[發(fā)明專利]確定2DEG濃度沿柵寬分布的方法及系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202111495770.4 | 申請(qǐng)日： | 2021-12-08 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN114414553B | 公開（公告）日： | 2023-03-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 陳雷雷;閆大為;顧曉峰 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 無錫芯鑒半導(dǎo)體技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G01N21/66 | 分類號(hào)： | G01N21/66 |
| 代理公司： | 蘇州市中南偉業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32257 | 代理人： | 李柏柏 |
| 地址： | 214000 江蘇省無錫*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 確定 deg 濃度 沿柵寬 分布 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種確定2DEG濃度沿柵寬分布的方法，其特征在于，包括以下步驟：
S1：利用器件的
S2：在所述器件的柵極施加不等的電壓來調(diào)節(jié)器件的電致發(fā)光強(qiáng)度，獲取不等柵壓下的器件發(fā)光圖，所述不等柵壓的范圍為從器件的截止電壓到積累區(qū)最大電壓；
S3：根據(jù)器件發(fā)光圖得到不等柵壓下電致發(fā)光強(qiáng)度沿柵極寬邊的分布狀態(tài)，基于電致發(fā)光強(qiáng)度沿柵極寬邊的分布狀態(tài)計(jì)算得到總光強(qiáng)隨柵壓的變化關(guān)系，并確定某一柵壓下沿柵極寬邊的總光強(qiáng)和2DEG總濃度，得到單位光強(qiáng)下的2DEG濃度；
S4：基于所述單位光強(qiáng)下的2DEG濃度和電致發(fā)光強(qiáng)度計(jì)算得到沿柵極寬邊分布的2DEG濃度，包括通過單位光強(qiáng)下的2DEG 濃度和電致發(fā)光強(qiáng)度的乘積得到沿柵極寬邊分布的2DEG濃度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的確定2DEG濃度沿柵寬分布的方法，其特征在于：所述電致發(fā)光強(qiáng)度沿柵極寬邊的分布狀態(tài)包括電致發(fā)光強(qiáng)度沿柵極寬邊的分布曲線及其分布式。
3.一種確定2DEG濃度沿柵寬分布的系統(tǒng)，其特征在于，包括：
2DEG總濃度計(jì)算模塊，所述2DEG總濃度計(jì)算模塊用于利用器件的
器件發(fā)光圖獲取模塊，所述器件發(fā)光圖獲取模塊用于在所述器件的柵極施加不等的電壓來調(diào)節(jié)器件的電致發(fā)光強(qiáng)度，獲取不等柵壓下的器件發(fā)光圖，所述不等柵壓的范圍為從器件的截止電壓到積累區(qū)最大電壓；
2DEG單位濃度計(jì)算模塊，所述2DEG單位濃度計(jì)算模塊用于根據(jù)器件發(fā)光圖得到不等柵壓下電致發(fā)光強(qiáng)度沿柵極寬邊的分布狀態(tài)，基于電致發(fā)光強(qiáng)度沿柵極寬邊的分布狀態(tài)計(jì)算得到總光強(qiáng)隨柵壓的變化關(guān)系，并確定某一柵壓下沿柵極寬邊的總光強(qiáng)和2DEG總濃度，得到單位光強(qiáng)下的2DEG濃度；
2DEG濃度分布計(jì)算模塊，所述2DEG濃度分布計(jì)算模塊用于基于所述單位光強(qiáng)下的2DEG濃度和電致發(fā)光強(qiáng)度計(jì)算得到沿柵極寬邊分布的2DEG濃度，所述2DEG濃度分布計(jì)算模塊包括2DEG濃度分布計(jì)算單元，所述2DEG濃度分布計(jì)算單元用于通過單位光強(qiáng)下的2DEG濃度和電致發(fā)光強(qiáng)度的乘積得到沿柵極寬邊分布的2DEG濃度。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的確定2DEG濃度沿柵寬分布的系統(tǒng)，其特征在于：所述器件發(fā)光圖獲取模塊包括：
電壓施加單元，所述電壓施加單元用于在所述器件的柵極施加不等的電壓來調(diào)節(jié)器件的電致發(fā)光強(qiáng)度，其中所述不等柵壓的范圍為從器件的截止電壓到積累區(qū)最大電壓。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段，即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā)，因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng)，測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
