[發明專利]一種穩定實現短程硝化厭氧氨氧化過程的裝置

在審

• 申請號: 202110989960.5
• 申請日: 2021-08-26
• 公開（公告）號: CN113845219A
• 公開（公告）日: 2021-12-28
• 發明（設計）人: 陳茂福;劉思彤;胡博;張闊;程振敏;陳斌
• 申請（專利權）人: 北控水務（中國）投資有限公司;北京大學
• 主分類號: C02F3/30
• 分類號: C02F3/30
• 代理公司: 北京智繪未來專利代理事務所(普通合伙) 11689
• 代理人: 肖繼軍;趙卿

1.一種穩定實現短程硝化厭氧氨氧化過程的裝置，其特征在于：

所述裝置主要由殼體、隔板、填料架、限載機構和波浪板組成：

所述隔板將所述殼體的密閉容置空間分割成進水泵室、COD去除反應室、短程硝化反應室、波浪板室和厭氧氨氧化反應室；

所述填料架設置于所述COD去除反應室內；

所述限載機構設置于所述短程硝化反應室內，所述限載機構用于限制微生物填料的運動；

所述波浪板設置于所述波浪板室內，所述波浪板將所述短程硝化反應室和所述厭氧氨氧化反應室連通；

當處理污水時，外部污水由所述裝置的進水口進入所述進水泵室，然后依次流經所述COD去除反應室、所述短程硝化反應室、所述波浪板室和所述厭氧氨氧化反應室，經過處理后的清水由所述裝置的排水口排出。

2.根據權利要求1所述的穩定實現短程硝化厭氧氨氧化過程的裝置，其特征在于：

所述填料架為長方體或多面體，其內部設置多塊肋板，不同肋板之間沿豎直方向并行排列。

3.根據權利要求2所述的穩定實現短程硝化厭氧氨氧化過程的裝置，其特征在于：

所述肋板在水平方向上的截面呈S形，相鄰兩塊所述肋板之間的距離為0.1-5cm。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的穩定實現短程硝化厭氧氨氧化過程的裝置，其特征在于：

所述填料架的下端固定在填料架支架上，所述填料架支架固定在所述COD去除反應室的底部。

5.根據權利要求4所述的穩定實現短程硝化厭氧氨氧化過程的裝置，其特征在于：

所述填料架的底端距離所述COD去除反應室的底部的高度為所述COD去除反應室總高度的45～55％。

6.根據權利要求1所述的穩定實現短程硝化厭氧氨氧化過程的裝置，其特征在于：

所述限載機構安裝在限載機構支架上，所述限載機構支架固定在所述短程硝化反應室的底部，所述限載機構在傳動機構的作用下，能沿所述限載機構支架上下移動。

7.根據權利要求6所述的穩定實現短程硝化厭氧氨氧化過程的裝置，其特征在于：

所述限載機構包括至少一個開孔平板，所述開孔的內徑＜微生物填料外徑的30％，所述平板的密度為950～1050kg/m³。

8.根據權利要求1所述的穩定實現短程硝化氨氧化過程的裝置，其特征在于：

所述波浪板至少設置一層，所述波浪板的一端銜接所述短程硝化反應室的排水口，另一端銜接所述厭氧氨氧化反應室的進水口，

當所述波浪板的層數≥2時，所述波浪板呈上下層疊分布，相鄰上下兩層所述波浪板頭尾銜接，使得所有的所述波浪板串連成污水流經的通道。

9.根據權利要求1所述的穩定實現短程硝化氨氧化過程的裝置，其特征在于：

所述短程硝化反應室的底部設置曝氣裝置和在線DO檢測裝置。

10.根據權利要求1所述的穩定實現短程硝化氨氧化過程的裝置，其特征在于：

在所述厭氧氨氧化反應室的上部設置齒狀微生物填料支架，微生物填料能懸掛在相鄰兩齒狀凸起之間，所述微生物填料的底部設置有配重物。