[發(fā)明專利]一種在GH4169錐形塊墊片表面均勻鍍硬鉻的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110707091.2 | 申請日： | 2021-06-24 |
| 公開（公告）號： | CN113430604A | 公開（公告）日： | 2021-09-24 |
| 發(fā)明（設計）人： | 謝煥鈞;郭敏智;劉爽華 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國航發(fā)中傳機械有限公司 |
| 主分類號： | C25D5/40 | 分類號： | C25D5/40;C25D5/14;C25D7/00;C25D17/10 |
| 代理公司： | 湖南兆弘專利事務所(普通合伙) 43008 | 代理人： | 陳暉 |
| 地址： | 410200 湖南*** | 國省代碼： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 gh4169 錐形 墊片 表面 均勻 鍍硬鉻 方法 | ||
1.一種在GH4169錐形塊墊片表面均勻鍍硬鉻的方法，其特征在于，包括：
(1)對零件GH4169錐形塊墊片表面進行吹砂活化處理，確保吹砂面呈灰色；
(2)對零件進行預鍍鎳處理；
(3)以鉛銻合金作為陽極，零件作為陰極，并在零件外圍設置圓形輔助陰極，用導線將輔助陰極與零件連接，進行鍍鉻。
2.如權(quán)利要求1所述的在GH4169錐形塊墊片表面均勻鍍硬鉻的方法，其特征在于，步驟(2)中，所述預鍍鎳采用的預鍍鎳溶液含200～250g/L的NiCl2·6H2O和180～220g/L的HCl；
所述預鍍鎳在零件下槽后保持2～4min后進行，所述述預鍍鎳的電鍍時間為3～5min，電鍍的電流密度為5～10A/dm2。
3.如權(quán)利要求1所述的在GH4169錐形塊墊片表面均勻鍍硬鉻的方法，其特征在于，步驟(3)中，在進行鍍鉻前，還包括在零件錐形塊墊片的低電流密度區(qū)正上方設置象形陽極，并用導線將象形陽極與陽極連接。
4.如權(quán)利要求1～3任意一項所述的在GH4169錐形塊墊片表面均勻鍍硬鉻的方法，其特征在于，步驟(3)中，所述鍍鉻的鍍鉻液中含200～250g/L CrO3、2～2.5g/LH2SO4和3～5g/LCr3+；所述鍍鉻的溫度為50～60℃，所述鍍鉻的電流密度為50～55A/dm2。
5.如權(quán)利要求4所述的在GH4169錐形塊墊片表面均勻鍍硬鉻的方法，其特征在于，所述鍍鉻液中，CrO3與H2SO4的質(zhì)量濃度比為95～105。
6.如權(quán)利要求1～3任意一項所述的在GH4169錐形塊墊片表面均勻鍍硬鉻的方法，其特征在于，步驟(1)中，所述吹砂活化的條件為：吹砂采用的砂粒為100目的棕剛玉，吹砂壓力不大于2bar，噴嘴距離為150～300mm。
7.如權(quán)利要求1～3任意一項所述的在GH4169錐形塊墊片表面均勻鍍硬鉻的方法，其特征在于，在步驟(1)和步驟(2)之間還包括對零件進行水洗的步驟；
在步驟(2)和步驟(3)之間還包括對零件進行水洗的步驟。
8.如權(quán)利要求1～3任意一項所述的在GH4169錐形塊墊片表面均勻鍍硬鉻的方法，其特征在于，步驟(3)后，還包括對鍍鉻的零件進行除氫處理；所述除氫處理在鍍鉻后的10h內(nèi)進行，所述除氫處理的溫度為180～200℃，除氫處理的時間不低于3h。
9.如權(quán)利要求8所述的在GH4169錐形塊墊片表面均勻鍍硬鉻的方法，其特征在于，在所述除氫處理后，還包括對鍍鉻的零件進行洗滌以去除墊片表面的鉻酐，然后進行干燥的步驟。
10.如權(quán)利要求1～3任意一項所述的在GH4169錐形塊墊片表面均勻鍍硬鉻的方法，其特征在于，在步驟(1)前，還包括對零件進行電解預除油處理，所述電解預除油處理為：先將零件作為陰極電解4～6min，然后將零件作為陽極電解3～5min；電解溫度為60～90℃，電解的電流密度為5～10A/dm2。
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