[發(fā)明專利]一種鉻鐵堿氧化反應(yīng)釜用高壓機(jī)械密封裝置

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• 申請日: 2021-07-23
• 公開（公告）號: CN113426375A
• 公開（公告）日: 2021-09-24
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 徐金梅
• 申請（專利權(quán)）人: 西安壹波流體科技有限責(zé)任公司
• 主分類號: B01J3/03
• 分類號: B01J3/03
• 代理公司: 北京首捷專利代理有限公司 11873
• 代理人: 梁婧宇

本發(fā)明涉及一種鉻鐵堿氧化反應(yīng)釜用高壓機(jī)械密封裝置，其轉(zhuǎn)動密封于反應(yīng)釜的轉(zhuǎn)軸上，包括冷卻法蘭座，其套設(shè)于轉(zhuǎn)軸底部，且固定于反應(yīng)釜的釜口法蘭上方，用于阻隔反應(yīng)釜向上傳遞的熱量；介質(zhì)端靜環(huán)座固定于冷卻法蘭座頂部；雙端面機(jī)械密封部通過密封座設(shè)置于介質(zhì)端靜環(huán)座頂部；密封座頂部固定有大氣端靜環(huán)座，大氣端靜環(huán)座、密封座、雙端面機(jī)械密封部及介質(zhì)端靜環(huán)座內(nèi)部形成密封腔；平衡罐第一端口通過管路連接至反應(yīng)釜，其第二端口通過管路連接密封腔的封液進(jìn)口，其第三端通過管路連接密封腔的封液出口，保持反應(yīng)釜、平衡罐及密封腔內(nèi)壓力平衡。平衡罐與釜內(nèi)和機(jī)械密封內(nèi)部相通，保證機(jī)械密封雙端面內(nèi)部壓力與反應(yīng)釜內(nèi)壓力一致，延長密封壽命。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及反應(yīng)釜密封技術(shù)領(lǐng)域，更具體的說是涉及一種鉻鐵堿氧化反應(yīng)釜用高壓機(jī)械密封裝置。

背景技術(shù)

鉻鹽是重要的無機(jī)化工產(chǎn)品，廣泛應(yīng)用于化工、輕工、冶金、防治、機(jī)械等行業(yè)。氧化反應(yīng)釜作為新一代“鉻鐵堿溶氧化制鉻酸鈉”的關(guān)鍵設(shè)備，現(xiàn)有的密封一般采用磁力密封，反應(yīng)過程中需要通入高純氧，反應(yīng)自身又產(chǎn)生大量氫氣，在高溫高壓下，反應(yīng)進(jìn)行到3-10小時，釜內(nèi)就會發(fā)生爆炸，導(dǎo)致磁力密封的內(nèi)磁鋼和軸承損壞，使得整個反應(yīng)過程終止，無法滿足正常生產(chǎn)的需求。

因此，如何提供一種鉻鐵堿氧化反應(yīng)釜用高壓機(jī)械密封裝置是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟需解決的問題。

發(fā)明內(nèi)容

為此，本發(fā)明的目的在于提出一種鉻鐵堿氧化反應(yīng)釜用高壓機(jī)械密封裝置，解決了現(xiàn)有磁力密封因爆炸而失效的問題。

本發(fā)明提供了一種鉻鐵堿氧化反應(yīng)釜用高壓機(jī)械密封裝置，其轉(zhuǎn)動密封于反應(yīng)釜的轉(zhuǎn)軸上，包括：

冷卻法蘭座，所述冷卻法蘭座套設(shè)于所述轉(zhuǎn)軸底部，且固定于所述反應(yīng)釜的釜口法蘭上方，用于阻隔反應(yīng)釜向上傳遞的熱量；

介質(zhì)端靜環(huán)座，所述介質(zhì)端靜環(huán)座固定于所述冷卻法蘭座頂部；

雙端面機(jī)械密封部，所述雙端面機(jī)械密封部通過密封座設(shè)置于所述介質(zhì)端靜環(huán)座頂部；

大氣端靜環(huán)座，所述密封座頂部固定有所述大氣端靜環(huán)座，所述大氣端靜環(huán)座、所述密封座、所述雙端面機(jī)械密封部及所述介質(zhì)端靜環(huán)座內(nèi)部形成密封腔；以及

平衡罐，所述平衡罐第一端口通過管路連接至反應(yīng)釜，其第二端口通過管路連接所述密封腔的封液進(jìn)口，其第三端通過管路連接所述密封腔的封液出口，保持反應(yīng)釜、所述平衡罐及所述密封腔內(nèi)壓力平衡。

經(jīng)由上述的技術(shù)方案可知，與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明公開提供了一種鉻鐵堿氧化反應(yīng)釜用高壓機(jī)械密封裝置，平衡罐與釜內(nèi)和機(jī)械密封內(nèi)部相通，保證機(jī)械密封雙端面內(nèi)部壓力與反應(yīng)釜內(nèi)壓力一致，延長密封壽命。

進(jìn)一步地，所述冷卻法蘭座內(nèi)部具有夾套，所述冷卻法蘭座上開設(shè)有與所述夾套連通的冷卻水進(jìn)口和冷卻水出口。

進(jìn)一步地，所述冷卻法蘭座與所述轉(zhuǎn)軸之間設(shè)置有節(jié)流套。

進(jìn)一步地，所述介質(zhì)端靜環(huán)座內(nèi)部設(shè)置有向上凸起的環(huán)形凸臺，所述轉(zhuǎn)軸對應(yīng)所述環(huán)形凸臺位置設(shè)置有向下凹陷的環(huán)形凹槽，所述環(huán)形凸臺與所述環(huán)形凹槽插接形成一定浮動間隙；所述介質(zhì)端靜環(huán)座上一側(cè)開設(shè)有沖洗液進(jìn)口，所述封液進(jìn)口設(shè)置于所述介質(zhì)端靜環(huán)座另一側(cè)。

進(jìn)一步地，所述大氣端靜環(huán)座上開設(shè)有用于監(jiān)測所述密封腔壓力的監(jiān)測口；所述封液出口設(shè)置于所述大氣端靜環(huán)座上，且與所述監(jiān)測口錯開布置。

進(jìn)一步地，所述雙端面機(jī)械密封部包括大氣端靜環(huán)、介質(zhì)端靜環(huán)、介質(zhì)端動環(huán)及大氣端動環(huán)，所述介質(zhì)端靜環(huán)固定于所述介質(zhì)端靜環(huán)座頂部，所述大氣端靜環(huán)固定于所述大氣端靜環(huán)座底部，所述介質(zhì)端動環(huán)和所述大氣端動環(huán)通過螺釘固定于所述轉(zhuǎn)軸上。