[發明專利]光敏鐵電聚合物復合薄膜及其制備方法以及使用該復合薄膜的鐵電器件或壓電器件有效
| 申請號： | 202111289976.1 | 申請日： | 2021-11-02 |
| 公開（公告）號： | CN113801413B | 公開（公告）日： | 2022-08-09 |
| 發明（設計）人： | 王瑤;黃辰;張凌宇;成子巍;鄧元 | 申請（專利權）人： | 北京航空航天大學 |
| 主分類號： | C08L27/16 | 分類號： | C08L27/16;C08K5/17;C08J5/18;H01L41/18;H01L41/37 |
| 代理公司： | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 劉新宇;李茂家 |
| 地址： | 100191*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光敏 聚合物 復合 薄膜 及其 制備 方法 以及 使用 器件 壓電 | ||
1.一種復合薄膜，其特征在于，包括：
有機柔性聚合物基體，和
無機-有機雜化鈣鈦礦填料顆粒，
其中，所述填料顆粒的含量相對于所述復合薄膜的總質量為1質量％～5質量％，所述填料顆粒以單分散狀態存在于所述基體中，
所述基體選自由PVDF-HFP、PVDF-BTFE組成的組中的一種或兩種，
所述填料顆粒為由ABX3表示的化合物，其中，
A為有機陽離子，其選自CH3NH3+、CH(NH2)2+、C4H12N+、C16H36N+中的一種或兩種以上的組合，
B為金屬陽離子，其選自Pb2+、Sn2+中的一種或兩種的組合，和
X為鹵素離子，其選自Cl-、Br-、I-中的一種或兩種以上的組合。
2.根據權利要求1所述的復合薄膜，其特征在于，所述基體和所述填料顆粒二者均是結晶性的。
3.根據權利要求1或2所述的復合薄膜，其特征在于，所述有機陽離子為CH3NH3+或CH(NH2)2+。
4.根據權利要求1或2所述的復合薄膜，其特征在于，所述金屬陽離子為Pb2+。
5.根據權利要求1或2所述的復合薄膜，其特征在于，所述填料顆粒的平均粒徑為5～20nm。
6.根據權利要求1或2所述的復合薄膜，其特征在于，所述填料顆粒的平均粒徑為8～15nm。
7.根據權利要求1或2所述的復合薄膜，其特征在于，所述復合薄膜的厚度為5～20μm。
8.根據權利要求1或2所述的復合薄膜，其特征在于，所述復合薄膜的厚度為8～15μm。
9.根據權利要求1或2所述的復合薄膜，其特征在于，所述復合薄膜的厚度為10～12μm。
10.一種器件，其特征在于，其為鐵電器件或壓電器件，所述器件包括根據權利要求1～9中任一項所述的復合薄膜。
11.根據權利要求10所述的器件，其特征在于，其為光敏的。
12.一種根據權利要求1～9中任一項所述的復合薄膜用于鐵電器件或壓電器件的用途。
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