[發(fā)明專利]一種基于硅載板的芯片模塊高密度互連方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111188602.0 | 申請日: | 2021-10-12 |
| 公開(公告)號: | CN113948508A | 公開(公告)日: | 2022-01-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐藝軒;章飚;張楠;朱琳;曾永紅;朱天成 | 申請(專利權(quán))人: | 天津津航計(jì)算技術(shù)研究所 |
| 主分類號: | H01L27/02 | 分類號: | H01L27/02 |
| 代理公司: | 中國兵器工業(yè)集團(tuán)公司專利中心 11011 | 代理人: | 周恒 |
| 地址: | 300308 天津*** | 國省代碼: | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 硅載板 芯片 模塊 高密度 互連 方法 | ||
1.一種基于硅載板的芯片模塊高密度互連方法,其特征在于,所述方法采用硅載板進(jìn)行集成,整體集成方案包括:兩個(gè)DSP芯片、一個(gè)FPGA芯片、兩個(gè)SDRAM芯片、兩個(gè)Flash芯片、一個(gè)配置芯片,共五種、八顆裸芯片;
所述方法包括:
步驟1:分析芯片需求,各類芯片共需要三種電源電壓信號:FPGA核電電壓1.5V、DSP核電電壓1.2V、DSP的IO電壓3.3V;需要兩類時(shí)鐘信號:DSP時(shí)鐘25MHz、總線協(xié)議處理模塊時(shí)鐘16MHz;
步驟2:確定芯片模塊集成方案基板工藝采用6層有機(jī)基板、塑封BGA 680pin的工藝方案;
步驟3:對芯片模塊集成基板的設(shè)計(jì)方案進(jìn)行規(guī)劃,包括:電源地層的規(guī)劃、信號層的規(guī)劃、布線規(guī)劃;
步驟4:對芯片模塊設(shè)計(jì)面積進(jìn)行初步評估;
步驟5:根據(jù)設(shè)計(jì)面積初步評估結(jié)果,確定芯片模塊高密度互連設(shè)計(jì)方案,實(shí)現(xiàn)芯片模塊高密度互連集成。
2.如權(quán)利要求1所述的基于硅載板的芯片模塊高密度互連方法,其特征在于,所述步驟3中,對電源地層的規(guī)劃具體為:
由于芯片模塊架構(gòu)中需要有多種電壓信號包括:FPGA核電壓1.5V、DSP核電電壓1.2V、DSP的IO電壓3.3V,ARM處理器還需要1V、1.3V的電壓;因此,在電源地規(guī)劃上為了避免各個(gè)電壓信號之間的相互影響,考慮盡可能用量較多的電源電壓一個(gè)電源層和地層,而相對電壓應(yīng)用較少或者專用的電源電壓,合理分配在相應(yīng)的電源層。因此,規(guī)劃電源地層為2層。
3.如權(quán)利要求1所述的基于硅載板的芯片模塊高密度互連方法,其特征在于,所述步驟3中,所述對信號層的規(guī)劃具體為:
由于芯片模塊集成方案中提出的模塊復(fù)雜度較高、布線面積小,因此,確定規(guī)劃4層信號布線層。
4.如權(quán)利要求1所述的基于硅載板的芯片模塊高密度互連方法,其特征在于,所述步驟3中,所述布線規(guī)劃具體為:采用盲埋孔技術(shù)進(jìn)行布線。
5.如權(quán)利要求4所述的基于硅載板的芯片模塊高密度互連方法,其特征在于,盲埋孔技術(shù)在目前PCB設(shè)計(jì)中較少用,但在模塊的陶瓷基板設(shè)計(jì)中,由于基本是一層一層地制作,盲埋孔的制造容易,因此,成為本模塊設(shè)計(jì)中主要的信號布線工藝技術(shù)。
6.如權(quán)利要求1所述的基于硅載板的芯片模塊高密度互連方法,其特征在于,所述步驟4中,根據(jù)相關(guān)的裸芯片資料,可以對模塊設(shè)計(jì)面積進(jìn)行初步評估;各個(gè)裸芯片的面積具體如下:
DSP:6mm×6mm;
FPGA:15mm×14mm;
Flash:5mm×4.5mm;
FPGA配置芯片:5.5mm×5.5mm;
SDRAM:4mm×8.5mm。
7.如權(quán)利要求1所述的基于硅載板的芯片模塊高密度互連方法,其特征在于,所述步驟5中,根據(jù)所有裸芯片的尺寸以及數(shù)量,計(jì)算出所有裸芯片平鋪在一個(gè)平面所需要的面積;
加上鍵合之后每個(gè)芯片要加入500μm~3000μm的鍵合長度,同時(shí)算上芯片之間的間距、走線、無源器件的布線,預(yù)估整個(gè)基板面積至少為746mm2,即邊長27mm×27mm的SiP腔體平面;
如果考慮芯片打線、間距和邊沿間距的問題,SiP的面積應(yīng)該在35mm×35mm以內(nèi);
根據(jù)集成架構(gòu)方案,并對裸芯片尺寸進(jìn)行綜合評估考慮,最終確定芯片模塊高密度互連設(shè)計(jì)方案,采用FPGA作為底層裸芯片,上層集成兩顆Flash芯片和FPGA配置芯片,中間通過硅載板進(jìn)行轉(zhuǎn)接信號轉(zhuǎn)接和三維互連。
8.如權(quán)利要求7所述的基于硅載板的芯片模塊高密度互連方法,其特征在于,通過芯片模塊高密度互連設(shè)計(jì)方案,可以實(shí)現(xiàn)四顆裸芯片的兩層三維集成,和不通過硅載板集成直接將芯片二維平鋪相比,大大減少了使用面積,增加了集成度。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





