[發明專利]一種新材料板材表面雜質處理設備

在審

• 申請號: 202110701736.1
• 申請日: 2021-06-24
• 公開（公告）號: CN113400168A
• 公開（公告）日: 2021-09-17
• 發明（設計）人: 張志華
• 申請（專利權）人: 張志華
• 主分類號: B24B27/033
• 分類號: B24B27/033;B24B41/06;B24B55/06;B24B27/00;B24B41/02;B24B47/04
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本發明涉及一種雜質處理設備，尤其涉及一種新材料板材表面雜質處理設備。本發明提供一種能夠對新材料板材進行全面打磨除雜，提高新材料板材質量的新材料板材表面雜質處理設備。本發明提供了這樣一種新材料板材表面雜質處理設備，包括：底板，底板上設置有支架；打磨機構，支架上設置有打磨機構；移動機構，支架底部設置有移動機構；支撐機構，移動機構上設置有支撐機構。新材料板材放置在支撐機構，通過移動機構向上移動帶動支撐機構上的新材料板材與打磨機構貼合，通過打磨機構轉動對新材料板材進行打磨除雜。

技術領域

本發明涉及一種雜質處理設備，尤其涉及一種新材料板材表面雜質處理設備。

背景技術

新材料是指新近發展或正在發展的具有優異性能的結構材料和有特殊性質的功能材料。新材料板材生產完成后，需要對其表面進行打磨除雜，便于后期進行加工。

現有的打磨除雜設備大部分都不能夠對新材料板材進行全面打磨除雜，從而影響了新材料板材的質量，降低了工作效率。因此亟需設計一種能夠對新材料板材進行全面打磨除雜，提高新材料板材質量的新材料板材表面雜質處理設備，用于解決上述問題。

發明內容

為了克服一般的打磨除雜設備不能夠對新材料板材進行全面打磨除雜，從而影響了新材料板材的質量的缺點，技術問題：提供一種能夠對新材料板材進行全面打磨除雜，提高新材料板材質量的新材料板材表面雜質處理設備。

本發明的技術方案為：一種新材料板材表面雜質處理設備，包括：底板，底板上設置有支架；打磨機構，支架上設置有打磨機構；移動機構，支架底部設置有移動機構；支撐機構，移動機構上設置有支撐機構，移動機構與支撐機構配合。

進一步地，打磨機構包括：第一轉軸，支架之間均勻間隔轉動式設置有一排第一轉軸；打磨滾筒，第一轉軸上均設置有打磨滾筒；第一皮帶傳送裝置，第一轉軸的一端之間設置有第一皮帶傳送裝置；雙軸電機，支架一側設置有雙軸電機；第二皮帶傳送裝置，雙軸電機輸出軸與底部的第一轉軸的另一端之間設置有第二皮帶傳送裝置。

進一步地，移動機構包括：第一導桿，兩側的支架上均對稱設置有第一導桿；第一滑塊，四個第一導桿上均滑動式設置有第一滑塊；第一直型滑槽板，同一側的兩個第一滑塊相向一側之間均設置有第一直型滑槽板；第二直型滑槽板，兩個第一直型滑槽板中部的側壁上均設置有第二直型滑槽板；第一軸承座，兩個第二直型滑槽板下部的底板上均設置有第一軸承座；第二轉軸，兩個第一軸承座上均轉動式設置有第二轉軸；轉動桿，兩個第二轉軸相向一端均設置有轉動桿；第一固定桿，兩個第二直型滑槽板內均滑動式設置有第一固定桿，兩個轉動桿另一端均與兩個第一固定桿相向一端連接；第一彈性件，四個第一滑塊一側與四個第一導桿一側之間均設置有第一彈性件。

進一步地，支撐機構包括：第二導桿，兩個第一直型滑槽內均設置有第二導桿；第二滑塊，兩個第二導桿上均對稱滑動式設置有第二滑塊；支撐板，四個第二滑塊相向一側之間設置有支撐板；限位板，支撐板底部設置有限位板；第二彈性件，下部的兩個第二滑塊一側與兩個第一直型滑槽底部一側之間均設置有第二彈性件。

進一步地，還包括：導向塊，靠近兩個第一軸承座一側的底板上均設置有導向塊；滑桿，兩個導向塊上均滑動式設置有滑桿；第一齒條，靠近兩個第一軸承座一端的滑桿均設置有第一齒條；圓齒輪，兩個第二轉軸相向一端均設置有圓齒輪，圓齒輪與第一齒條相互嚙合；第三直型滑槽板，兩個滑桿另一端均設置有第三直型滑槽板；第三導桿，靠近兩個第三直型滑槽板一側的底板相向一側的側壁上均設置有第三導桿；踏板，兩個第三導桿之間滑動式設置有踏板；第二固定桿，靠近第三直型滑槽板一側的踏板側壁上對稱設置有第二固定桿，兩個第二固定桿與兩個第三直型滑槽板滑動式配合；第三彈性件，踏板底部兩側與兩個第二固定桿一側之間均設置有第三彈性件。