[發明專利]感測裝置及其制造方法

有效

• 申請號: 202110861483.4
• 申請日: 2021-07-29
• 公開（公告）號: CN113591687B
• 公開（公告）日: 2023-06-30
• 發明（設計）人: 黃郁涵;丘兆仟
• 申請（專利權）人: 友達光電股份有限公司
• 主分類號: G06V40/13
• 分類號: G06V40/13
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 陳小雯

本發明公開一種感測裝置及其制造方法。感測裝置的制造方法包括以下步驟。提供基板。形成圖案化半導體層于基板上。形成柵極絕緣層于基板上并覆蓋圖案化半導體層。形成柵極于柵極絕緣層上。形成層間介電層于基板上并覆蓋柵極及柵極絕緣層，且層間介電層具有暴露出部分圖案化半導體層的介電開口。形成第二導電材料層于層間介電層上。形成光感材料層于第二導電材料層上。通過光掩模以于基板上形成圖案化光致抗蝕劑層。通過圖案化光致抗蝕劑層移除部分的光感材料層以形成光感層，且移除部分的第二導電材料層以形成第一感測電極。形成第二感測電極于光感層上。

技術領域

本發明涉及一種半導體裝置及其制造方法，且特別是涉及一種感測裝置及其制造方法。

背景技術

隨著科技的進展，個人用電子設備的功能日益增加。舉例來說，現在市面上的手機往往除了通話功能以外，還包含了照相功能、錄影功能、記事功能、上網功能……等等生活中時常會使用的功能。在這些具備多功能的電子設備中，往往設置有感測裝置，感測裝置能偵測電子產品所處的環境的光線，除了能幫助使用者獲得更佳的拍照、錄影品質外，部分的感測裝置還能偵測使用者手指表面的起伏，使電子產品具備指紋識別的功能。

一般來說，感測裝置中的光感層與其下方的感測電極為不同光掩模工藝。然而，不同光掩模工藝之間常會有偏移產生。因此，為了降低偏移的影響，常會使光感層較其下方的感測電極內縮。如此一來，可能會降低光感層的感光面積，而使其感測裝置的感光能力降低。

發明內容

本發明提供一種感測裝置的制造方法，可以減少光掩模工藝，降低制造成本。

本發明提供一種感測裝置，可以具有優選感光能力，而可以具有優選的感測品質。

本發明的感測裝置的制作方法包括提供基板，形成圖案化半導體層于所述基板上，形成柵極絕緣層于所述基板上并覆蓋所述圖案化半導體層，形成柵極于所述柵極絕緣層上。形成層間介電層于所述基板上并覆蓋所述柵極及所述柵極絕緣層，且所述層間介電層具有暴露出部分所述圖案化半導體層的介電開口。形成第二導電材料層于所述層間介電層上，形成光感材料層于所述第二導電材料層上。通過光掩模以于所述基板上形成圖案化光致抗蝕劑層。通過所述圖案化光致抗蝕劑層移除部分的所述光感材料層以形成光感層，且移除部分的所述第二導電材料層以形成第一感測電極。形成第二感測電極于所述光感層上。

本發明的感測裝置包括基板、主動元件以及光感元件。所述主動元件設置于所述基板上，其中所述主動元件包括柵極、通道、源極及漏極。光感元件，設置于所述基板上，其中所述光感元件包括第一感測電極、第二感測電極及夾于所述第一感測電極及所述第二感測電極之間的光感層，其中所述第一感測電極電連接于所述漏極，且所述光感層的面積與所述第一感測電極的面積基本上相同。

本發明的另一感測裝置包括基板、主動元件以及光感元件。所述主動元件設置于所述基板上，其中所述主動元件包括柵極、通道、源極及漏極。光感元件，設置于所述基板上，其中所述光感元件包括第一感測電極、第二感測電極及夾于所述第一感測電極及所述第二感測電極之間的光感層，其中所述漏極完全重疊于所述第一感測電極。

基于上述，本發明的感測裝置通過在同一道光掩模下形成第一感測電極及感測層，與已知的工藝相比可減少一道光掩模的使用，進而可降低感測裝置的制造成本。且由本發明的感測裝置的制造方法所得的感測裝置，其具有較大面積的光感層，因此可以提升感測裝置的感光能力，并使感測裝置的品質提升。

附圖說明

圖1A至圖1H是本發明第一實施例的感測裝置的制造流程示意圖；

圖2是本發明第一實施例的感測裝置的部分上視示意圖。

符號說明

100:感測裝置

110:基板

120:緩沖層

130:圖案化半導體層