[發(fā)明專利]一種負離子美發(fā)器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111049301.X | 申請日： | 2021-09-08 |
| 公開（公告）號： | CN113576137A | 公開（公告）日： | 2021-11-02 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 肖勇;張三平;魏綿嘉 | 申請（專利權(quán)）人： | 深圳市奮達科技股份有限公司 |
| 主分類號： | A45D1/08 | 分類號： | A45D1/08;A45D1/04;A45D2/36;A45D19/16 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人： | 張欣然 |
| 地址： | 518000 廣東省*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 負離子 美發(fā) | ||
本發(fā)明公開了一種負離子美發(fā)器，包括：負離子發(fā)生器以及相對開合設(shè)置的第一夾板和第二夾板；第一夾板和第二夾板中的至少一者設(shè)置有通槽，負離子發(fā)生器的噴射口與通槽連通，且負離子發(fā)生器噴射的負離子經(jīng)通槽直接噴射至頭發(fā)表面或負離子發(fā)生器噴射的負離子相互對撞后噴射至頭發(fā)表面。本發(fā)明提供的負離子美發(fā)器在使用的過程中，負離子可以直接通過通槽噴射至被夾緊的頭發(fā)的表面，或者對撞之后以地毯式覆蓋至被夾緊的頭發(fā)表面，避免了負離子噴射過程中被阻擋，使頭發(fā)與負離子充分接觸，提高了負離子的噴射效果。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及美發(fā)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說，涉及一種負離子美發(fā)器。
背景技術(shù)
在對頭發(fā)進行造型的過程中，一般需要加熱頭發(fā)，加熱的過程中會對頭發(fā)造成損傷，使頭發(fā)干枯、分叉等。
為了減輕造型過程中對頭發(fā)的損傷，現(xiàn)有技術(shù)中會在美發(fā)器中設(shè)置負離子發(fā)生器，通過向造型中的頭發(fā)噴射負離子減輕加熱對頭發(fā)的損傷，但是由于現(xiàn)有技術(shù)中一般由頭發(fā)受熱部分的外側(cè)對頭發(fā)噴射負離子，所噴射負離子的范圍有限，致使部分頭發(fā)不能接觸到負離子，影響造型效果。
綜上所述，如何提高造型過程中負離子的噴射效果，是目前本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的問題。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明的目的是提供一種負離子美發(fā)器，可以使負離子經(jīng)過第一夾板或第二夾板中的通槽直接噴射于被夾緊的頭發(fā)的表面，使負離子與頭發(fā)表面直接接觸，提高負離子的噴射范圍，使負離子與頭發(fā)充分接觸，提高負離子的噴射效果。
為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：
一種負離子美發(fā)器，包括：負離子發(fā)生器以及相對開合設(shè)置的第一夾板和第二夾板；
所述第一夾板和所述第二夾板中的至少一者設(shè)置有通槽，所述負離子發(fā)生器的噴射口與所述通槽連通，且所述負離子發(fā)生器噴射的負離子經(jīng)所述通槽直接噴射至頭發(fā)表面或所述負離子發(fā)生器噴射的所述負離子相互對撞后噴射至所述頭發(fā)表面。
優(yōu)選的，所述噴射口的數(shù)量為至少兩個，且存在至少兩個所述噴射口所噴射的所述負離子在所述通槽內(nèi)對撞后噴射至所述頭發(fā)表面。
優(yōu)選的，所述第一夾板包括間隔設(shè)置的第一加熱板、第二加熱板以及用于固定所述第一加熱板和所述第二加熱板的加熱板殼體，所述加熱板殼體設(shè)置有用于限制所述負離子噴出方向的導(dǎo)向孔；
所述通槽設(shè)置于所述第一加熱板與所述第二加熱板之間、且沿所述第一夾板的長度方向設(shè)置。
優(yōu)選的，所述負離子發(fā)生器包括兩個負離子針，且其中一個所述負離子針設(shè)置于所述通槽寬度方向的一側(cè)，另一個所述負離子針設(shè)置于所述通槽寬度方向的另一側(cè)；
且兩個所述負離子針噴射的所述負離子的噴射路徑在所述通槽內(nèi)相交，相交高度位于兩個所述負離子針中最接近所述頭發(fā)表面的噴射口與所述頭發(fā)表面之間。
優(yōu)選的，其中一個所述負離子針設(shè)置于所述第一加熱板與用于固定所述第一加熱板的所述加熱板殼體之間，另一個所述負離子針設(shè)置于所述第二加熱板與用于固定所述第二加熱板的所述加熱板殼體之間。
優(yōu)選的，兩個所述負離子針的噴射口的設(shè)置高度均相同，且兩個所述負離子針所噴射所述負離子的噴射路徑在所述通槽內(nèi)相交的位置位于所述通槽寬度方向的中間截面內(nèi)。
優(yōu)選的，兩個所述負離子針均包含多個數(shù)量相同的所述噴射口，且其中一個所述負離子針中的所述噴射口與另一個所述負離子針中的所述噴射口一一對應(yīng)設(shè)置。
優(yōu)選的，位于所述第一加熱板對側(cè)的所述負離子針噴射所述負離子的噴射路徑、與所述第一加熱板的表面相切或低于所述第一加熱板的下表面；
位于所述第二加熱板對側(cè)的所述負離子針噴射所述負離子的噴射路徑、與所述第二加熱板的表面相切或低于所述第二加熱板的下表面。
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