[發明專利]一種卷繞鍍膜設備

有效

• 申請號: 202110938709.6
• 申請日: 2021-08-16
• 公開（公告）號: CN113621934B
• 公開（公告）日: 2023-06-23
• 發明（設計）人: 杜雪峰;郝明;李成林
• 申請（專利權）人: 遼寧分子流科技有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/54;C23C14/24;B08B5/02
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1.一種卷繞鍍膜設備，其特征在于：主要包括真空室、蒸發源、鍍膜主輥、移動式擋板系統、控制系統和真空系統；蒸發源設置在鍍膜主輥的下方，鍍膜主輥內部通有冷卻液，柔性基膜繞經鍍膜主輥時進行蒸發鍍膜；移動式擋板系統位于真空室內；移動式擋板系統包括移動擋板、豎直移動機構、橫向移動機構和清洗模塊；移動擋板為兩塊，分別位于鍍膜主輥的兩側；在真空室內為移動擋板設置有鍍膜遮擋相位、蒸發源屏蔽相位和清洗相位；移動擋板在控制系統的控制下、在豎直移動機構和橫向移動機構的作用下可分別進行豎直方向上的移動和橫向移動，移動至鍍膜遮擋相位、蒸發源屏蔽相位或清洗相位；清洗模塊位于移動擋板的下方，當移動擋板處于清洗相位時，由控制系統控制清洗模塊對移動擋板上的附著物進行真空環境下的在線清洗；

豎直移動機構包括導桿和豎直驅動電機，移動擋板安裝固定在可沿導桿滑動的豎直滑塊上，豎直驅動電機可驅動移動擋板做豎直方向上的移動；橫向移動機構包括滑軌和橫向驅動電機，導桿安裝固定在可沿滑軌滑動的橫向滑塊上，橫向驅動電機可通過驅動導桿帶動移動擋板做橫向移動；鍍膜遮擋相位位于鍍膜主輥的兩側靠近鍍膜主輥的位置；真空鍍膜時，移動擋板處于鍍膜遮擋相位；豎直移動機構包括遮擋限位開關；移動擋板向上移動至鍍膜遮擋相位時觸發遮擋限位開關，使移動擋板定位在鍍膜遮擋相位上，處于鍍膜遮擋相位上的移動擋板對蒸發鍍膜區域與真空室內的其它區域之間起到遮擋隔絕作用；移動擋板處于鍍膜遮擋相位時，移動擋板邊緣與鍍膜主輥之間的間隙控制在2mm以內，該間隙形成動密封，可有效實現蒸發鍍膜區域與真空室內的其它區域之間的遮擋和隔熱作用，防止蒸發過程中產生的高溫及蒸發材料對處于鍍膜主輥冷卻保護范圍之外的柔性薄膜造成損傷；

移動擋板內設置有隔熱夾層，隔熱夾層為選自真空隔熱腔、氣體隔熱腔、金屬氧化鋁夾層結構形式中的一種，該隔熱夾層可有效幫助移動擋板實現蒸發鍍膜區域與真空室內的其它區域之間的遮擋和隔熱作用，防止蒸發過程中產生的高溫及蒸發材料對處于鍍膜主輥冷卻保護范圍之外的柔性薄膜造成損傷；

蒸發源屏蔽相位位于蒸發源的正上方；當蒸發源停止工作時，由控制系統先控制一塊移動擋板由鍍膜遮擋相位移動至蒸發源屏蔽相位對尚有余熱的蒸發源進行屏蔽覆蓋，然后控制系統再控制另一塊移動擋板由鍍膜遮擋相位移動至清洗相位進行清洗；待蒸發源冷卻后，控制系統再控制處于蒸發源屏蔽相位的移動擋板移動至清洗相位進行清洗；

移動擋板的下表面為外凸的弧形曲面；清洗模塊的清洗作用面為與移動擋板的下表面互補的內凹的弧形曲面；在清洗作用面上布置有由多列噴嘴組成的噴嘴陣列，噴嘴的朝向為清洗作用面的法向方向；清洗相位位于接近清洗模塊的位置；清洗模塊對處于清洗相位的移動擋板進行清洗時，通過噴嘴陣列向移動擋板的下表面噴射干冰顆粒進行清洗；豎直移動機構包括清洗限位開關；移動擋板向下移動至清洗相位時觸發清洗限位開關，使移動擋板定位在清洗相位上，然后清洗模塊對移動擋板進行清洗；移動擋板處于清洗相位上時，移動擋板的下表面與清洗作用面之間的間距控制在25mm以內；

蒸發源為抽屜式結構，控制系統可控制將蒸發源拉出或推回真空室；移動擋板完成清洗后，在控制系統的控制下移動返回至鍍膜遮擋相位；控制系統根據蒸發源內蒸發物料的狀況控制啟動蒸發源進行真空鍍膜，或者控制將蒸發源拉出真空室進行維護及蒸發物料裝填，然后將蒸發源推回真空室，再啟動蒸發源進行真空鍍膜。

2.根據權利要求1所述的卷繞鍍膜設備，其特征在于：在清洗作用面上與弧形曲面母線垂直的一端設置有一排吹掃噴嘴，在清洗作用面上與這排吹掃噴嘴相對的一端設置有收集槽。

3.根據權利要求1所述的卷繞鍍膜設備，其特征在于：在清洗作用面的四個側邊上還設置有圍板，使清洗模塊對移動擋板進行清洗時形成一個相對獨立的空間；真空室外部還設置有干冰供應源，干冰供應源與清洗模塊相連接。

4.根據權利要求1所述的卷繞鍍膜設備，其特征在于：清洗模塊對處于清洗相位的移動擋板進行清洗時，通過吹掃噴嘴吹出的高壓氣體將落在清洗作用面上的清洗產物吹掃至收集槽中收集；噴嘴陣列噴射干冰顆粒進行清洗和吹掃噴嘴吹出高壓氣體進行吹掃交替進行；干冰顆粒噴射速度不低于9m/s。

5.根據權利要求1所述的卷繞鍍膜設備，其特征在于：豎直移動機構包括屏蔽限位開關；橫向移動機構包括橫移限位開關一和橫移限位開關二；移動擋板由鍍膜遮擋相位移動至蒸發源屏蔽相位時，首先向下移動觸發屏蔽限位開關，使移動擋板在豎直方向上停止移動，然后橫向移動機構帶動移動擋板做橫向移動，當移動擋板橫向移動至蒸發源屏蔽相位時觸發橫移限位開關二，使移動擋板定位在蒸發源屏蔽相位上對蒸發源進行屏蔽覆蓋；移動擋板處于蒸發源屏蔽相位時，移動擋板的下表面與蒸發源之間的間距控制在5-25mm范圍內；移動擋板由蒸發源屏蔽相位移至清洗相位時，首先橫向移動至觸發橫移限位開關一，使移動擋板在橫向上停止移動，然后豎直移動機構帶動移動擋板向下移動至清洗相位。