[發(fā)明專利]數(shù)字轉(zhuǎn)換器和電子設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202111027411.6
• 申請(qǐng)日: 2021-09-02
• 公開（公告）號(hào): CN114138060A
• 公開（公告）日: 2022-03-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 岸本廣次;黃鉉彬
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號(hào): G06F1/16
• 分類號(hào): G06F1/16;G06F3/041;G06F3/044;G09F9/33
• 代理公司: 北京鉦霖知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11722
• 代理人: 李英艷;馮志云

本公開涉及數(shù)字轉(zhuǎn)換器和電子設(shè)備，所述數(shù)字轉(zhuǎn)換器包括：基體構(gòu)件，包括前表面和與所述前表面相對(duì)的后表面；第一感測線，設(shè)置在所述基體構(gòu)件上，在第一方向上布置，并且在與所述第一方向交叉的第二方向上延伸；以及第二感測線，設(shè)置在所述基體構(gòu)件上，與所述第一感測線間隔開，在所述第二方向上布置，并且在所述第一方向上延伸。所述基體構(gòu)件關(guān)于在所述第二方向上延伸的虛設(shè)折疊軸可折疊，并且提供有穿透所述基體構(gòu)件的至少一部分的通孔。所述通孔由所述第一感測線和所述第二感測線圍繞。

相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用

本申請(qǐng)要求于2020年9月4日提交的第10-2020-0112903號(hào)韓國專利申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán)及從其獲得的所有權(quán)益，上述韓國專利申請(qǐng)的內(nèi)容通過引用全部包含于此。

技術(shù)領(lǐng)域

本公開涉及電子設(shè)備。更具體地，本公開涉及包括具有改善的折疊特性的數(shù)字轉(zhuǎn)換器的電子設(shè)備。

背景技術(shù)

在信息社會(huì)中，電子設(shè)備作為傳輸視覺信息的媒體正在變得越來越重要。作為目前已知的電子設(shè)備，存在液晶顯示器(“LCD”)、等離子體顯示面板(“PDP”)、有機(jī)發(fā)光顯示器(“OLED”)、場效應(yīng)顯示器(“FED”)和電泳顯示器(“EPD”)。

電子設(shè)備響應(yīng)于施加到其的電信號(hào)而激活。電子設(shè)備包括數(shù)字轉(zhuǎn)換器，數(shù)字轉(zhuǎn)換器感測從顯示圖像的顯示面板外部施加到其的外部輸入。

電子設(shè)備包括將由電信號(hào)激活的各種電極圖案。激活電極圖案的區(qū)域顯示信息或響應(yīng)于外部信號(hào)。

發(fā)明內(nèi)容

本公開提供包括數(shù)字轉(zhuǎn)換器的電子設(shè)備，所述數(shù)字轉(zhuǎn)換器具有通過限定穿過所述數(shù)字轉(zhuǎn)換器的基體構(gòu)件的通孔而改善的折疊特性。

本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施例提供了一種數(shù)字轉(zhuǎn)換器，包括：基體構(gòu)件，包括前表面和與所述前表面相對(duì)的后表面；第一感測線，設(shè)置在所述基體構(gòu)件上，所述第一感測線在第一方向上布置，并且在與所述第一方向交叉的第二方向上延伸；以及第二感測線，設(shè)置在所述基體構(gòu)件上，所述第二感測線與所述第一感測線間隔開，在所述第二方向上布置，并且在所述第一方向上延伸。所述基體構(gòu)件關(guān)于在所述第二方向上延伸的虛設(shè)折疊軸可折疊，并且提供有穿透所述基體構(gòu)件的至少一部分的通孔，并且所述通孔由所述第一感測線和所述第二感測線圍繞。

所述通孔在所述第一方向上可以具有等于或大于約10微米且等于或小于約300微米的寬度。

所述通孔可以提供為多個(gè)，并且所述通孔可以在所述第一方向和所述第二方向上布置為彼此間隔開。

所述第一感測線和所述第二感測線可以嵌入到所述基體構(gòu)件中。

所述基體構(gòu)件可以包括：第一線區(qū)域，在所述第一線區(qū)域中設(shè)置所述第一感測線，其中，所述第一感測線與所述基體構(gòu)件的所述前表面相鄰；第二線區(qū)域，在所述第二線區(qū)域中設(shè)置所述第二感測線，其中，所述第二感測線與所述基體構(gòu)件的所述后表面相鄰；以及非線區(qū)域，在平面圖中限定在所述第一線區(qū)域和所述第二線區(qū)域之間。所述通孔可以在所述平面圖中與所述非線區(qū)域重疊，并且可以從所述基體構(gòu)件的所述前表面至所述基體構(gòu)件的所述后表面穿透所述基體構(gòu)件。

所述基體構(gòu)件可以限定第一附加孔，所述第一附加孔在所述平面圖中與所述第一線區(qū)域重疊，并且從所述基體構(gòu)件的所述后表面限定有某一深度。

所述基體構(gòu)件可以限定第二附加孔，所述第二附加孔在所述平面圖中與所述第二線區(qū)域重疊，并且從所述基體構(gòu)件的所述前表面限定有某一深度。

所述基體構(gòu)件可以包括聚酰亞胺。