。
9.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì),其特征在于,所述存儲(chǔ)介質(zhì)中存儲(chǔ)有至少一條指令、至少一段程序、代碼集或指令集,所述至少一條指令、所述至少一段程序、所述代碼集或指令集由處理器加載并執(zhí)行以實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1至6任一所述的一種劃片機(jī)多序列晶圓切割方法。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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