[發(fā)明專利]一種墨烯導(dǎo)熱膜的制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111523307.6 | 申請日: | 2020-04-03 |
| 公開(公告)號: | CN114014305A | 公開(公告)日: | 2022-02-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 周步存;周仁杰;盧靜;唐智;蘇冬 | 申請(專利權(quán))人: | 常州富烯科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C01B32/184 | 分類號: | C01B32/184;C01B32/19;C01B32/198 |
| 代理公司: | 北京世衡知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11686 | 代理人: | 肖淑芳 |
| 地址: | 213100 江蘇省常州*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 導(dǎo)熱 制備 方法 | ||
本發(fā)明提供了一種石墨烯導(dǎo)熱膜的制備方法,包括:對氧化石墨烯膜采用火焰燒制的方法進行還原;對火焰還原處理后的氧化石墨烯進行第一壓實處理;再進行高溫?zé)徇€原;和進行第二壓實處理。本發(fā)明先采用火焰快速還原,使膜體中形成很多的毛細氣體通道,從而使得后續(xù)還原時,產(chǎn)生的氣體可以沿著形成的毛細氣體通道排出,避免了氣體積存于膜體中,可有效減少膜厚的增加。
本申請為分案申請,母案的申請?zhí)枮椋?02010257865.1,母案的申請日為:2020年04月03日,母案的發(fā)明名稱為:火焰還原氧化石墨烯膜的方法及石墨烯膜。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及石墨烯膜的制備領(lǐng)域,具體涉及由氧化石墨烯還原的方法。
背景技術(shù)
迄今為止,石墨烯導(dǎo)熱膜的制備技術(shù)中,采用氧化石墨烯定向組裝制備成氧化石墨烯膜,再經(jīng)過熱還原最終得到定向排列的石墨烯導(dǎo)熱膜,具有很高的導(dǎo)熱系數(shù),導(dǎo)熱系數(shù)≥1000W/m.K,已經(jīng)廣泛應(yīng)用在手機、電腦等電子產(chǎn)品中。
但是由于氧化石墨烯內(nèi)含氧官能團在熱還原時排出大量的氣體,形成毛細氣體通道,造成氧化石墨烯膜在熱還原的過程中厚度膨脹很厚,膨脹后的厚度是氧化石墨烯膜原膜厚度的2.2~3倍的厚度,降低了熱處理設(shè)備的產(chǎn)能,熱處理的能耗高。因此,解決或減少氧化石墨烯膜在熱還原過程中厚度膨脹,是迫不及待的具有重大意義的工作。
背景技術(shù)部分的內(nèi)容僅僅是發(fā)明人所知曉的技術(shù),并不當(dāng)然代表本領(lǐng)域的現(xiàn)有技術(shù)。
發(fā)明內(nèi)容
針對現(xiàn)有技術(shù)存在問題中的一個或多個,本發(fā)明提供一種氧化石墨烯膜的還原方法,對氧化石墨烯膜采用火焰燒制的方法進行還原。
根據(jù)本發(fā)明的一個方面,所述火焰燒制加熱的方法具體為:將氧化石墨烯膜從火焰的上面經(jīng)過,氧化石墨烯膜接觸火焰的外焰處。
根據(jù)本發(fā)明的一個方面,所述火焰的外焰處溫度為300-600℃。一般情況下,采用天烯氣的燃燒火焰,使氧化石墨烯膜中的氧化石墨膜膜體中形成毛細氣體通道。
優(yōu)選地,所述火焰的外焰處溫度為400±50℃。
根據(jù)本發(fā)明的一個方面,所述經(jīng)過的速度為0.5~5m/min。經(jīng)過速度過慢,會導(dǎo)致一直加熱已經(jīng)燒過的地方,熱量會通過傳導(dǎo)的方式傳至未被燒過的地方,這樣造成未被燒過的地方的變形,導(dǎo)致膜外觀不一致不平整;經(jīng)過速度過快,容易導(dǎo)致就是燒的不完整。經(jīng)過長期的試驗發(fā)現(xiàn),將經(jīng)過速度控制在0.5~5m/min時,可以有效的保證火焰處理的均勻性,膜外面平整度一致,且形成的毛細氣體通道大小一致性高,分布均勻。所述經(jīng)過的速度為1~2m/min時,效果較佳。
本發(fā)明還提供了一種石墨烯膜的制備方法,包括:
將氧化石墨烯膜采用上述的方法進行火焰還原處理;
再進行高溫?zé)嵩€;和
再進行壓實,得到石墨烯膜。
根據(jù)本發(fā)明的一個方面,所述高溫?zé)嵩€的溫度為2000~3000℃。
根據(jù)本發(fā)明的一個方面,所述高溫?zé)嵩€的具體方法為:將還原后的氧化石墨烯膜置于熱還原設(shè)備中,設(shè)備內(nèi)溫度從室溫逐漸升至2000~3000℃,升溫的速度為2~10℃/min。
優(yōu)選地,熱原還設(shè)備內(nèi)溫度從室溫至600℃采用2℃/min升溫速度;進一步優(yōu)選地,熱原還設(shè)備內(nèi)溫度從600℃至最終還原溫度采用4~5℃/min升溫速度。火焰還原處理后,由于氧化石墨烯上還含有大量的含氧的官能團,升溫速度過快會導(dǎo)致膜進一步的膨脹。通過反復(fù)調(diào)整和研究,火陷還原后的氧化石墨烯膜在高溫處理時,采用上述分階段的升溫,效率高,成品率高。
根據(jù)本發(fā)明的一個方面,還原后的氧化石墨烯膜在2000~3000℃下恒溫處理45-80min。
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