[發明專利]一種4-羥甲基苯硼酸的制備方法

有效

• 申請號: 202110750234.8
• 申請日: 2021-07-01
• 公開（公告）號: CN113354675B
• 公開（公告）日: 2023-04-14
• 發明（設計）人: 岳剛;王志強;丁秋月;禹凱;王利民;陳少華;張力;關登仕;王麗亞
• 申請（專利權）人: 寧夏中星顯示材料有限公司
• 主分類號: C07F5/02
• 分類號: C07F5/02
• 代理公司: 河北國維致遠知識產權代理有限公司 13137
• 代理人: 墨偉

本發明涉及有機合成技術領域，具體公開一種4?羥甲基苯硼酸的制備方法。所述制備方法以對溴芐醇為原料，經羥基保護，格氏反應制備格氏試劑，然后利用制備得到的格氏試劑與硼化試劑進行加成反應，最后通過酸性離子液體進行水解脫保護，制備得到目標產品4?羥甲基苯硼酸。本發明提供的制備方法能夠保證4?羥甲基苯硼酸在水解條件下穩定存在，減少副反應的發生，使得產品總收率可達到80％以上，HPLC含量大于99.5％，且原料易得，操作簡單，安全性高，實現了4?羥甲基苯硼酸的工業化生產。

技術領域

本發明涉及有機合成技術領域，尤其涉及一種4-羥甲基苯硼酸的制備方法。

背景技術

4-羥甲基苯硼酸是一個重要的液晶中間體、醫藥中間體、化工原料中間體、高分子中間體和抗氧化劑。近年來隨著液晶、醫藥等行業的高速發展，也大大增加了對4-羥甲基苯硼酸的需求量。

目前，4-羥甲基苯硼酸主要有以下幾種合成路線：

第一種是4-溴苯甲醛與乙二醇在酸催化劑條件下進行縮醛化反應得式II所示的4-溴苯甲醛乙二醇縮醛，進一步得到式III所示的4-[2-(1,3-二氧雜)環戊烷基]苯硼酸，水解得式IV所示的4-甲酰基苯硼酸，還原得到4-羥甲基苯硼酸。該路線的缺點在于反應路線過長，縮醛結構不穩定，還原工藝復雜，總收率低，純度難以達到技術要求。

第二種是4-溴芐醇與二氫吡喃反應得式V所示的4-溴芐醇四氫吡喃醚，在低溫下再經丁基鋰鋰化制備式VI所示的4-鋰芐醇四氫吡喃醚，進而制備式VII所示的4-四氫吡喃氧亞甲基苯硼酸，水解脫保護制備4-羥甲基苯硼酸。該路線的缺點在于采用昂貴的丁基鋰試劑，并需要特定的低溫條件以及特定的設備，工藝難度高，成本高，不易實現工業化生產。

第三種為4-羥甲基溴苯直接用兩倍以上當量的丁基鋰鋰化制備4-羥甲基苯硼酸，但是該工藝難度大，成本高，不適宜工業化生產。

第四種為采用連二硼酸在特定貴金屬催化劑的條件下與4-羥甲基氯苯或者4-羥甲基溴苯直接制備4-羥甲基苯硼酸，該路線的缺點在于產生副產品4-甲酰基苯硼酸，且催化劑昂貴不易得，收率低，成本高。

此外，還有以對溴苯酚為原料，硅氧基保護后脫保護制備對羥基苯硼酸的相關文獻報道，但是，對羥甲基苯硼酸極易產生各種副反應，生成大量不明雜質，導致收率降低，純度不達標。因此，研發一種操作簡便，制備成本低且產品純度高的4-羥甲基苯硼酸的新的合成路線具有十分重要的意義。

發明內容

針對現有制備4-羥甲基苯硼酸的工藝存在收率低、純度低以及制備成本高等問題，本發明提供一種4-羥甲基苯硼酸的制備方法。

為達到上述發明目的，本發明實施例采用了如下的技術方案：

一種4-羥甲基苯硼酸的制備方法，所述制備方法包括以下步驟：

將對溴芐醇與羥基保護劑進行反應，得到式I所示的化合物I；

將所述化合物I經格氏反應、加成反應、酸性離子液體水解脫保護，得到所述4-羥甲基苯硼酸；

上述式I中，PG代表羥基保護基。

上述制備方法的反應過程如下：

相對于現有技術，本發明提供的制備方法具有以下優勢：