[發(fā)明專利]一種潤膚保濕面膜生產設備及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111114353.0 | 申請日: | 2021-09-23 |
| 公開(公告)號: | CN114028241B | 公開(公告)日: | 2023-05-30 |
| 發(fā)明(設計)人: | 李斌 | 申請(專利權)人: | 縱橫星購(北京)生物科技有限公司 |
| 主分類號: | A61K8/02 | 分類號: | A61K8/02;A61Q19/00 |
| 代理公司: | 重慶莫斯專利代理事務所(普通合伙) 50279 | 代理人: | 王紅印 |
| 地址: | 100089 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 潤膚 保濕 面膜 生產 設備 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種潤膚保濕面膜生產設備及方法,其可以實現(xiàn)流水式的面膜制造生產,在生產時,基材通過浸潤、浸磨等工序,有效提高乳液的浸入程度以及均勻性,提高基材與乳液的交合情況,保證基材中容納乳液的量,通過在浸磨臺上至少依次設置有第一浸磨區(qū)域、第二浸磨區(qū)域和第三浸磨區(qū)域,第一浸磨區(qū)域的浸磨溫度大于浸液機構中面膜乳液的溫度,第三浸磨區(qū)域的浸磨溫度小于浸液機構中面膜乳液的溫度,通過溫度的逐步降低控制,先相對高溫浸磨,可保證在浸磨中的乳液流動性,提高滲透力,而后再降低溫度浸磨,保證乳液浸入后保留在基材中的能力,提高粘結在基材上的粘結力,保證基材浸液性能,同時浸磨的處理可以保證乳液的細膩性。
技術領域
本發(fā)明具體是一種潤膚保濕面膜生產設備及方法,涉及保濕面膜生產設備領域。
背景技術
目前,在面膜生產中,一般是將面膜的基材直接浸潤在保濕乳液中,以便對基材進行浸潤處理,然后浸潤處理后的基材進行稍作刮料等方式后進行覆膜即可,這種方式生產的面膜性能不佳,在基材中的乳液容易出現(xiàn)流失,尤其是長時間的放置或者包裝壓合后,乳液流失比較嚴重,導致面膜的性能下降較大,影響面膜的保濕效果,而且,這種方式生產的面膜的細膩度不好,基材與乳液之間結合性不佳,容易顯得面膜比較粗糙,影響使用效果。
發(fā)明內容
因此,為了解決上述不足,本發(fā)明在此提供一種潤膚保濕面膜生產設備及方法。
本發(fā)明是這樣實現(xiàn)的,構造一種潤膚保濕面膜生產設備,其包括基材卷盤供應機構、浸液機構、浸磨機構、離型膜貼覆機構、滾壓機構和沖裁成型機構,所述基材卷盤供應機構供應的基材穿過所述浸液機構后由所述浸磨機構進行浸磨,所述浸磨機構浸磨后的基材經過所述離型膜貼覆機構進行覆膜處理,覆膜后的基材膜組合體由所述滾壓機構進行滾壓,滾壓后的基材膜組合體由所述沖裁成型機構進行沖裁成型;所述浸液機構用于向所述基材浸泡面膜乳液,其特征在于,所述浸磨機構包括浸磨臺,所述浸磨臺上至少依次設置有第一浸磨區(qū)域、第二浸磨區(qū)域和第三浸磨區(qū)域,所述第一浸磨區(qū)域、第二浸磨區(qū)域和第三浸磨區(qū)域處均設置有浸磨模組,所述浸磨模組對所述基材進行浸磨處理,所述第一浸磨區(qū)域、第二浸磨區(qū)域和第三浸磨區(qū)域的浸磨溫度依次降低,且所述第一浸磨區(qū)域的浸磨溫度大于所述浸液機構中面膜乳液的溫度,所述第三浸磨區(qū)域的浸磨溫度小于所述浸液機構中面膜乳液的溫度。
進一步,作為優(yōu)選,所述浸液機構包括導輪、浸液箱、壓輪組和按壓刮料器,所述浸液箱的上端兩側均設置有供基材穿過的導輪,所述基材由所述導輪穿過所述浸液箱設置,且所述壓輪組位于所述浸液箱內,用于對浸液箱中的基材進行下壓壓緊,所述浸液箱內設置有所述按壓刮料器,所述基材從所述浸液箱中穿過所述按壓刮料器中穿出,所述按壓刮料器用于對浸液后的基材進行按壓與刮料。
進一步,作為優(yōu)選,所述按壓刮料器的下部浸潤在面膜乳液中,所述按壓刮料器的上部向上漏出所述面膜乳液的上液面,所述按壓刮料器包括固定壓板、活動壓板和按壓驅動器,所述固定壓板和活動壓板相對布置,所述活動壓板經過緩沖彈簧連接至所述按壓驅動器,所述按壓驅動器驅動所述活動壓板朝向或者遠離所述固定壓板移動,所述活動壓板和/或固定壓板上均設置有多個輔助滾輪。
進一步,作為優(yōu)選,所述離型膜貼覆機構包括上離型膜供膜卷盤和下離型膜供膜卷盤,所述上離型膜供膜卷盤供應的上離型膜經過導向滾輪傳動貼合至所述基材的上方,所述下離型膜供膜卷盤供應的下離型膜經過導向滾輪傳動貼合至所述基材的下方;
所述滾壓機構包括多個間隔布置的上滾壓輪和多個間隔布置的下滾壓輪,所述上滾壓輪和下滾壓輪一一上下對應布置,且所述上滾壓輪和下滾壓輪之間的滾壓壓力能夠調節(jié)的設置。
進一步,作為優(yōu)選,所述沖裁成型機構包括上沖裁成型模和下沖裁成型模,所述上沖裁成型模與所述下沖裁成型模之間能夠相對上下運動,以便對基材膜組合體進行沖裁成型處理。
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