[發(fā)明專利]鍍敷裝置及鍍敷方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202111455081.0
• 申請日: 2021-12-01
• 公開（公告）號: CN114606555A
• 公開（公告）日: 2022-06-10
• 發(fā)明（設計）人: 富田正輝;關正也;下山正;張紹華
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社荏原制作所
• 主分類號: C25D17/00
• 分類號: C25D17/00;C25D17/06;C25D21/10;C25D7/00;C25D7/12
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 康曉宇

1.一種鍍敷裝置，其特征在于，包括：

鍍敷槽，其用于收容鍍敷液；

陽極，其配置于所述鍍敷槽內(nèi)；

基板保持架，其用于以將被鍍敷面朝向下方的狀態(tài)保持基板；

旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，其用于使所述基板保持架旋轉(zhuǎn)；以及

遮蔽機構(gòu)，其與所述基板保持架的旋轉(zhuǎn)角度相對應地使遮蔽部件向所述陽極與所述基板之間移動，

所述遮蔽機構(gòu)包括：

凸輪部件；

旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)，其構(gòu)成為使所述凸輪部件旋轉(zhuǎn)；以及

從動部件，其構(gòu)成為伴隨著所述凸輪部件的旋轉(zhuǎn)而將所述遮蔽部件向所述陽極與所述基板之間的遮蔽位置推出。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍敷裝置，其特征在于，

所述凸輪部件具有：構(gòu)成為利用所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)進行旋轉(zhuǎn)的凸輪主體、和安裝于所述凸輪主體的轉(zhuǎn)子，

所述從動部件包括從動滑動件，所述從動滑動件具有供所述轉(zhuǎn)子嵌入的凸輪槽，并且構(gòu)成為通過伴隨著所述凸輪主體的旋轉(zhuǎn)的來自所述轉(zhuǎn)子的按壓，而使所述遮蔽部件在所述遮蔽位置、和遠離所述陽極與所述基板之間的退避位置之間直動。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍敷裝置，其特征在于，

所述遮蔽機構(gòu)還包括卷繞于第一帶輪及第二帶輪的帶，

所述凸輪部件包括連結(jié)于所述第二帶輪的偏心凸輪部件，

所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)構(gòu)成為，通過使所述第一帶輪旋轉(zhuǎn)而使所述偏心凸輪部件旋轉(zhuǎn)，

所述從動部件包括從動凸輪部件，所述從動凸輪部件構(gòu)成為與被所述偏心凸輪部件的突起按壓相對應地將所述遮蔽部件向所述遮蔽位置推出。

4.一種鍍敷裝置，其特征在于，包括：

鍍敷槽，其用于收容鍍敷液；

陽極，其配置于所述鍍敷槽內(nèi)；

基板保持架，其用于以使被鍍敷面朝向下方的狀態(tài)保持基板；以及

旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，其用于使所述基板保持架旋轉(zhuǎn)；以及

遮蔽機構(gòu)，其與所述基板保持架的旋轉(zhuǎn)角度相對應地使遮蔽部件向所述陽極與所述基板之間移動，

所述遮蔽機構(gòu)包括直動驅(qū)動機構(gòu)，所述直動驅(qū)動機構(gòu)構(gòu)成為使所述遮蔽部件在所述陽極與所述基板之間的遮蔽位置、和遠離所述陽極與所述基板之間的退避位置之間直動。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍敷裝置，其特征在于，

所述遮蔽部件具有掩膜部件，所述掩膜部件具有與圓板形狀的基板的周緣部的一部分對應的圓弧形狀。

6.一種鍍敷裝置，其特征在于，包括：

鍍敷槽，其用于收容鍍敷液；

陽極，其配置于所述鍍敷槽內(nèi)；

基板保持架，其用于以將被鍍敷面朝向下方的狀態(tài)保持基板；

旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，其用于使所述基板保持架旋轉(zhuǎn)；

膜厚傳感器，其構(gòu)成為測定所述基板的鍍敷膜厚；以及

遮蔽機構(gòu)，其構(gòu)成為基于利用所述膜厚傳感器測定出的所述基板的鍍敷膜厚而使遮蔽部件向所述陽極與所述基板之間的遮蔽位置移動。

7.一種鍍敷方法，其特征在于，包括如下步驟：

使以將被鍍敷面朝向下方的狀態(tài)保持基板的基板保持架在鍍敷槽內(nèi)下降的下降步驟；

使所述基板保持架旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)步驟；

測定所述基板的鍍敷膜厚的測定步驟；

基于利用所述測定步驟測定出的所述基板的鍍敷膜厚而使遮蔽部件向所述陽極與所述基板之間移動的遮蔽步驟；以及

在配置于所述鍍敷槽內(nèi)的陽極與保持于所述基板保持架的基板之間施加電壓，由此對所述被鍍敷面實施鍍敷處理的鍍敷步驟。