[發(fā)明專利]一種具有組合柱狀結(jié)構(gòu)的紅外探測(cè)器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110711255.9 | 申請(qǐng)日: | 2021-06-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113432726B | 公開(公告)日: | 2023-03-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 翟光杰;潘輝;武佩;翟光強(qiáng) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京北方高業(yè)科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01J5/24 | 分類號(hào): | G01J5/24 |
| 代理公司: | 北京開陽星知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11710 | 代理人: | 安偉 |
| 地址: | 100070 北京市豐臺(tái)*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 具有 組合 柱狀 結(jié)構(gòu) 紅外探測(cè)器 | ||
本公開涉及一種具有組合柱狀結(jié)構(gòu)的紅外探測(cè)器,紅外探測(cè)器中,CMOS測(cè)量電路系統(tǒng)和CMOS紅外傳感結(jié)構(gòu)均使用CMOS工藝制備,第一柱狀結(jié)構(gòu)位于反射層與梁結(jié)構(gòu)之間,第二柱狀結(jié)構(gòu)位于吸收板與梁結(jié)構(gòu)之間,吸收板和梁結(jié)構(gòu)均包括電極層和至少兩層介質(zhì)層,第一柱狀結(jié)構(gòu)為實(shí)心柱狀結(jié)構(gòu),第二柱狀結(jié)構(gòu)為空心柱狀結(jié)構(gòu),第二柱狀結(jié)構(gòu)至少包括電極層;或者第一柱狀結(jié)構(gòu)為空心柱狀結(jié)構(gòu),第二柱狀結(jié)構(gòu)為實(shí)心柱狀結(jié)構(gòu),第一柱狀結(jié)構(gòu)至少包括電極層。通過本公開的技術(shù)方案,解決了傳統(tǒng)MEMS工藝紅外探測(cè)器的性能低,像素規(guī)模低,良率低以及一致性差的問題,有利于減小空心柱狀結(jié)構(gòu)的熱導(dǎo)以及提高紅外探測(cè)器的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性,增加吸收板面積,提升紅外探測(cè)器的紅外探測(cè)靈敏度。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開涉及紅外探測(cè)技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種具有組合柱狀結(jié)構(gòu)的紅外探測(cè)器。
背景技術(shù)
監(jiān)控市場(chǎng)、車輔市場(chǎng)、家居市場(chǎng)、智能制造市場(chǎng)以及手機(jī)應(yīng)用等領(lǐng)域都對(duì)非制冷高性能的芯片有著強(qiáng)烈的需求,且對(duì)芯片性能的好壞、性能的一致性以及產(chǎn)品的價(jià)格都有一定的要求,每年預(yù)計(jì)有億顆以上芯片的潛在需求,而目前的工藝方案和架構(gòu)無法滿足市場(chǎng)需求。
目前紅外探測(cè)器采用的是測(cè)量電路和紅外傳感結(jié)構(gòu)結(jié)合的方式,測(cè)量電路采用CMOS(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor,互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體)工藝制備,而紅外傳感結(jié)構(gòu)采用MEMS(Micro-Electro-Mechanical System,微電子機(jī)械系統(tǒng))工藝制備,導(dǎo)致存在如下問題:
(1)紅外傳感結(jié)構(gòu)采用MEMS工藝制備,以聚酰亞胺作為犧牲層,與CMOS工藝不兼容。
(2)聚酰亞胺作為犧牲層,存在釋放不干凈影響探測(cè)器芯片真空度的問題,還會(huì)使后續(xù)薄膜生長(zhǎng)溫度受限制,不利于材料的選擇。
(3)聚酰亞胺會(huì)造成諧振腔高度不一致,工作主波長(zhǎng)難以保證。
(4)MEMS工藝制程的控制遠(yuǎn)差于CMOS工藝,芯片的性能一致性和探測(cè)性能都會(huì)受到制約。
(5)MEMS產(chǎn)能低,良率低,成本高,不能實(shí)現(xiàn)大規(guī)模批量生產(chǎn)。
(6)MEMS現(xiàn)有的工藝能力不足以支撐更高性能的探測(cè)器制備,更小的線寬以及更薄的膜厚,不利于實(shí)現(xiàn)芯片的小型化。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述技術(shù)問題或者至少部分地解決上述技術(shù)問題,本公開提供了一種具有組合柱狀結(jié)構(gòu)的紅外探測(cè)器,解決了傳統(tǒng)MEMS工藝紅外探測(cè)器的性能低,像素規(guī)模低,良率低以及一致性差的問題,有利于減小第二柱狀結(jié)構(gòu)的熱導(dǎo)以及提高紅外探測(cè)器的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性,增加吸收板的面積,提升紅外探測(cè)器的紅外探測(cè)靈敏度。
本公開提供了一種具有組合柱狀結(jié)構(gòu)的紅外探測(cè)器,包括:
CMOS測(cè)量電路系統(tǒng)和CMOS紅外傳感結(jié)構(gòu),所述CMOS測(cè)量電路系統(tǒng)和所述CMOS紅外傳感結(jié)構(gòu)均使用CMOS工藝制備,在所述CMOS測(cè)量電路系統(tǒng)上直接制備所述CMOS紅外傳感結(jié)構(gòu);
所述CMOS測(cè)量電路系統(tǒng)上方包括至少一層密閉釋放隔絕層,所述密閉釋放隔絕層用于在制作所述CMOS紅外傳感結(jié)構(gòu)的釋放刻蝕過程中,保護(hù)所述CMOS測(cè)量電路系統(tǒng)不受工藝影響;
所述CMOS紅外傳感結(jié)構(gòu)的CMOS制作工藝包括金屬互連工藝、通孔工藝、IMD工藝以及RDL工藝,所述CMOS紅外傳感結(jié)構(gòu)包括至少三層金屬互連層、至少三層介質(zhì)層和多個(gè)互連通孔,所述金屬互連層至少包括反射層和兩層電極層,所述介質(zhì)層至少包括兩層犧牲層和一層熱敏感介質(zhì)層;其中,所述熱敏感介質(zhì)層用于將其吸收的紅外輻射對(duì)應(yīng)的溫度變化轉(zhuǎn)化為電阻變化,進(jìn)而通過所述CMOS測(cè)量電路系統(tǒng)將紅外目標(biāo)信號(hào)轉(zhuǎn)化成可實(shí)現(xiàn)電讀出的信號(hào);
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