[發明專利]一種炫彩液晶材料及其制備工藝在審
| 申請號: | 202110694911.9 | 申請日: | 2021-06-22 |
| 公開(公告)號: | CN113372600A | 公開(公告)日: | 2021-09-10 |
| 發明(設計)人: | 陳珂珩 | 申請(專利權)人: | 江蘇中新瑞光學材料有限公司 |
| 主分類號: | C08J7/06 | 分類號: | C08J7/06;C08J7/046;C08J5/18;C08L67/00;C08K7/28;C08K7/24;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/35 |
| 代理公司: | 南京常青藤知識產權代理有限公司 32286 | 代理人: | 史慧敏 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 液晶 材料 及其 制備 工藝 | ||
1.一種炫彩液晶材料的制備工藝,其特征在于,包括以下步驟:
步驟一,制備基體層:在聚合攪拌釜內添加液晶聚酯樹脂、介孔二氧化鈦微球、中空玻璃微珠以及溶劑,聚合溫度在260℃-300℃范圍內,聚合攪拌時間為90min-150min,后在溫度160-180℃范圍中保溫靜置2h-4h;再經分餾后,得到混合預聚物,干燥固化所述混合預聚物,在熔融溫度為400℃-500℃間制得液晶態聚酯混合物,置于模具緩冷后,分切加工成型得到預制基體層,最后通過紫外光引發取向所述預制基體層以制成透明的基體層;
步驟二,制備調光膜原料:取納米SiO2微粒與納米級銳鈦型TiO2微粒混合均勻,熔煉攪拌2h-4h,再澆注至定型模具冷卻降溫,鑄錠成型后,經過切割拋光加工制得SiO2/TiO2復合靶材;
步驟三,將步驟二得到的SiO2/TiO2復合靶材通過磁控濺射方法沉積在所述基體層上形成調光膜,并在靶材沉積至基體層表面過程中通入微波輻照輔助引導。
2.根據權利要求1所述的一種炫彩液晶材料的制備工藝,其特征在于:步驟一中,所述液晶聚酯樹脂、介孔二氧化鈦微球、中空玻璃微珠以及溶劑的質量比為(40-60):(4-12):(4-12):(120-200)。
3.根據權利要求2所述的一種炫彩液晶材料的制備工藝,其特征在于:所述液晶聚酯樹脂由反應單體聚合而成,所述反應單體包括芳香族二醇、芳香族二胺、芳香族羥基胺、芳香族二羧酸、芳香族氨基羧酸、芳香族羥基羧酸中至少一種。
4.根據權利要求2所述的一種炫彩液晶材料的制備工藝,其特征在于:所述介孔二氧化鈦微球粒徑范圍為600nm-900nm,所述中空玻璃微珠粒徑范圍為35μm-65μm,真密度為0.11g/cm3-0.5g/cm3。
5.根據權利要求2所述的一種炫彩液晶材料的制備工藝,其特征在于:所述溶劑為丙酮、二氯甲烷以及二甲基甲酰胺中的一種或多種。
6.根據權利要求1所述的一種炫彩液晶材料的制備工藝,其特征在于:步驟一中,所述紫外光引發取向的紫外光波長為365nm,紫外光強度為5-20mW/cm2,光照時長為1min-30min,控制照射溫度在20-50℃。
7.根據權利要求1所述的一種炫彩液晶材料的制備工藝,其特征在于:步驟二中,所述納米SiO2微粒粒徑為10-25nm,所述納米級銳鈦型TiO2微粒粒徑為5-20nm。
8.根據權利要求1所述的一種炫彩液晶材料的制備工藝,其特征在于:步驟三中,磁控濺射時充入120-130sccm的工作氣體Ar氣和70-90sccm的反應氣體O2,氣壓在0.4-0.5Pa,沉積時長為7-15min,所述微波輻照的微波頻率在2200MHz-2600MHz范圍內。
9.根據權利要求7所述的一種炫彩液晶材料的制備工藝,其特征在于:所述磁控濺射中先啟動弧電源進行離子清洗基體層,且在高真空狀態下充入工作氣體Ar氣。
10.一種炫彩液晶材料,其特征在于:由權利要求1-9任一項所述的制備工藝制成。
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