[發明專利]陣列基板、陣列基板的制造方法和顯示面板

在審

• 申請號: 202110837032.7
• 申請日: 2021-07-23
• 公開（公告）號: CN113571535A
• 公開（公告）日: 2021-10-29
• 發明（設計）人: 彭利滿;劉亮亮;白妮妮;閆曉峰;薛智勇
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
• 主分類號: H01L27/12
• 分類號: H01L27/12;H01L21/77;H01L27/32
• 代理公司: 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138
• 代理人: 楊廣宇

1.一種陣列基板，其特征在于，所述陣列基板包括：

襯底基板；

位于所述襯底基板上的第一導電圖案；

第一絕緣層，所述第一絕緣層位于所述第一導電圖案遠離所述襯底基板的一側，所述第一絕緣層具有凸起結構；

絕緣圖案，所述絕緣圖案位于所述第一絕緣層遠離所述襯底基板的一側，所述絕緣圖案在所述襯底基板上的正投影，與所述第一絕緣層的凸起結構的側面在所述襯底基板上的正投影存在交疊；

第二導電圖案，所述第二導電圖案位于所述絕緣圖案遠離所述襯底基板的一側，所述第二導電圖案在所述襯底基板上的正投影與所述第一導電圖案在所述襯底基板上的正投影存在交疊。

2.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述第一絕緣層的凸起結構包括與所述側面連接的頂面；

所述絕緣圖案包括位于所述凸起結構的頂面上的第一絕緣圖案以及位于所述側面的第二絕緣圖案，所述第一絕緣圖案和所述第二絕緣圖案連接。

3.根據權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述第一絕緣圖案位于所述凸起結構的頂面的邊緣區域，所述邊緣區域為所述頂面與所述側面連接的邊緣向所述頂面的中心延伸指定距離的區域。

4.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述第一絕緣層在所述凸起結構上具有裂縫，所述絕緣圖案包括位于所述裂縫中的填充物。

5.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述絕緣圖案的材料包括光刻膠。

6.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述第一導電圖案與所述第二導電圖案包括電容結構的兩個極板。

7.一種陣列基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：

獲取襯底基板；

在所述襯底基板上依次形成第一導電圖案以及第一絕緣層，所述第一絕緣層上具有凸起結構；

在形成有所述第一絕緣層的襯底基板上形成絕緣材料層；

對所述絕緣材料層進行處理，以形成絕緣圖案，所述絕緣圖案在所述襯底基板上的正投影，與所述第一絕緣層的凸起結構的側面在所述襯底基板上的正投影存在交疊；

在形成有所述絕緣圖案的襯底基板上形成第二導電圖案，所述第二導電圖案在所述襯底基板上的正投影與所述第一導電圖案在所述襯底基板上的正投影存在交疊。

8.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，所述對所述絕緣材料層進行處理，以形成絕緣圖案，包括：

以目標掩膜板作為掩膜，對所述絕緣材料層進行曝光；

通過顯影液對曝光后的絕緣材料層進行處理，以形成所述絕緣圖案。

9.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，所述第一絕緣層在所述凸起結構上具有裂縫，所述絕緣圖案包括位于所述裂縫中的填充物，

所述對所述絕緣材料層進行處理，以形成絕緣圖案，包括：

對所述絕緣材料層進行曝光；

通過顯影液對曝光后的絕緣材料層進行處理，以形成位于所述裂縫中的填充物。

10.一種顯示面板，其特征在于，所述顯示面板包括權利要求1至6任一所述的陣列基板。