[發(fā)明專利]描畫裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110987294.1
• 申請(qǐng)日: 2021-08-26
• 公開（公告）號(hào): CN114253085A
• 公開（公告）日: 2022-03-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 藤田雄也;原望;福田浩士;早川直人
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社斯庫林集團(tuán)
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 隆天知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003
• 代理人: 宋曉寶;向勇

本發(fā)明提供一種描畫裝置。第一移動(dòng)機(jī)構(gòu)(22a)在圖案描畫部(4)的下方在Y方向上水平移動(dòng)第一載物臺(tái)(21a)。第二移動(dòng)機(jī)構(gòu)(22b)在圖案描畫部(4)的下方在Y方向上水平移動(dòng)第二載物臺(tái)(21b)。第二移動(dòng)機(jī)構(gòu)(22b)在X方向上與第一移動(dòng)機(jī)構(gòu)(22a)并排配置。框架(7)支撐第一移動(dòng)機(jī)構(gòu)(22a)和第二移動(dòng)機(jī)構(gòu)(22b)。配重(51)在與基板移動(dòng)方向交叉的X方向上可移動(dòng)地安裝于框架(7)。配重移動(dòng)控制部基于Y方向上的第一載物臺(tái)(21a)和第二載物臺(tái)(21b)的位置控制配重移動(dòng)機(jī)構(gòu)(52)，使得配重(51)配置于抑制因第一載物臺(tái)(21a)和第二載物臺(tái)(21b)的重量導(dǎo)致的框架(7)的變形的位置。由此，能夠高精度地進(jìn)行對(duì)基板(9)的描畫。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及對(duì)基板進(jìn)行描畫的描畫裝置。

[參照相關(guān)申請(qǐng)]

本申請(qǐng)主張于2020年9月23日申請(qǐng)的日本國(guó)專利申請(qǐng)JP2020-158317的優(yōu)先權(quán)的利益，該申請(qǐng)的全部公開內(nèi)容并入本申請(qǐng)中。

背景技術(shù)

以往，通過對(duì)形成在半導(dǎo)體基板、印刷電路板、有機(jī)EL顯示裝置或液晶顯示裝置用的玻璃基板等(以下稱為“基板”)上的感光材料照射光來描畫圖案。在這種描畫裝置中，依次進(jìn)行基板的搬入、基板的定位、對(duì)基板的描畫以及基板的搬出。

近年來，為了提高描畫裝置的處理能力，提出有如下方案：在一臺(tái)描畫裝置中設(shè)置了兩個(gè)載物臺(tái)、兩個(gè)定位檢測(cè)系統(tǒng)和一個(gè)曝光頭，在對(duì)一個(gè)載物臺(tái)上的基板描畫期間，進(jìn)行對(duì)另一個(gè)載物臺(tái)上的基板的更換和定位。

例如，提出有如下方案：在國(guó)際公開第2003/010802號(hào)(文獻(xiàn)1)的步進(jìn)掃描式的掃描型投影曝光設(shè)備中，當(dāng)在對(duì)一個(gè)載物臺(tái)上的基板進(jìn)行曝光期間進(jìn)行另一個(gè)載物臺(tái)的移動(dòng)時(shí)，對(duì)另一個(gè)載物臺(tái)的移動(dòng)速度和移動(dòng)時(shí)的加速度設(shè)置上限，以防止上述移動(dòng)引起的振動(dòng)等傳遞到曝光中的載物臺(tái)上而降低曝光操作的控制性能。

但是，在文獻(xiàn)1的曝光裝置中，由于載物臺(tái)的移動(dòng)速度受到限制，因此曝光裝置的處理能力可能降低。此外，若兩個(gè)載物臺(tái)之間的位置關(guān)系因載物臺(tái)的移動(dòng)而改變，則曝光裝置可能會(huì)產(chǎn)生歪曲等變形，從而導(dǎo)致對(duì)基板的曝光處理的精度降低。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明面向?qū)暹M(jìn)行描畫的描畫裝置，其目的在于，高精度地進(jìn)行對(duì)基板的描畫。

本發(fā)明的優(yōu)選一方式的描畫裝置，具備：圖案描畫部，對(duì)在下方水平移動(dòng)的基板的上側(cè)主面照射光來描畫圖案；第一基板保持部；第一移動(dòng)機(jī)構(gòu)，在所述圖案描畫部的下方在基板移動(dòng)方向上水平移動(dòng)所述第一基板保持部；第二基板保持部，與所述第一基板保持部相鄰地配置；第二移動(dòng)機(jī)構(gòu)，在與所述基板移動(dòng)方向交叉的方向上與所述第一移動(dòng)機(jī)構(gòu)并排配置，在所述圖案描畫部的下方在所述基板移動(dòng)方向上水平移動(dòng)所述第二基板保持部；框架，支撐所述第一移動(dòng)機(jī)構(gòu)和所述第二移動(dòng)機(jī)構(gòu)；配重，在與所述基板移動(dòng)方向交叉的配重移動(dòng)方向上可移動(dòng)地安裝于所述框架；配重移動(dòng)機(jī)構(gòu)，在所述配重移動(dòng)方向上移動(dòng)所述配重；以及配重移動(dòng)控制部，基于所述基板移動(dòng)方向上的所述第一基板保持部和所述第二基板保持部的位置控制所述配重移動(dòng)機(jī)構(gòu)，使得所述配重配置于抑制因所述第一基板保持部和所述第二基板保持部的重量導(dǎo)致的所述框架的變形的位置。

根據(jù)上述的描畫裝置，能夠高精度地進(jìn)行對(duì)基板的描畫。

優(yōu)選，所述配重移動(dòng)方向與所述基板移動(dòng)方向垂直。

優(yōu)選，所述配重的重心在上下方向上位于比所述第一基板保持部的上表面和所述第二基板保持部的上表面更靠下側(cè)的位置。

優(yōu)選，所述配重的上端在上下方向上位于比所述第一基板保持部的所述上表面和所述第二基板保持部的所述上表面更靠下側(cè)的位置。