[發(fā)明專利]一種調(diào)光裝置及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202111013307.1 | 申請(qǐng)日: | 2021-08-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113721380B | 公開(公告)日: | 2023-10-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 翟德深;王春雷;吳小龍;張思凱;巨小倩;陳娟;王昌銀;梁鵬;王瑛;張永忠 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方傳感技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1333 | 分類號(hào): | G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京安信方達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11262 | 代理人: | 解婷婷;曲鵬 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 調(diào)光 裝置 及其 制備 方法 | ||
1.一種調(diào)光裝置,其特征在于:包括相對(duì)設(shè)置的第一曲面基板和第二曲面基板,以及設(shè)于所述第一曲面基板和所述第二曲面基板之間的調(diào)光功能層;
所述第一曲面基板具有朝向所述調(diào)光功能層的第一曲面,所述第二曲面基板具有朝向所述調(diào)光功能層的第二曲面;
所述調(diào)光功能層包括一個(gè)調(diào)光模組,或者所述調(diào)光功能層包括拼接的多個(gè)調(diào)光模組;所述調(diào)光模組包括朝向所述第一曲面的第一表面和朝向所述第二曲面的第二表面;
所述第一曲面與所述調(diào)光模組的第一表面之間填充有第一填充層,所述第二曲面與所述調(diào)光模組的第二表面之間填充有第二填充層。
2.如權(quán)利要求1所述的調(diào)光裝置,其特征在于:所述調(diào)光功能層包括拼接的多個(gè)調(diào)光模組,至少兩個(gè)所述調(diào)光模組之間的夾角為鈍角。
3.如權(quán)利要求1所述的調(diào)光裝置,其特征在于:所述第一曲面基板朝向背離所述調(diào)光功能層的一側(cè)拱起,所述第二曲面基板朝向所述調(diào)光功能層所在側(cè)拱起。
4.如權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的調(diào)光裝置,其特征在于:所述第一填充層將所述第一曲面與所述調(diào)光模組的第一表面粘接,所述第二填充層將所述第二曲面與所述調(diào)光模組的第二表面粘接。
5.如權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的調(diào)光裝置,其特征在于:所述第一填充層的朝向所述第一曲面的表面的形狀與所述第一曲面的形狀相適配,所述第一填充層的朝向所述第一曲面的表面通過第一粘合層與所述第一曲面粘接;
所述第二填充層的朝向所述第二曲面的表面的形狀與所述第二曲面的形狀相適配,所述第二填充層的朝向所述第二曲面的表面通過第二粘合層與所述第二曲面粘接。
6.如權(quán)利要求5所述的調(diào)光裝置,其特征在于:所述調(diào)光功能層包括拼接的多個(gè)調(diào)光模組,所述第二填充層為一體結(jié)構(gòu)并設(shè)有多個(gè)定位槽,所述多個(gè)調(diào)光模組分別設(shè)置在所述多個(gè)定位槽內(nèi)。
7.如權(quán)利要求6所述的調(diào)光裝置,其特征在于:所述第一填充層為一體結(jié)構(gòu);或者,所述第一填充層包括多個(gè)第一子填充層,每個(gè)所述第一子填充層填充在對(duì)應(yīng)的一個(gè)所述調(diào)光模組的第一表面和所述第一曲面之間。
8.如權(quán)利要求5所述的調(diào)光裝置,其特征在于:所述第一填充層通過第三粘合層與所述調(diào)光模組的第一表面粘接,所述第二填充層通過第四粘合層與所述調(diào)光模組的第二表面粘接。
9.如權(quán)利要求5所述的調(diào)光裝置,其特征在于:所述第一填充層和所述第二填充層的材料均為柔性材料。
10.如權(quán)利要求3所述的調(diào)光裝置,其特征在于:至少一個(gè)所述調(diào)光模組的第二表面上設(shè)有應(yīng)力釋放結(jié)構(gòu),所述應(yīng)力釋放結(jié)構(gòu)包括一個(gè)或多個(gè)凹槽。
11.如權(quán)利要求3所述的調(diào)光裝置,其特征在于:所述第一曲面或所述第二曲面的最大曲率的位置為第一位置,至少一個(gè)所述調(diào)光模組的側(cè)邊設(shè)有一個(gè)或多個(gè)缺口槽,至少一個(gè)所述缺口槽的位置與所述第一位置對(duì)應(yīng)。
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