[發(fā)明專利]一種實(shí)現(xiàn)晶向偏離的單晶晶體的多線切割方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110986962.9 | 申請(qǐng)日: | 2021-08-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113696358B | 公開(公告)日: | 2023-04-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李興鵬;曹榛;蘇江濤;張翠蕓;師偉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 西安中晶半導(dǎo)體材料有限公司 |
| 主分類號(hào): | B28D5/04 | 分類號(hào): | B28D5/04;B28D7/00;G01N23/20 |
| 代理公司: | 西安弘理專利事務(wù)所 61214 | 代理人: | 劉娜 |
| 地址: | 710100 陜西*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 實(shí)現(xiàn) 偏離 晶體 切割 方法 | ||
1.一種實(shí)現(xiàn)晶向偏離的單晶晶體的多線切割方法,其特征在于,具體按照以下步驟實(shí)施:
步驟1,打開X射線晶體定向儀,校準(zhǔn)機(jī)臺(tái);
步驟2,采用標(biāo)準(zhǔn)樣品,測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)樣品已知晶向值,待晶向峰值強(qiáng)度微安表達(dá)到峰值,進(jìn)行復(fù)位,機(jī)臺(tái)校準(zhǔn)完成,標(biāo)準(zhǔn)樣品標(biāo)定方向的晶向值,記為β;
步驟3,將單晶硅棒的兩端面分別標(biāo)記為W端和T端;
步驟4,將單晶硅棒的W端置于X射線晶體定向儀的縱向支架上,測(cè)試單晶硅棒的W端,當(dāng)測(cè)出一個(gè)方向的點(diǎn)值在一定角度時(shí),標(biāo)記為A點(diǎn),然后經(jīng)過單晶硅棒端面圓心O,做出一條直徑,此直徑另一端標(biāo)記為C點(diǎn),再做出與直徑AC垂直的直線BD;
若為[111]晶向的單晶硅棒,測(cè)出一個(gè)方向的點(diǎn)值在14°14′±(0~30)′;若為[100]晶向的單晶硅棒,測(cè)出一個(gè)方向的點(diǎn)值在34°36′±(0~30)′;若為[110]晶向的單晶硅棒,測(cè)出一個(gè)方向的點(diǎn)值在23°40′±(0~30)′;
步驟5,再將單晶硅棒的W端置于X射線晶體定向儀的縱向支架上,分別測(cè)出A、B、C、D四點(diǎn)所在方向的晶向峰值,并在單晶硅棒的W端面記錄晶向峰值;
步驟6,選擇直徑或方向?yàn)槎嗑€切割進(jìn)給方向,選擇直徑或方向?yàn)榫蚱x度校正方向,測(cè)量和方向上的晶向值,分別記為θ1和θ2,并計(jì)算和方向上偏離標(biāo)準(zhǔn)樣品的晶向偏離α1和α2;
步驟7,計(jì)算或直徑方向上的晶向偏離度θ,并將θ換算成偏離角度α;
步驟8,計(jì)算單晶硅棒實(shí)際的偏離距離d;
步驟9,確定樹脂板與單晶硅棒之間的相互偏移方向;
步驟10,在單晶硅棒的W端標(biāo)記出步驟9的方向和步驟8所計(jì)算的偏離距離d;
步驟11,根據(jù)單晶硅棒長(zhǎng)度,截取樹脂板長(zhǎng)度;
步驟12,固定晶體粘膠托板,并定位樹脂板的W1或T1端,移動(dòng)T1或W1端;
步驟13,通過偏離測(cè)量的卡尺移動(dòng)樹脂板未固定T1或W1端至步驟10所要偏離的距離d和步驟9所要偏移的方向,然后固定樹脂板移動(dòng)T1或W1端;
步驟14,采用工業(yè)酒精擦拭樹脂板表面和粘膠托板表面,利用粘膠劑將樹脂板粘連在晶體粘膠托板上;
步驟15,待樹脂板粘膠固化后,開始粘接硅棒于樹脂板上,采用工業(yè)酒精擦拭樹脂板粘膠凹槽面和單晶硅棒表面,利用粘膠劑將單晶硅棒粘連在樹脂板上,進(jìn)行多線切割。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種實(shí)現(xiàn)晶向偏離的單晶晶體的多線切割方法,其特征在于,所述步驟1中,具體為:打開X射線晶體定向儀,預(yù)熱10min~15min,打開高壓開關(guān),開始校準(zhǔn)機(jī)臺(tái)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種實(shí)現(xiàn)晶向偏離的單晶晶體的多線切割方法,其特征在于,所述步驟6中,α1和α2的計(jì)算過程如式(1)及式(2)所示;
α1=θ1-β??????????????(1);
α2=θ2-β??????????????(2)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種實(shí)現(xiàn)晶向偏離的單晶晶體的多線切割方法,其特征在于,所述步驟7中,晶向偏離度θ根據(jù)公式(3)計(jì)算;偏離角度α的計(jì)算公式如式(4)所示;
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種實(shí)現(xiàn)晶向偏離的單晶晶體的多線切割方法,其特征在于,所述步驟8中,單晶硅棒實(shí)際的偏離距離d通過公式(5)或(6)計(jì)算:
d=Rsinα(6);
其中,R為單晶硅棒實(shí)際長(zhǎng)度。
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