[發明專利]一種替硝唑工藝雜質及其合成方法

有效

• 申請號: 202110998497.0
• 申請日: 2021-08-27
• 公開（公告）號: CN113683569B
• 公開（公告）日: 2022-05-31
• 發明（設計）人: 孫立杰;石紅超;田鵬美;魏賽麗;張偉麗;延春霞;張雪彤;孫朝振
• 申請（專利權）人: 河北廣祥制藥有限公司
• 主分類號: C07D233/94
• 分類號: C07D233/94;G01N30/02;G01N30/06;G01N30/86
• 代理公司: 河北國維致遠知識產權代理有限公司 13137
• 代理人: 龐玉凈

1.一種式（Ⅰ）所示的替硝唑工藝雜質的合成方法，其特征在于，具體包括如下步驟：

步驟a，將4-硝基咪唑和羥基乙硫醚溶于苯類化合物中，于45℃-60℃加入濃硫酸，然后升溫至85℃-90℃，反應5h-7h，降溫，調節pH至6.5-7.5，過濾，洗滌濾餅，收集濾液，分液，得含式（Ⅱ）所示化合物的反應液；所得濾餅回套用于作為4-硝基咪唑原料；所述苯類化合物為甲苯、鄰二甲苯、間二甲苯或對二甲苯中至少一種；

步驟b，向所述含式（Ⅱ）所示化合物的反應液中加入鉬酸鹽水溶液，攪拌均勻，于60℃-70℃加入雙氧水，保溫反應0.5h-1.5h，降溫，過濾，洗滌濾餅，將所得濾餅干燥，得式（Ⅰ）所示的替硝唑工藝雜質；

式（Ⅰ） 式（Ⅱ）。

2.如權利要求1所述的替硝唑工藝雜質的合成方法，其特征在于，步驟a中，所述4-硝基咪唑與羥基乙硫醚的摩爾比為1:0.63-1.10。

3.如權利要求1所述的替硝唑工藝雜質的合成方法，其特征在于，步驟a中，所述4-硝基咪唑與濃硫酸中H₂SO₄的摩爾比為1:0.9-1.2。

4.如權利要求1所述的替硝唑工藝雜質的合成方法，其特征在于，步驟b中，所述4-硝基咪唑與鉬酸鹽水溶液的質量比為1:1-1.1。

5.如權利要求4所述的替硝唑工藝雜質的合成方法，其特征在于，步驟b中，所述鉬酸鹽水溶液的質量濃度為1.0wt%-1.5wt%。

6.如權利要求1所述的替硝唑工藝雜質的合成方法，其特征在于，步驟b中，所述4-硝基咪唑與雙氧水中H₂O₂的摩爾比為1:1.8-2.5。