[發(fā)明專利]顯示面板和顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110972788.2 | 申請日: | 2021-08-24 |
| 公開(公告)號: | CN114628404B | 公開(公告)日: | 2023-02-14 |
| 發(fā)明(設計)人: | 王世龍;趙二瑾;青海剛;肖云升;于子陽;蔣志亮;胡明 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/12 | 分類號: | H01L27/12 |
| 代理公司: | 北京律智知識產(chǎn)權代理有限公司 11438 | 代理人: | 王輝;闞梓瑄 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 面板 顯示裝置 | ||
本公開提供了一種顯示面板和顯示裝置,屬于顯示技術領域。該顯示面板包括襯底基板,包括顯示區(qū),顯示區(qū)包括主顯示區(qū)和位于主顯示區(qū)一側的扇出引線區(qū);驅動層,包括晶體管和數(shù)據(jù)線;扇出引線層,與數(shù)據(jù)線連接,包括行引線和列引線;虛設金屬線層,包括多條第一行虛設金屬線和多條第一列虛設金屬線,至少相鄰兩條行引線之間設有至少一條第一列虛設金屬線,至少相鄰兩條列引線之間設有至少一條第一行虛設金屬線,相鄰兩條扇出引線絕緣;第一觸控電極層,間隔排布的多條行延伸線,行延伸線沿行方向延伸;其中,行引線和第一行虛設金屬線至少部分區(qū)域被行延伸線覆蓋。本公開降低不同區(qū)域走線對外界光反射的差異,保證顯示面板的暗顯示效果。
技術領域
本公開涉及顯示技術領域,尤其涉及一種顯示面板和顯示裝置。
背景技術
現(xiàn)有技術中,扇出引線通常設置在顯示面板的非顯示區(qū),該種設計使得顯示面板的下邊框寬度較寬,不利于實現(xiàn)全面屏設設計。為解決該技術問題,相關技術中,將扇出(Fanout)引線設置在顯示區(qū),以此來降低顯示面板下邊框的寬度,從而增大顯示區(qū)的面積,達到全面屏設計效果。然而,當將扇出引線設置在顯示區(qū)時,會將顯示區(qū)大致分為兩個部分,即有扇出引線的區(qū)域和無扇出引線的區(qū)域。其中,有扇出引線的區(qū)域會比無扇出引線的區(qū)域多處部分金屬走線,這些金屬走線會反射外界環(huán)境光,造成顯示面板外觀不良。
所述背景技術部分公開的上述信息僅用于加強對本公開的背景的理解,因此它可以包括不構成對本領域普通技術人員已知的現(xiàn)有技術的信息。
發(fā)明內容
本公開的目的在于提供一種顯示面板,該顯示面板將扇出引線設置于顯示區(qū),在實現(xiàn)全面屏設計的同時降低不同區(qū)域走線對外界光反射的差異,保證顯示面板的暗顯示效果。
為實現(xiàn)上述發(fā)明目的,本公開采用如下技術方案:
根據(jù)本公開的第一個方面,提供一種顯示面板,包括:
襯底基板,包括顯示區(qū),所述顯示區(qū)包括主顯示區(qū)和位于所述主顯示區(qū)一側的扇出引線區(qū);
驅動層,設于所述襯底基板的一側,所述驅動層包括晶體管和數(shù)據(jù)線層,所述數(shù)據(jù)線層包括多條數(shù)據(jù)線,所述數(shù)據(jù)線和所述晶體管的源/漏極連接,所述數(shù)據(jù)線沿列方向延伸,沿行方向排列;
扇出引線層,位于所述扇出引線區(qū),包括多條間隔排布的扇出引線,所述扇出引線包括沿行方向延伸的行引線和沿列方向延伸的列引線,所述行引線的一端與所述數(shù)據(jù)線連接,所述行引線的另一端與所述列引線的一端連接,所述列引線的另一端延伸出所述扇出引線區(qū);
虛設金屬線層,與所述扇出引線層同層設置,所述虛設金屬線層包括第一虛設區(qū),所述第一虛設區(qū)位于所述扇出引線區(qū),所述第一虛設區(qū)包括多條沿行方向延伸的第一行虛設金屬線和多條沿列方向延伸的第一列虛設金屬線,至少相鄰兩條所述行引線之間設有至少一條所述第一列虛設金屬線,至少相鄰兩條所述列引線之間設有至少一條所述第一行虛設金屬線,相鄰兩條所述扇出引線絕緣;
發(fā)光層,設于所述虛設金屬線層背離所述襯底基板的一側,所述發(fā)光層包括多個發(fā)光器件;
第一觸控電極層,設于所述發(fā)光層背離所述襯底基板的一側,所述第一觸控電極層包括觸控電極走線和間隔排布的多條行延伸線,所述行延伸線沿行方向延伸,所述觸控電極走線在所述襯底基板上的正投影環(huán)繞在所述發(fā)光器件在所述襯底基板上的正投影的周圍;
其中,至少部分所述行引線和所述第一行虛設金屬線的長度不同,所述行引線在所述襯底基板上的正投影至少部分區(qū)域被所述行延伸線在所述襯底基板上的正投影所覆蓋,且所述第一行虛設金屬線在所述襯底基板上的正投影至少部分區(qū)域被所述行延伸線在所述襯底基板上的正投影所覆蓋。
在本公開的一種示例性實施例中,所述數(shù)據(jù)線層包括第一數(shù)據(jù)子區(qū)和第二數(shù)據(jù)子區(qū),所述第二數(shù)據(jù)子區(qū)沿行方向排列于所述第一數(shù)據(jù)子區(qū)的一側,所述數(shù)據(jù)線包括第一數(shù)據(jù)線和第二數(shù)據(jù)線,所述第一數(shù)據(jù)線位于所述第一數(shù)據(jù)子區(qū),所述第二數(shù)據(jù)線位于所述第二數(shù)據(jù)子區(qū);
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司,未經(jīng)京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110972788.2/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:氣囊設備
- 下一篇:一種鋰離子電池焊接質量的評估裝置和方法
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





