[發明專利]一種除甲醛瓷磚及其制備方法

有效

• 申請號: 202110792980.3
• 申請日: 2021-07-14
• 公開（公告）號: CN113248287B
• 公開（公告）日: 2021-10-08
• 發明（設計）人: 何江贊
• 申請（專利權）人: 佛山瑭虹釉料科技有限公司
• 主分類號: C04B41/89
• 分類號: C04B41/89;C04B41/86;C04B41/53;C03C8/16;B01J23/89;B01J21/06;B01J37/08;B01J33/00;B01J32/00;C09G1/02
• 代理公司: 深圳市君勝知識產權代理事務所(普通合伙) 44268
• 代理人: 朱陽波

1.一種除甲醛瓷磚的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

S1.制備光催化材料A：取摻銅釩酸鉍、摻鉑氧化鈦、納米氧化鋅、納米氧化鎂、懸浮劑、粘結劑和水混入球磨機中球磨，得光催化材料A；

S2.制備光催化包裹材料B：取氧化鋁和氧化硅混合，將光催化材料A噴在混合均勻的氧化鋁和氧化硅的表面，烘干、煅燒后破碎，得光催化包裹材料B；

S3.制備光催化釉料C：取光催化包裹材料B、熔塊、燒滑石、鈉長石、鉀長石、硅灰粉、球黏土、霞石粉、石英、碳酸鈣、氧化鋅、懸浮劑、粘結劑和水混入球磨機中球磨，得光催化釉料C；

S4.制備面釉D；

S5.制備拋光液E：將納米硅溶膠和光催化材料A混合，得拋光液E；

S6.施釉：將面釉D布施在磚面上；將光催化釉料C布施在面釉D上；烘干、燒制成型；

S7.拋光：對步驟S6中的磚面磨邊、第一次拋光后使用拋光液E進行第二次拋光；

按重量份計算，所述熔塊包括：15～20份氧化硅、50～55份氧化鋁、0.1～0.5份氧化鐵、3～5份氧化鈦、11～12份氧化鈣、6～9份氧化鎂、1～2份氧化鈉、1～2份氧化鉀、3～4份氧化鋇和1～1.5份氧化鋅。

2.根據權利要求1所述的除甲醛瓷磚的制備方法，其特征在于，按重量份計算，所述步驟S1中的光催化材料A包括：5～8份摻銅釩酸鉍、1～2份摻鉑氧化鈦、12～16份納米氧化鋅、10～15份納米氧化鎂、0.15～0.2份懸浮劑、0.4份粘結劑和100份水。

3.根據權利要求1所述的除甲醛瓷磚的制備方法，其特征在于，按重量份計算，所述步驟S2中的光催化包裹材料B包括：50～60份氧化鋁、40～50份氧化硅和30～40份光催化材料A。

4.根據權利要求1所述的除甲醛瓷磚的制備方法，其特征在于，按重量份計算，所述步驟S3中的光催化釉料C包括：2～5份光催化包裹材料B、10～13份熔塊、10～15份燒滑石、20～25份鈉長石、5～8份鉀長石、20～25份硅灰粉、8～10份球黏土、5～8份霞石粉、8～10份石英、11～15份碳酸鈣、2～5份氧化鋅、0.15～0.2份懸浮劑、0.4份粘結劑和30份水。

5.根據權利要求1所述的除甲醛瓷磚的制備方法，其特征在于，所述步驟S1球磨后的料需過600目篩，篩余量為0.3%～0.5%，釉漿的比重為1.0～1.10；所述步驟S2破碎后的料需過325目篩，篩余量為0.1%～0.2%；所述步驟S3球磨后的料需過400目篩，篩余量為0.3%～0.5%；釉漿的比重為1.48～1.50。

6.根據權利要求1所述的除甲醛瓷磚的制備方法，其特征在于，所述步驟S6中面釉D的布施量為500～600 g/m³，光催化釉料C的布施量為300～400 g/m³；在1100～1150℃溫度下，燒成時間為54min的條件下燒制成型。

7.根據權利要求1所述的除甲醛瓷磚的制備方法，其特征在于，所述步驟S5中的拋光液E的納米硅溶膠和光催化材料A的重量比為（8～9）∶（1～2）。

8.根據權利要求7所述的除甲醛瓷磚的制備方法，其特征在于，所述步驟S7的具體步驟為：第一次拋光后磚面的光澤度為45～55°，然后用滴管將拋光液E滴在磚面上，滴加量為50～60g/m²；在壓力為42～45MPA，拋光線速為50.68HZ，轉速為900r/min的條件下進行拋壓。

9.一種除甲醛瓷磚，其特征在于，由權利要求1～8任一項所述的除甲醛瓷磚的制備方法制得，所述除甲醛瓷磚從下至上依次包括：磚坯層、面釉層、光催化釉料層和光亮面層；所述面釉層由面釉D布施而成；所述光催化釉料層由光催化釉料C布施而成；所述光亮面層由拋光液E拋壓而成。