[發明專利]一種光照處理方法、裝置、電子設備及存儲介質在審
| 申請號: | 202110727108.0 | 申請日: | 2021-06-29 |
| 公開(公告)號: | CN113313811A | 公開(公告)日: | 2021-08-27 |
| 發明(設計)人: | 華樹程 | 申請(專利權)人: | 完美世界(北京)軟件科技發展有限公司 |
| 主分類號: | G06T15/50 | 分類號: | G06T15/50;G06T15/00 |
| 代理公司: | 北京華夏泰和知識產權代理有限公司 11662 | 代理人: | 沈園園 |
| 地址: | 100085 北京市海淀*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 光照 處理 方法 裝置 電子設備 存儲 介質 | ||
1.一種光照處理方法,其特征在于,包括:
獲取虛擬場景所在第一光照通道中的主光源對應的第一主光照參數;
根據所述第一主光照參數,確定虛擬角色所在第二光照通道中的所述主光源對應的第二主光照參數,其中,所述虛擬角色與所述虛擬場景所在光照通道不同;
設置所述第二主光照參數作為光照著色計算的輸入參數;
根據所述輸入參數進行光照著色計算,得到所述虛擬角色的光照著色參數;
通過渲染管道,根據所述光照著色參數對所述虛擬角色進行渲染。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述根據所述輸入參數進行光照著色計算,得到所述虛擬角色的光照著色參數,包括:
獲取所述主光源及所述虛擬角色分別對應的二進制掩碼;
基于所述二進制掩碼確定所述主光源及所述虛擬角色所處光照通道;
比較所述主光源及所述虛擬角色所處光照通道的層級,得到高層級光照通道;
根據所述高層級光照通道對應的主光照參數,計算所述光照通道中的虛擬角色的光照著色參數。
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述根據所述第一主光照參數,確定虛擬角色所在第二光照通道中所述主光源對應的第二主光照參數,包括:
獲取所述虛擬角色的對象特征,所述對象特征包括以下至少一項特征:所述虛擬角色在所述虛擬場景中的位置,所述虛擬角色與所述主光源的距離,所述虛擬角色的類別,所述第二光照通道中所述虛擬角色的個數;
根據所述對象特征,確定所述第二主光照參數。
4.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:
添加輔助光源;
根據從后期處理盒子中獲取到的輔助光源參數,確定所述輔助光源在目標光照通道對應的輔助光照參數,所述輔助光源對應的目標虛擬角色位于所述目標光照通道中,所述輔助光源參數包括輔助光對應的以下至少一項信息:在Right軸上的旋轉角度、在Up軸上的旋轉角度、光照強度縮放倍數、高光強度縮放倍數、陰影強度、光照強度上限及光照強度下限;
設置所述輔助光照參數作為所述光照著色計算的輸入參數。
5.根據權利要求4所述的方法,其特征在于,所述根據從后期處理盒子中獲取到的輔助光源參數,確定所述輔助光源在目標光照通道對應的輔助光照參數,包括:
獲取所述目標光照通道上對應的主光照參數;
根據所述輔助光源參數及所述主光照參數,確定所述輔助光照參數。
6.根據權利要求5所述的方法,其特征在于,所述根據所述輔助光源參數及所述主光照參數,確定所述輔助光照參數,包括:
根據所述主光照參數獲取主光照顏色及主光照強度;
根據所述主光照顏色確定輔助光顏色;
根據所述主光照強度及所述輔助光的光照強度縮放倍數計算輔助光照強度,和/或,根據所述主光照強度及所述輔助光的高光強度縮放倍數計算輔助高光強度;
根據所述輔助光照強度和/或所述輔助高光強度,以及所述輔助光顏色,得到所述輔助光照參數。
7.根據權利要求5所述的方法,其特征在于,當所述目標光照通道上存在多個主光源時,所述根據所述輔助光源參數及所述主光照參數,確定所述輔助光照參數,包括:
根據多個所述主光源對應的主光照參數及所述輔助光源參數,分別得到多個輔助光照參數;
將所述多個輔助光照參數進行累加,得到所述目標光照通道對應的輔助光照參數。
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