[發明專利]一種制氧設備的控制方法、控制設備及控制系統在審
| 申請號: | 202111519084.6 | 申請日: | 2021-12-13 |
| 公開(公告)號: | CN114326874A | 公開(公告)日: | 2022-04-12 |
| 發明(設計)人: | 高哲亮;何偉;劉長蕊;莊志 | 申請(專利權)人: | 天津怡和嘉業醫療科技有限公司 |
| 主分類號: | G05D27/02 | 分類號: | G05D27/02;B01D53/02 |
| 代理公司: | 北京潤澤恒知識產權代理有限公司 11319 | 代理人: | 蘇培華 |
| 地址: | 301700 天津市*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 設備 控制 方法 控制系統 | ||
1.一種制氧設備的控制方法,其特征在于,應用于控制設備,所述控制設備與所述制氧設備連接,所述制氧設備包括儲氧罐、第一電磁閥和第二電磁閥,所述方法包括:
獲取所述儲氧罐內的氧氣壓力;
在所述氧氣壓力超出預設氧氣壓力范圍的情況下,確定所述第一電磁閥對應的第一目標控制參數,和/或,確定所述第二電磁閥對應的第二目標控制參數;其中,所述第一電磁閥用于將空氣導入所述制氧設備、將廢氣導出所述制氧設備,所述第二電磁閥用于將氧氣導入至所述儲氧罐;
將所述第一電磁閥對應的第一控制參數調整為所述第一目標控制參數,和/或,將所述第二電磁閥對應的第二控制參數調整為所述第二目標控制參數,以使所述儲氧罐內的氧氣壓力在所述預設氧氣壓力范圍內,其中,所述第一控制參數為所述第一電磁閥對應的實際控制參數,所述第二控制參數為所述第二電磁閥對應的實際控制參數。
2.根據權利要求1所述的制氧設備的控制方法,其特征在于,在確定所述第一電磁閥對應的第一目標控制參數,和/或,確定所述第二電磁閥對應的第二目標控制參數之前,所述方法還包括:
確定所述第一電磁閥對應的第一控制參數和/或所述第二電磁閥對應的第二控制參數。
3.根據權利要求2所述的制氧設備的控制方法,其特征在于,所述制氧設備還包括出氣端口,所述確定所述第一電磁閥對應的第一控制參數和/或所述第二電磁閥對應的第二控制參數,包括:
獲取所述出氣端口的氧氣流速;
根據所述氧氣流速和預設流速-控制參數集對應關系,確定與所述氧氣流速對應的控制參數集,其中,所述控制參數集包括所述第一控制參數和所述第二控制參數。
4.根據權利要求1所述的制氧設備的控制方法,其特征在于,所述控制設備包括:氧氣壓力檢測模塊,其中,所述氧氣壓力檢測模塊與設置在所述儲氧罐上的壓力傳感器連接;
所述獲取所述儲氧罐內的氧氣壓力,包括:
獲取所述氧氣壓力檢測模塊通過所述壓力傳感器檢測到的所述儲氧罐內的所述氧氣壓力。
5.根據權利要求3所述的制氧設備的控制方法,其特征在于,所述控制設備包括:氧氣流速檢測模塊,其中,所述氧氣流速檢測模塊與設置在所述出氣端口上的流速傳感器連接;
所述獲取所述出氣端口的氧氣流速,包括:
獲取所述氧氣流速檢測模塊通過所述流速傳感器檢測到的所述出氣端口的所述氧氣流速。
6.根據權利要求1、4或5所述的制氧設備的控制方法,其特征在于,所述控制設備包括:電磁閥控制模塊,所述電磁閥控制模塊分別與所述第一電磁閥和所述第二電磁閥連接;
所述將所述第一電磁閥對應的第一控制參數調整為所述第一目標控制參數,和/或,將所述第二電磁閥對應的第二控制參數調整為所述第二目標控制參數,包括:
根據所述第一目標控制參數,向所述電磁閥控制模塊發送第一控制指令,控制所述電磁閥控制模塊根據所述第一目標控制參數調整所述第一電磁閥對應的控制參數,以調整所述第一電磁閥的工作狀態;和/或
根據所述第二目標控制參數,向所述電磁閥控制模塊發送第二控制指令,控制所述電磁閥控制模塊根據所述第二目標控制參數調整所述第二電磁閥對應的控制參數,以調整所述第二電磁閥的工作狀態。
7.根據權利要求1所述的制氧設備的控制方法,其特征在于,所述在所述氧氣壓力超出預設氧氣壓力范圍的情況下,確定所述第一電磁閥對應的第一目標控制參數,和/或,確定所述第二電磁閥對應的第二目標控制參數,包括:
在所述氧氣壓力大于所述預設氧氣壓力范圍的上限值時,確定所述第一目標控制參數和所述第二目標控制參數;或者
在所述氧氣壓力小于所述預設氧氣壓力范圍的下限值時,確定所述第一目標控制參數和所述第二目標控制參數。
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