[發明專利]一種異位反應Cr6+ 有效
| 申請號: | 202110954816.8 | 申請日: | 2021-08-19 |
| 公開(公告)號: | CN113578384B | 公開(公告)日: | 2023-07-18 |
| 發明(設計)人: | 逯子揚;周國生;于澤惠;宋旼珊;劉馨琳;徐陽銳;顏歡;王盼盼 | 申請(專利權)人: | 江蘇大學 |
| 主分類號: | B01J31/06 | 分類號: | B01J31/06;C02F1/30;C02F1/70;C02F1/72;C02F101/22;C02F101/34;C02F101/38 |
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| 地址: | 212013 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 反應 cr base sup | ||
本發明屬于環境材料合成技術領域,具體涉及一種異位反應Crsupgt;6+/supgt;離子印跡光催化膜的制備方法及其應用;具體步驟:首先制備得到HTNW和IM?CdS材料,然后將氧化型光催化劑無機基膜材料HTNW和還原型離子印跡光催化劑IM?CdS加入到去離子水中,并在室溫下超聲處理;然后將均勻溶液倒在濾膜上真空抽濾,待水分抽干后加入聚乙烯醇溶液繼續抽濾;隨后將淺黃色膜從濾膜上剝離,并通過真空干燥即可得到IM?Cd/HT膜材料。本發明的材料可以優先選擇性還原Crsupgt;6+/supgt;并協同光催化氧化四環素,兩種反應之間互不干擾,使Crsupgt;6+/supgt;和四環素在材料上以異位方式反應。
技術領域
本發明屬于環境材料合成技術領域,具體涉及一種異位反應Cr6+離子印跡光催化膜的制備方法,及其在不同的反應位點優先選擇性還原Cr6+和協同催化降解四環素殘留的應用。
背景技術
在工農業發展過程中,水污染問題日益突出,重金屬離子和抗生素殘留是目前水環境中比較嚴重的兩種污染物。在眾多重金屬離子中,Cr6+毒性高,同時更容易被人體吸收,并隨著食物鏈的富集,會導致癌癥、基因缺陷等嚴重疾病,應該優先被去除。同時,四環素作為一種廣譜性的抗生素被廣泛使用,其殘留在水體中較難徹底去除,長期存在易導致抗性基因的產生。因此有必要優先去除Cr6+同時去除四環素殘留。
光催化技術作為一種綠色的高級氧化技術能夠實現對Cr6+和抗生素殘留的去除。產生的光生電子將高毒性的Cr6+還原成低毒性的Cr3+,活性自由基能降四環素殘留降解成二氧化碳,水和無機物。近年來,有研究發現在有機污染物和Cr6+共存的情況下,可以有效提高光催化劑對有機污染物和Cr6+的協同去除效果。但仍存在一些問題,如光催化劑去除Cr6+和四環素的光催化方式不普遍,可能存在其他金屬離子的干擾等。此外,從經濟效益和環境保護的角度來看,粉末光催化材料的回收與再利用也是亟待解決的問題。
光催化膜技術是膜分離技術和光催化技術相結合的技術,也常用于去除水中的Cr6+和四環素殘留。膜材料還可以解決粉體材料的分離回收、循環利用等問題。此外,膜分離技術一方面可以截留去除污染物,具有能耗低、效率高的優點。另一方面,結合光催化技術不僅可以實現膜的自清潔和再利用,還可以利用光產生的電子和空穴來去除污染物,具有綠色和穩定的優點。與有機聚合物膜相比,無機膜具有優良的剛性、親水性、化學穩定性和機械穩定性,可在更惡劣的條件下使用。有報道無機TiO2納米線膜具有良好的穩定性,可以同時對污染物進行截留和光催化氧化。其中基底材料H2TinO2n+1·xH2O納米線(HTNW)長度為數十微米,含有大量羥基,易通過過濾方式成膜,具有良好親水性。更重要的是,由于其寬帶隙、低價帶,是一種典型的氧化型光催化劑,具有良好的氧化能力,可實現四環素的高效氧化降解。同時,為了有效地還原Cr6+,可以在HTNW體系中引入還原型光催化劑CdS。
異位反應可以同時實現還原型光催化劑對Cr6+的還原去除,以及氧化型光催化劑對四環素的氧化去除,從而分別達到兩種光催化劑最佳的還原和氧化性能。理論上,在同時去除Cr6+和四環素的過程中,光催化劑導帶中的強還原性電子可以還原高價態重金屬離子,價帶中的強氧化空穴可以氧化有機污染物。但在實際過程中,由于電子和空穴的非選擇性攻擊特性,很難有效地實現重金屬離子與有機污染物的同時作用。同時,溶液中Cr6+和四環素分布混亂,Cr6+很難僅存在于還原型光催化劑上,四環素也很難僅存在于氧化型光催化劑上。因此,倘若將Cr6+的還原反應被捕獲在CdS表面,四環素的降解反應僅限制于HTNW,能實現Cr6+與四環素的異位反應,并減少Cr6+與四環素之間的相互干擾。
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