[發(fā)明專利]特征底庫構建、特征檢索方法以及相關裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110750680.9
• 申請日: 2021-07-02
• 公開（公告）號: CN113255610B
• 公開（公告）日: 2022-02-18
• 發(fā)明（設計）人: 楊凱航
• 申請（專利權）人: 浙江大華技術股份有限公司
• 主分類號: G06V40/16
• 分類號: G06V40/16;G06K9/62;G06V10/74
• 代理公司: 深圳市威世博知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 44280
• 代理人: 黎堅怡

1.一種特征底庫構建方法，其特征在于，包括：

從特征底庫中待插入特征的最高目標層的上一層中，確定所述最高目標層的第一入口特征；

基于所述第一入口特征在所述最高目標層中搜索得到所述待插入特征的第一匹配特征，將所述第一匹配特征與所述待插入特征建立關聯(lián)；

響應于所述最高目標層的上一層中的所述第一匹配特征數(shù)量未達預設數(shù)量，確定所述最高目標層的上一層的第二入口特征，基于所述第二入口特征在所述最高目標層的上一層中搜索得到所述待插入特征的第二匹配特征，將所述第二匹配特征與所述待插入特征建立關聯(lián)；

遍歷數(shù)據(jù)庫中的所有所述待插入特征，將所有所述待插入特征插入至特征底庫中，以完成所述特征底庫的構建。

2.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征在于，所述響應于所述最高目標層的上一層中的所述第一匹配特征數(shù)量未達預設數(shù)量，確定所述最高目標層的上一層的第二入口特征，基于所述第二入口特征在所述最高目標層的上一層中搜索得到所述待插入特征的第二匹配特征的步驟還包括：

響應于所述最高目標層的上一層中不具有所述待插入特征，且響應于所述最高目標層的上一層中所述第一匹配特征數(shù)量未達到預設數(shù)量，確定所述最高目標層的上一層的第二入口特征，基于所述第二入口特征在所述最高目標層的上一層中搜索得到所述待插入特征的第二匹配特征。

3.根據(jù)權利要求2所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

響應于所述最高目標層的上一層中具有所述待插入特征，或者響應于所述最高目標層的上一層中不具有所述待插入特征，且響應于所述最高目標層的上一層中所述第一匹配特征數(shù)量達到預設數(shù)量，確定所述最高目標層的下一層的第三入口特征，基于所述第三入口特征在所述最高目標層的下一層中搜索得到所述待插入特征的第三匹配特征。

4.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征在于，所述從特征底庫中所述待插入特征的最高目標層的上一層中，確定所述最高目標層的第一入口特征的步驟，包括：

利用貪婪搜索的方式從所述特征底庫的最高層至所述最高目標層的上一層中進行搜索，以得到確定所述第一入口特征。

5.一種特征檢索方法，其特征在于，所述方法包括：

獲取待檢索特征；

從特征底庫的最底層的上一層中確定與所述待檢索特征匹配的第一特征集合，所述第一特征集合中包括與所述待檢索特征匹配的多個特征；所述特征底庫為通過上述權利要求1~4任一項所述的特征底庫的構建方法構建而成的；

以所述第一特征集合中至少兩個所述特征作為所述特征底庫的最底層的搜索入口，從所述特征底庫的最底層檢索與所述待檢索特征匹配的第二特征集合。

6.根據(jù)權利要求5所述的方法，其特征在于，所述從所述特征底庫的最底層的上一層中確定與所述待檢索特征匹配的第一特征集合的步驟之前，之前包括：

以預設搜索入口從所述特征底庫的最高層檢索與所述待檢索特征匹配度最高的特征，以作為所述特征底庫的最高層的下一層的當前搜索入口；

以所述當前搜索入口，從所述特征底庫的最高層的下一層檢索與所述待檢索特征匹配度最高的特征。

7.根據(jù)權利要求5所述的方法，其特征在于，所述以所述第一特征集合中至少兩個所述特征作為所述特征底庫的最底層的搜索入口，從所述特征底庫的最底層檢索與所述待檢索特征匹配的第二特征集合的步驟，包括：

計算所述第一特征集合中每一所述特征與所述待檢索特征的相似度；

從所述第一特征集合中選擇相似度最高的至少兩個所述特征作為所述特征底庫的最底層的搜索入口，從所述特征底庫的最底層檢索與所述待檢索特征匹配的第二特征集合。

8.根據(jù)權利要求5所述的方法，其特征在于，所述以所述第一特征集合中至少兩個所述特征作為所述特征底庫的最底層的搜索入口，從所述特征底庫的最底層檢索與所述待檢索特征匹配的第二特征集合的步驟，包括：

以所述第一特征集合中至少兩個所述特征作為所述特征底庫的最底層的搜索入口，同時從所述特征底庫的最底層檢索與所述待檢索特征匹配的第二特征集合。