[發明專利]一種涂層支架及其制備方法有效
| 申請號: | 202110981518.8 | 申請日: | 2021-08-25 |
| 公開(公告)號: | CN113648114B | 公開(公告)日: | 2022-06-24 |
| 發明(設計)人: | 成立萍;趙振心 | 申請(專利權)人: | 心凱諾醫療科技(上海)有限公司 |
| 主分類號: | A61F2/90 | 分類號: | A61F2/90;A61F2/94;A61L31/10;A61L31/14;A61L31/16;A61M31/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 201318 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 涂層 支架 及其 制備 方法 | ||
1.一種涂層支架(1),所述的涂層支架呈網狀結構(2),其特征在于:所述的網狀結構由三層結構組成,內層為支架層(3)、中間層為抗凝血改性層(4)、最外層為納米短肽涂層(5);所述的抗凝血改性層的厚度不大于200nm;所述的納米短肽涂層為不連續的排列;所述涂層支架的制備方法的具體步驟如下:
(1)支架層的加工:支架層經編織機編織而成;
(2)等離子體沉積構建抗凝血改性層:對加工完成的支架層進行氧等離子體輝光放電處理:放電功率為20-300W,處理時間為2-30min,氧氣流量為100ml/min~800ml/min;將氧處理后的支架層與多元醇或含羧酸官能團的物質進行反應;反應完成后繼續進行羧基活化處理:最后再將活化后的支架層進行抗凝血物質的等離子沉積改性:等離子沉積溫度為10~180℃,輝光放電沉積時間為2min-45min,放電功率為50-300W;
(3)短肽涂層:對表面修飾改性的抗凝血改性層,繼續進行短肽的間斷不連續的噴涂,使短肽利用共價鍵與抗凝血改性層進行反應。
2.根據權利要求1所述的涂層支架,其特征在于:所述網狀結構的內層由直徑為0.01mm~0.60mm的金屬或高分子絲構成;所述涂層支架直徑為1.0~30.0mm。
3.根據權利要求1所述的涂層支架,其特證在于:所述的抗凝血改性層為肝素、聚乙二醇、磷酸膽堿、羥乙基纖維素、殼聚糖及殼聚糖衍生物、白蛋白中的一種或幾種的混合物。
4.根據權利要求1所述的涂層支架,其特征在于:所述的納米短肽涂層為具有促進血管內膜再生的納米短肽RGD、YIGSR、REDV、CAG、SVVYGLR中的一種或幾種混合物。
5.根據權利要求1所述的涂層支架,其特征在于所述的納米短肽涂層的厚度為10-200nm。
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