[發明專利]一種ALD設備用下裝濾芯式二次過濾器有效
| 申請號: | 202111259256.0 | 申請日: | 2021-10-28 |
| 公開(公告)號: | CN113856343B | 公開(公告)日: | 2023-04-07 |
| 發明(設計)人: | 楊永遠;李陽;李萬朋;段世飛;李博;李巖;尹嘉琦;孔奕人;高暢 | 申請(專利權)人: | 連城凱克斯科技有限公司 |
| 主分類號: | B01D46/24 | 分類號: | B01D46/24;B01D46/88;B01D46/62 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 ald 備用 下裝 濾芯式 二次 過濾器 | ||
本發明屬于ALD鍍膜設備技術領域,具體的說是一種ALD設備用下裝濾芯式二次過濾器,包括復濾濾芯,所述復濾濾芯下端套接有密封圈,所述密封圈下端卡接有支架,所述支架外部固定有壓板,所述壓板內部卡接有端蓋,所述復濾濾芯外部設置有過濾罐體,所述過濾罐體頂端貫通連接有進氣管,所述支架一側貫通連接有角閥,所述角閥下端貫通連接有真空泵;本發明通過將濾芯旋轉卡在過濾罐體上,再通過端蓋將支架和濾芯壓緊,使密封圈貼合,保證端面密封,這樣真空泵開啟時,氣體經過一次過濾后,帶剩余粉塵進入下裝濾芯式二次過濾器,去除大部分粉塵,再經過角閥,進入真空泵,保護了真空泵的穩定運行,節省了安裝空間,達到二次過濾的效果。
技術領域
本發明屬于ALD鍍膜設備技術領域,具體的說是一種ALD設備用下裝濾芯式二次過濾器。
背景技術
ALD設備即原子層沉積鍍膜設備,其可以在金屬的表面鍍覆一層單層原子厚度的薄膜,鍍膜的精度十分的高,是十分先進的納米級表面處理技術,目前ALD設備已經廣泛的應用在了半導體集成電路領域。
現有ALD設備的過濾器濾芯主要采用水平方式和由上而下安裝濾芯的方式,一級過率不能完全過濾粉塵,容易造成真空泵卡死,而增加二級過濾在管路上,保持水平和由上而下安裝濾芯的方式都需要很大空間,管路相對彎頭很多,造成設備占用空間大,要求更換濾芯空間也比較大,而且這兩種安裝方式對于清理過濾罐體內的沉積粉塵不是很方便。
為此,本發明提供一種ALD設備用下裝濾芯式二次過濾器。
發明內容
為了彌補現有技術的不足,解決背景技術中所提出的至少一個技術問題。
本發明解決其技術問題所采用的技術方案是:本發明所述的一種ALD設備用下裝濾芯式二次過濾器,包括復濾濾芯,所述復濾濾芯下端套接有密封圈,所述密封圈下端卡接有支架,所述支架外部固定有壓板,所述壓板內部卡接有端蓋,所述復濾濾芯外部設置有過濾罐體,所述過濾罐體頂端貫通連接有進氣管,所述支架一側貫通連接有角閥,所述角閥下端貫通連接有真空泵;工作時,將復濾濾芯卡接在過濾罐體上,隨后再將支架卡接在復濾濾芯的底部,再通過端蓋將支架與復濾濾芯壓緊,使得密封圈貼合,隨后再通過壓板將端蓋壓緊固定,從而保證了端面的密封,如此便完成了濾芯的安裝,在需要更換濾芯的時候,松開壓板,打開端蓋,分別將支架與復濾濾芯旋轉取下,從而實現了快速安裝與快速拆卸更換的效果,同時通過下裝的方式也節省了安裝空間,而在真空泵開啟時,氣體經過一次過濾后,經過進氣管帶著剩余的粉塵進入到下裝濾芯式二次過濾器,此時氣體率先進入過濾罐體內,隨后經過復濾濾芯復濾掉氣體中的剩余粉塵后,凈化后的氣體進入到支架內,再經由支架經過角閥進入到真空泵內,從而達到了可二次過濾去除氣體中的粉塵,防止真空泵被卡死,達到了提高真空泵運行穩定性的效果,而在需要更換復濾濾芯時,此時僅需要關掉角閥即可,無需停泵便可以更換濾芯。
優選的,所述復濾濾芯頂端規定有安裝架,所述安裝架內部轉動連接有支撐環,所述支撐環外部固定有連接座,所述連接座頂端固定有限位柱,所述限位柱內部滑動連接有滑動塊,所述滑動塊遠離安裝架的一端固定有頂升桿,所述頂升桿遠離滑動塊的一端固定有卡接塊,所述滑動塊頂端轉動連接有伸縮桿,所述伸縮桿遠離滑動塊的一端與安裝架轉動連接,所述連接座外部設置有限位環,所述限位環與過濾罐體固定連接;工作時,將復濾濾芯推入至過濾罐體的內部,隨后手動轉動安裝架,安裝架在轉動后便會同時拉動伸縮桿進行轉動,而此時的連接座并不會隨之進行轉動,從而這時的伸縮桿會推動著滑動塊運動,在安裝時員工應該逆時針進行轉動,這時的伸縮桿會推動滑動塊在限位柱內向著遠離安裝架的方向滑動,滑動塊滑動從而推動頂升桿滑動,頂升桿運動進而帶動卡接塊運動,直至卡接塊與限位環相接觸,這樣便可在拆卸的過程中,復濾濾芯不會掉落,只要分別將它們旋轉取下來就可以了,簡單方便,且安裝過程也并不繁瑣,從而達到了便于安裝拆卸的效果,進一步的提高了實用性。
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