[發(fā)明專利]高光澤復(fù)合材料、其配方及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110874041.3 | 申請日: | 2021-07-30 |
| 公開(公告)號: | CN113462159A | 公開(公告)日: | 2021-10-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 肖升;吳沙鷗;鐘麗萍;劉崇禎;陳浩文 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳陶陶科技有限公司 |
| 主分類號: | C08L81/02 | 分類號: | C08L81/02;C08L71/12;C08L67/02;C08L33/12;C08L77/06;C08K9/04;C08K3/36 |
| 代理公司: | 深圳國新南方知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44374 | 代理人: | 李小東 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市前海深港合作區(qū)前*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光澤 復(fù)合材料 配方 及其 制備 方法 | ||
1.一種高光澤復(fù)合材料的配方,其特征在于,包括如下按重量份計(jì)的原料組分:晶體硅粉1~9份,樹脂1份;其中,所述樹脂包括聚苯硫醚、聚苯醚、聚甲基丙烯酸甲酯、聚鄰苯二酰胺以及聚對苯二甲酸乙二酯中的一種或多種,所述晶體硅粉經(jīng)過硅粉表面改性劑處理,所述硅粉表面改性劑的用量為所述晶體硅粉用量的0.1-10%,所述晶體硅粉的中位徑為500-2500nm。
2.一種高光澤復(fù)合材料的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括以下步驟:
步驟S1:將1~9份的晶體硅粉用0.1-10%的硅粉表面改性劑處理后,與1份的樹脂共混,得到共混料;
步驟S2:將共混料依次經(jīng)過干燥、密煉、造粒以及注塑成型,得到復(fù)合材料;
步驟S3:將所述復(fù)合材料經(jīng)熱處理以及拋光處理后,得到高光澤復(fù)合材料。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于,所述步驟S2還包括以下步驟:
將所述共混料在于120℃干燥3-6小時(shí),得到干燥料;
將所述干燥料放置于密煉機(jī)中于100~360℃下密煉1-10小時(shí),得到密煉料;
所述密煉料經(jīng)單螺桿造粒機(jī)在100~320℃下造粒,制得造粒料;
所述造粒料經(jīng)注塑機(jī)在150~400℃下注塑成型,得到所述復(fù)合材料。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于,在所述步驟S1中,所述硅粉表面改性劑包括芳香族羧酸或鹽類、芳香族酯類化合物、脂肪酸酯類化合物中的一種。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于,在所述步驟S3中,熱處理溫度為80-500℃,熱處理時(shí)間為0.05-30小時(shí)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于,所述熱處理包括熱等靜壓處理、溫等靜壓處理、熱壓處理以及無壓熱處理中的一種或多種。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于,在所述步驟S3中,所述拋光處理中的拋光時(shí)間為0.5-4小時(shí)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制備方法,其特征在于,所述拋光處理包括粗拋和精拋,所述精拋處理中的拋光介質(zhì)包括硅溶膠、氧化鋁以及金剛石中的一種。
9.一種高光澤復(fù)合材料,其特征在于,采用如權(quán)利要求2-8任一項(xiàng)所述的高光澤復(fù)合材料的制備方法制備得到。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的高光澤復(fù)合材料,其特征在于,所述高光澤復(fù)合材料在60°角下的光澤度為180-280GU,所述高光澤復(fù)合材料的密度為1.2-2.2g/cm3。
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