[發明專利]一種大口徑高精度光學元件膜層應力形變調控方法

有效

• 申請號: 202110959643.9
• 申請日: 2021-08-20
• 公開（公告）號: CN113655592B
• 公開（公告）日: 2023-03-31
• 發明（設計）人: 王晉峰;田杰
• 申請（專利權）人: 中國科學院國家天文臺南京天文光學技術研究所
• 主分類號: G02B7/185
• 分類號: G02B7/185;G02B7/00;G02B1/10
• 代理公司: 南京知識律師事務所 32207
• 代理人: 李湘群

1.一種大口徑高精度光學元件膜層應力形變調控方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟1：在光學元件的前表面進行主膜系的鍍制；

步驟2：在光學元件的后表面進行一次鍍膜，即鍍制用于抵消光學元件面形變化的抵消膜層；

步驟3：將光學元件放入具有離子束拋光功能的真空室，對后表面進行轟擊減薄，離子源均勻掃描光學元件后表面，使得材料可以被均勻的減薄，控制離子源的減薄厚度，根據面形精度控制需要，每減薄5nm-50nm，進行一次光學元件表面面形的檢測，直至接近或達到鍍膜前的面形精度；通過采用逐漸接近的均勻減薄方案，使面形可以受控的調整，使得光學元件接近或達到鍍膜前的面形精度，最大限度的保護后表面的面形精度。

2.根據權利要求1所述的一種大口徑高精度光學元件膜層應力形變調控方法，其特征在于，所述主膜系是用于實現光學系統功能的介質氧化物膜系。

3.根據權利要求2所述的一種大口徑高精度光學元件膜層應力形變調控方法，其特征在于，所述主膜系的種類包括分光膜、分色膜、高反膜。

4.根據權利要求1所述的一種大口徑高精度光學元件膜層應力形變調控方法，其特征在于，根據前表面膜系厚度和使用材料確定后表面用于抵消面形變化的膜層厚度。

5.根據權利要求4所述的一種大口徑高精度光學元件膜層應力形變調控方法，其特征在于，抵消膜層厚度為前表面膜系總厚度的一半。

6.根據權利要求4或5所述的一種大口徑高精度光學元件膜層應力形變調控方法，其特征在于，抵消膜層厚度為過正抵消，即光學元件面形發生反向變化。