[發明專利]液處理裝置和清洗方法

在審

• 申請號: 202111164695.3
• 申請日: 2021-09-30
• 公開（公告）號: CN114289224A
• 公開（公告）日: 2022-04-08
• 發明（設計）人: 柴崎健太;稻田博一;新村聰;高柳康治;矢田健二;關慎一;寺本昭宏
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: B05B15/555
• 分類號: B05B15/555;B05B15/55;H01L21/67
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種液處理裝置，其在基板上涂布涂布液，其中，

該液處理裝置包括：

保持部，其保持基板并使其旋轉；

涂布液供給部，其向被所述保持部保持著的基板供給涂布液；以及

內杯，其自側方包圍所述保持部，該內杯的周緣側上表面自頂部隨著朝向徑向外方去而下降傾斜，該頂部位于被所述保持部保持著的基板的周緣側的下方，

所述內杯具有噴出孔，該噴出孔在所述頂部沿著周向形成有多個，

使自所述噴出孔噴出來的清洗液沿著附著有所述涂布液的所述內杯的周緣側上表面流下，從而對該周緣側上表面進行清洗，

所述噴出孔形成為向徑向外方且斜上方噴出所述清洗液。

2.根據權利要求1所述的液處理裝置，其中，

構成所述噴出孔的流路的頂端比基端側細。

3.根據權利要求1或2所述的液處理裝置，其中，

所述噴出孔形成為向在俯視時相對于穿過該噴出孔的徑向具有角度的方向噴出所述清洗液。

4.根據權利要求1～3中任一項所述的液處理裝置，其中，

在所述噴出孔的上方設有遮蔽板，該遮蔽板防止自該噴出孔以飛沫狀放出的所述清洗液的擴散。

5.根據權利要求1～4中任一項所述的液處理裝置，其中，

所述內杯具有：

貯存室，其在該內杯的內部沿著周向設為圓環狀，與所述噴出孔分別連通，貯存所述清洗液；以及

導入孔，其與所述貯存室連接，向該貯存室導入清洗液。

6.根據權利要求5所述的液處理裝置，其中，

利用所述噴出孔實現的所述清洗液向斜上方噴出的噴出角度根據自所述噴出孔到該導入孔的距離而不同。

7.根據權利要求5或6所述的液處理裝置，其中，

構成所述噴出孔的流路的粗細根據自該噴出孔到所述導入孔的距離而不同。

8.根據權利要求5～7中任一項所述的液處理裝置，其中，

所述貯存室被隔壁分成沿著周向的圓環狀的多個緩沖器，該隔壁將該貯存室的內部沿著流體的流動劃分成多個區域，

所述隔壁設有使被該隔壁隔開的所述緩沖器彼此連通的連通孔。

9.根據權利要求8所述的液處理裝置，其中，

所述隔壁沿著周向設有多個所述連通孔。

10.根據權利要求9所述的液處理裝置，其中，

在所述緩沖器為三個的情況下，在一個所述隔壁設置的所述連通孔的貫通方向和在另一個所述隔壁設置的所述連通孔的貫通方向不在同一直線上排列。

11.根據權利要求9或10所述的液處理裝置，其中，

利用所述導入孔實現的清洗液導入的導入方向與在最上游側的所述隔壁設置的所述連通孔的貫通方向不在同一直線上排列。

12.根據權利要求5～11中任一項所述的液處理裝置，其中，

借助所述導入孔向所述貯存室還導入有非活性氣體。

13.根據權利要求12所述的液處理裝置，其中，

所述清洗液向所述貯存室的供給和所述非活性氣體向所述貯存室的供給同時進行，

所述清洗液向所述貯存室的供給流量和所述非活性氣體向所述貯存室的供給流量恒定。

14.根據權利要求12所述的液處理裝置，其中，

所述清洗液向所述貯存室的供給和所述非活性氣體向所述貯存室的供給同時進行，

所述非活性氣體向所述貯存室的供給流量恒定，所述清洗液向所述貯存室的供給流量在大流量和小流量之間交替地切換。