[發明專利]含二茂鈷陽離子側基的聚硫醚緩蝕劑的制備方法及使用緩蝕劑體系有效
| 申請號: | 202111350308.5 | 申請日: | 2021-11-15 |
| 公開(公告)號: | CN113861422B | 公開(公告)日: | 2023-09-19 |
| 發明(設計)人: | 閆毅;劉爽;顏靜;蔡寧靜;石朝陽;張軍平 | 申請(專利權)人: | 西北工業大學 |
| 主分類號: | C08G75/045 | 分類號: | C08G75/045;C09D5/08;C09D181/02 |
| 代理公司: | 西安凱多思知識產權代理事務所(普通合伙) 61290 | 代理人: | 王鮮凱 |
| 地址: | 710072 *** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 含二茂鈷 陽離子 聚硫醚緩蝕劑 制備 方法 使用 緩蝕劑 體系 | ||
1.一種含二茂鈷陽離子側基的聚硫醚緩蝕劑的制備方法,其特征在于步驟如下:
步驟1:將含羥基的二烯單體溶于二氯甲烷中,在氮氣氛圍、冰浴條件下依次加入1-3份三乙胺,2-6份甲烷磺酸酐,0.5-1份4-二甲氨基吡啶,低溫反應1-4h,再室溫反應24-48h;
加水淬滅反應,加入二氯甲烷萃取分液,除去有機相,通過柱分離純化得到含甲基磺酸酯的二烯單體;
步驟2:將含甲基磺酸酯的二烯單體和等摩爾量二硫醇置于小瓶中,加入0.01-0.05份光引發劑,365nm紫外光照0.5-2h;用四氫呋喃溶解反應得到的產物,在甲醇中沉淀兩次得到含甲基磺酸酯側基的聚硫醚;
步驟3:將含甲基磺酸酯側基的聚硫醚溶解在N,N-二甲基甲酰胺中,加入5-10份疊氮化鈉,50-70℃反應24-48h,通過減壓蒸餾除去N,N-二甲基甲酰胺,加入二氯甲烷萃取分液,旋蒸有機相得到粗產物;將粗產物在水中沉淀兩次得到含疊氮側基的聚硫醚;
步驟4:將含有疊氮側基的聚硫醚和1-1.5份乙炔基二茂鈷六氟磷酸鹽溶解在15-25mL四氫呋喃、水和N,N-二甲基甲酰胺混合溶劑中,再加入1-1.5份的硫酸銅溶液,隨后加入2-3份1mol/L抗壞血酸鈉溶液,在30-80℃反應24-48h;
反應結束后,加入1-3mL氨水攪拌10-30min,旋蒸除去四氫呋喃,減壓蒸餾除去N,N-二甲基甲酰胺和水,將粗產物用少量乙腈溶解,在乙醚中沉淀兩次得到X-=PF6-的含二茂鈷鎓離子側基的聚硫醚的緩蝕劑;
所述四氫呋喃、水和N,N-二甲基甲酰胺的體積比為3︰2︰1;
步驟5:將X-=PF6-的含二茂鈷鎓離子側基的聚硫醚溶于乙腈充分攪拌溶解得到溶液A,將不同陰離子的四丁基銨水合物1~5份溶于乙腈中得到溶液B,將得到的溶液A逐滴滴入溶液B中,立即產生相分離,收集沉淀,乙腈多次超聲清洗,干燥得到相應陰離子抗衡的聚硫醚型緩蝕劑;
當步驟1中含羥基的二烯單體采用1,6-庚二烯-4-醇時,步驟4得到的X-=PF6-的含二茂鈷鎓離子側基的聚硫醚的緩蝕劑的結構式為:
m=20-50;
步驟5得到該結構式相對應的不同陰離子的聚硫醚型緩蝕劑,其中:X-=Cl-,Br-,I-,OH-;
當步驟1中含羥基的二烯單體采用1,7-辛二烯-4,5-二醇時,步驟4得到的X-=PF6-的含二茂鈷鎓離子側基的聚硫醚的緩蝕劑的結構式為:
m=20-50;
在步驟5得到該結構式相對應的不同陰離子的聚硫醚型緩蝕劑,其中:X-=Cl-,Br-,I-,OH-;
當步驟1中含羥基的二烯單體采用二烯丙基丙二醇時,步驟4得到的X-=PF6-的含二茂鈷鎓離子側基的聚硫醚的緩蝕劑的結構式為:
m=20-50;
在步驟5得到該結構式相對應的不同陰離子的聚硫醚型緩蝕劑,其中:X-=Cl-,Br-,I-,OH-。
2.根據權利要求1所述含二茂鈷陽離子側基的聚硫醚緩蝕劑的制備方法,其特征在于:所述1,7-辛二烯-4,5-二醇的制備方法:將1-3份烯丙基溴和1-5份碘化鉀和1-3份氯化亞錫水合物依次溶于10-30mL水中置于圓底燒瓶,將1-3份乙二醛溶于5-10mL水中并逐滴滴入上述圓底燒瓶中,室溫反應24-48h,加入5-20mL?1M?HCl溶液,加入乙酸乙酯萃取分液三次,加入適量硫代硫酸鈉水合物進行脫色,再用乙酸乙酯萃取分液一次,除去有機相,干燥得到1,7-辛二烯-4,5-二醇。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于西北工業大學,未經西北工業大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202111350308.5/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





