[發明專利]二維碼檢測裝置

在審

• 申請號: 202111494880.9
• 申請日: 2021-12-08
• 公開（公告）號: CN114139562A
• 公開（公告）日: 2022-03-04
• 發明（設計）人: 李睿宇;朱佩佩;黃智成
• 申請（專利權）人: 深圳思謀信息科技有限公司;北京思謀智能科技有限公司
• 主分類號: G06K7/10
• 分類號: G06K7/10
• 代理公司: 華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 王秀君

1.一種二維碼檢測裝置，用于檢測樣品上的二維碼，所述樣品包括相背的第一側和第二側，其特征在于，所述二維碼檢測裝置包括：

光源模組，所述光源模組發射的光線能夠從所述第一側照射所述樣品；

散射模組，設于所述樣品的第二側，所述散射模組能夠將透過所述樣品的光線反射形成散射光；以及

圖像傳感元件，用于獲取透過所述樣品的散射光。

2.根據權利要求1所述的二維碼檢測裝置，其特征在于，所述光源模組包括發光光源以及反射板組件，所述發光光源發射的光線在所述反射板組件上發生至少一次反射后照射所述樣品。

3.根據權利要求2所述的二維碼檢測裝置，其特征在于，所述反射板組件包括第一反射板和第二反射板，所述第一反射板設于所述發光光源的出光側，所述第二反射板設于所述樣品的第一側，所述第一反射板與所述第二反射板相對。

4.根據權利要求3所述的二維碼檢測裝置，其特征在于，所述發光光源設于所述第二反射板及所述樣品之間，所述第一反射板設于所述樣品的第二側；

和/或，所述第一反射板傾斜于所述發光光源的出光方向，所述第一反射板平行于所述第二反射板。

5.根據權利要求3所述的二維碼檢測裝置，其特征在于，所述發光光源還包括背向所述出光側的背側，所述圖像傳感元件設于所述發光光源的背側。

6.根據權利要求2所述的二維碼檢測裝置，其特征在于，所述發光光源為同軸光源。

7.根據權利要求1-6任一項所述的二維碼檢測裝置，其特征在于，所述散射模組包括轉盤以及設于所述轉盤上的反射膜，所述轉盤能夠驅使所述反射膜旋轉。

8.根據權利要求7所述的二維碼檢測裝置，其特征在于，所述反射膜包括散射層，所述散射層包括呈陣列排布的多個微結構，且每個所述微結構包括至少兩個相互傾斜的反射面。

9.根據權利要求8所述的二維碼檢測裝置，其特征在于，所述反射膜還包括在所述樣品指向所述反射膜的方向上依次排布的增透膜層、反射層以及吸光層，所述反射層的反射率大于或等于70％，所述散射層設于所述增透膜層和所述反射層之間。

10.根據權利要求1-6任一項所述的二維碼檢測裝置，其特征在于，還包括治具模組，所述治具模組包括固定件與定位件，所述固定件用于固定所述樣品，所述定位件設于所述樣品的周側，且所述定位件具有朝向所述樣品的定位面，所述定位面與所述樣品的形狀相適應。