[發(fā)明專利]一種功率模塊綁定線布局優(yōu)化設(shè)計(jì)方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110943710.8 | 申請日: | 2021-08-17 |
| 公開(公告)號: | CN113536600A | 公開(公告)日: | 2021-10-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 羅皓澤;陳宇;吳強(qiáng);李武華;何湘寧;夏原野;尹芹芹;吳建興 | 申請(專利權(quán))人: | 浙江大學(xué);杭州士蘭微電子股份有限公司 |
| 主分類號: | G06F30/20 | 分類號: | G06F30/20;G06F30/28;G06F113/08;G06F119/06;G06F119/08;G06F119/14 |
| 代理公司: | 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 33200 | 代理人: | 鄭海峰 |
| 地址: | 310058 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 功率 模塊 綁定 布局 優(yōu)化 設(shè)計(jì) 方法 | ||
1.一種功率模塊綁定線布局優(yōu)化設(shè)計(jì)方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1、基于功率模塊綁定線所采用的并排式、交錯式或疊層式布局類型與綁定落點(diǎn)以及綁定線根數(shù),將功率半導(dǎo)體芯片劃分為多元胞結(jié)構(gòu),將功率綁定線劃分為多線弧結(jié)構(gòu);
S2、由綁定線弧高、起弧角度、線徑與芯片寬度確認(rèn)線弧電阻,由芯片金屬層寬度、厚度與芯片長度確認(rèn)芯片水平金屬層電阻;
S3、由功率半導(dǎo)體芯片的摻雜濃度、幾何尺寸和溫度敏感參數(shù),建立與綁定線解耦的元胞電壓-電流-溫度物理模型,利用正溫度特性區(qū)元胞電壓對電流的導(dǎo)數(shù)的溫度線性化特征,提取元胞的溫度依賴性等效電阻;
S4、基于S2-S3建立具有綁定線弧和芯片金屬層電阻的三維多元胞電網(wǎng)絡(luò),依據(jù)所包含電流支路的數(shù)量對各元胞分類,編寫和求解任意數(shù)量的綁定落點(diǎn)和綁定線根數(shù)的電路方程組,獲得各元胞電流、線弧電流與各節(jié)點(diǎn)電壓;
S5、由S2所得綁定線弧電阻與S4所得線弧電流計(jì)算各線弧發(fā)熱功率,由S3所得元胞的溫度依賴性等效電阻與S4所得元胞電流計(jì)算各元胞發(fā)熱功率;
S6、基于功率模塊幾何尺寸、材料參數(shù)與邊界條件,分別計(jì)算各元胞和各線弧為芯片引入的二維溫升分布場,并全部線性疊加得到計(jì)及綁定線熱效應(yīng)的芯片各元胞溫度;
S7、判斷芯片各元胞溫度偏差小于預(yù)設(shè)值則認(rèn)定收斂,否則重復(fù)執(zhí)行步驟S3-S6直至收斂,即更新各元胞的溫度依賴性等效電阻,并執(zhí)行步驟S4-S6獲得更新的芯片各元胞溫度,所得溫度為計(jì)及綁定線熱效應(yīng)的芯片各元胞的電熱耦合迭代結(jié)果;
S8、從芯片各元胞溫度提取最高溫度和平均溫度為優(yōu)化目標(biāo),在綁定線工藝約束下遍歷布局類型與綁定落點(diǎn)數(shù)以及綁定線根數(shù),尋求綁定線布局最優(yōu)設(shè)計(jì)參數(shù),從而最終確立綁定線布局優(yōu)選方案。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的功率模塊綁定線布局優(yōu)化設(shè)計(jì)方法,其特征在于:所述步驟S1中,將功率半導(dǎo)體芯片劃分為多元胞結(jié)構(gòu),將功率綁定線劃分為多線弧結(jié)構(gòu),具體為:對于功率模塊而言,功率半導(dǎo)體芯片剔除柵極焊盤和邊緣終端后為有源區(qū),有源區(qū)由門極走線分隔開,在金屬層覆蓋后變?yōu)榭涉I合區(qū)域,該區(qū)域上對于所采用的任意并排式、交錯式或疊層式布局類型,具有M根綁定線,每根線有N個落點(diǎn);據(jù)此芯片可以劃分為N×M個多元胞結(jié)構(gòu),綁定線可以劃分為N×M個多線弧結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的功率模塊綁定線布局優(yōu)化設(shè)計(jì)方法,其特征在于:所述步驟S2具體為:將綁定線弧規(guī)則化為等腰三角形結(jié)構(gòu),則線弧電阻由綁定線弧高、起弧角度、線徑與芯片寬度確定;(M-1)個水平金屬層電阻由芯片金屬層寬度、厚度與芯片長度確定;忽略縱向金屬層電阻;線弧電阻Rwiren與水平金屬層電阻Rmetalm求解表達(dá)式如下:
其中,h為線弧高,d為線徑,ρAl為鋁綁定線電導(dǎo)率,Lchip、Wchip分別為芯片長度、寬度,M、N分別為綁定線根數(shù)與落點(diǎn)數(shù),tm為金屬層厚度,wm為金屬層寬度,ρmetal為芯片金屬層電導(dǎo)率。
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