[發明專利]用于X射線散射測量系統的全光束度量

有效

• 申請號: 202111172803.1
• 申請日: 2017-10-17
• 公開（公告）號: CN113838729B
• 公開（公告）日: 2023-01-17
• 發明（設計）人: A·吉里紐;T·G·奇烏拉;J·亨奇;A·韋爾德曼;S·佐盧布斯基
• 申請（專利權）人: 科磊股份有限公司
• 主分類號: H01J37/252
• 分類號: H01J37/252;H01J37/04;G01B15/04;G01N23/20066;G01N23/205;G01N23/2055;G06T7/60
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 劉麗楠

1.一種度量系統，其包括：

X射線照明源，其經配置以產生一定量的X射線輻射；

X射線照明光學器件子系統，其經配置以相對于形成在晶片表面上的測量目標的多個定向，使用所述一定量的X射線輻射照明所述測量目標；

X射線檢測器，其經配置以在每一定向同時檢測響應于所述一定量的X射線輻射而從所述測量目標散射的一定量的輻射的與零衍射級相關聯的強度以及與較高衍射級相關聯的強度，其中所述零衍射級以及所述較高衍射級以所述多個定向中的至少一者在所述X射線檢測器處重疊；及

計算系統，其經配置以基于在所述多個定向的所述衍射級的經檢測強度而確定與所述測量目標的模型相關聯的所關注參數的值。

2.根據權利要求1所述的度量系統，其中所述測量目標的所述模型包含自所述X射線照明源至所述X射線檢測器的所述一定量的X射線輻射的發散的值。

3.根據權利要求1所述的度量系統，所述計算系統進一步經配置以：

基于經檢測零衍射級的性質而確定測量質量以及性能的指示。

4.根據權利要求3所述的度量系統，其中所述測量質量以及性能的指示是所述X射線檢測器與所述一定量的X射線輻射的軸的對準、所述X射線照明源的亮度、所述X射線照明源的對準、及所述X射線照明光學器件子系統的元件中的任一者或兩者。

5.根據權利要求3所述的度量系統，其中所述計算系統進一步經配置以：

基于所述測量質量以及性能的指示而將命令信號傳達到所述度量系統的元件以調整所述度量系統。

6.根據權利要求1所述的度量系統，其中所述計算系統進一步經配置以：

基于所述零衍射級的經測量光束輪廓而確定所述較高衍射級的光束輪廓的模型。

7.根據權利要求1所述的度量系統，其中所述計算系統進一步經配置以：

通過將所述較高衍射級的經測量強度除以所述零衍射級的經測量強度而估計相對于所述零衍射級的所述經測量強度的所述較高衍射級的強度。

8.根據權利要求1所述的度量系統，其中所述X射線檢測器的光敏體積包含碲化鎘、鍺、砷化鎵或其任何組合。

9.根據權利要求1所述的度量系統，其中所述測量目標包含一或多個高高寬比結構。

10.根據權利要求9所述的度量系統，其中所述一或多個高高寬比結構是下列項中的任一者：自旋轉移力矩隨機存取存儲器(STT-RAM)、三維NAND存儲器(3D-NAND)、動態隨機存取存儲器(DRAM)、三維快閃存儲器(3D-FLASH)、電阻性隨機存取存儲器(Re-RAMPC)及相變隨機存取存儲器(PC-RAM)。

11.一種度量系統，其包括：

X射線照明源，其經配置以產生一定量的X射線輻射；

X射線照明光學器件子系統，其經配置以相對于形成在晶片表面上的測量目標的多個定向，使用所述一定量的X射線輻射照明所述測量目標；

X射線檢測器，其經配置以在每一定向同時檢測響應于所述一定量的X射線輻射而從所述測量目標散射的一定量的輻射的與零衍射級相關聯的強度以及與較高衍射級相關聯的強度；及

計算系統，其經配置以基于具有在所述多個定向的所述零衍射級的經檢測強度以及所述較高衍射級的經檢測強度的所述測量目標的模型的回歸而確定與所述測量目標的所述模型相關聯的所關注參數的值。

12.根據權利要求11所述的度量系統，其中所述零衍射級以及所述較高衍射級在所述X射線檢測器處重疊。

13.根據權利要求11所述的度量系統，其中所述測量目標的所述模型包含自所述X射線照明源至所述X射線檢測器的所述一定量的X射線輻射的發散的值。