[發明專利]掩模檢查設備和方法

在審

• 申請號: 202110702905.3
• 申請日: 2021-06-24
• 公開（公告）號: CN114114828A
• 公開（公告）日: 2022-03-01
• 發明（設計）人: 白大源
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: G03F1/84
• 分類號: G03F1/84
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司 11018
• 代理人: 郭艷芳;康泉

1.一種掩模檢查方法，包括：

提供包括多個第一開口和多個第二開口的沉積掩模，所述多個第一開口中的每一個具有在平面圖中不同于所述多個第二開口中的每一個的形狀的形狀；

指定第一組和第二組，每一組包括所述多個第一開口中的至少一個和所述多個第二開口中的至少一個；

比較所述第一組的圖像與所述第二組的圖像；以及

基于比較所述第一組的所述圖像與所述第二組的所述圖像的結果，確定所述第一組和所述第二組是否有缺陷，

其中，所述第一組中的所述第一開口和所述第二開口的布置與所述第二組中的所述第一開口和所述第二開口的布置相同。

2.根據權利要求1所述的掩模檢查方法，其中，所述第一組的所述圖像與所述第二組的所述圖像的所述比較包括：比較所述第一組的面積與所述第二組的面積。

3.根據權利要求2所述的掩模檢查方法，進一步包括：在所述第一組的所述圖像與所述第二組的所述圖像的所述比較之前，通過使用視覺單元對所述第一組和所述第二組進行成像，以獲取所述第一組的所述圖像和所述第二組的所述圖像，所述視覺單元包括電荷耦合器件傳感器，所述電荷耦合器件傳感器包括多個像素。

4.根據權利要求3所述的掩模檢查方法，其中，所述第一組的所述面積與所述第二組的所述面積的所述比較包括：將所述電荷耦合器件傳感器的所述多個像素中的布置在所述第一組內的一部分像素的數量與所述電荷耦合器件傳感器的所述多個像素中的布置在所述第二組內的另一部分像素的數量進行比較。

5.根據權利要求1所述的掩模檢查方法，其中，所述第一組的所述圖像與所述第二組的所述圖像的所述比較包括：比較所述第一組的形狀與所述第二組的形狀。

6.根據權利要求5所述的掩模檢查方法，進一步包括：通過使用視覺單元對所述第一組和所述第二組進行成像，所述視覺單元包括電荷耦合器件傳感器，所述電荷耦合器件傳感器包括多個像素，

其中，所述第一組的所述形狀與所述第二組的所述形狀的所述比較包括：將所述電荷耦合器件傳感器的所述多個像素中的布置在所述第一組內的一部分像素的形狀與所述電荷耦合器件傳感器的所述多個像素中的布置在所述第二組內的另一部分像素的形狀進行比較。

7.根據權利要求6所述的掩模檢查方法，其中，所述第一組的所述圖像與所述第二組的所述圖像的所述比較進一步包括：在水平方向上旋轉所述第一組的所述圖像和所述第二組的所述圖像中的任何一個。

8.根據權利要求5所述的掩模檢查方法，其中，所述第一組的所述圖像與所述第二組的所述圖像的所述比較進一步包括：利用檢查員的裸眼進行比較。

9.一種掩模檢查方法，包括：

提供包括多個第一開口和多個第二開口的沉積掩模，所述多個第一開口中的每一個具有在平面圖中不同于所述多個第二開口中的每一個的形狀的形狀；

準備包括所述多個第一開口中的第一開口和所述多個第二開口中的第二開口的參考圖像；

指定多個組，每一組包括所述多個第一開口中的第一開口和所述多個第二開口中的第二開口；

比較所述多個組中的組的圖像與所述參考圖像；以及

基于比較所述組的所述圖像與所述參考圖像的結果確定所述組是否有缺陷，

其中，所述組中的所述第一開口和所述第二開口的布置與所述參考圖像中的所述第一開口和所述第二開口的布置相同。

10.根據權利要求9所述的掩模檢查方法，其中，所述組的所述圖像與所述參考圖像的所述比較包括：將所述組中的所述第一開口和所述第二開口的面積與所述參考圖像中的所述第一開口和所述第二開口的面積進行比較。

11.根據權利要求9所述的掩模檢查方法，其中，所述組的所述圖像與所述參考圖像的所述比較包括：將所述組中的所述第一開口和所述第二開口的形狀與所述參考圖像中的所述第一開口和所述第二開口的形狀進行比較。