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[發明專利]一種用于半導體設備的多工位全自動減薄磨削方法有效

專利信息
申請號: 202110693485.7 申請日: 2021-06-22
公開(公告)號: CN113305732B 公開(公告)日: 2022-05-03
發明(設計)人: 梁津;王海明;衣忠波;劉國敬;金豪;李丹 申請(專利權)人: 北京中電科電子裝備有限公司
主分類號: B24B37/00 分類號: B24B37/00;B24B37/11;B24B37/27;B24B37/34;B24B51/00
代理公司: 北京維正專利代理有限公司 11508 代理人: 俞炯;馬希超
地址: 102600 北京市大興區北*** 國省代碼: 北京;11
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摘要:
搜索關鍵詞: 一種 用于 半導體設備 多工位 全自動 磨削 方法
【權利要求書】:

1.一種用于半導體設備的多工位全自動減薄磨削方法,包括磨削單元(4)、工作臺(5)、工作臺(5)上設置有多個承片臺(6),承片臺(6)帶動待磨削片移動到與磨削件(43)接觸的區域為磨削位(51);承片臺(6)移動到向承片臺(6)上放置待磨削片的區域為裝片位(52);承片臺(6)移動到從承片臺(6)上卸下待磨削片的區域為卸片位(53);磨削完成后的待磨削片為磨削成品件;其特征在于:所述工作臺(5)帶動承片臺(6)周向轉動,所述工作臺(5)帶動承片臺(6)依次從裝片位(52)移動到磨削位(51)、從磨削位(51)移動到卸片位(53);承片臺(6)上的待磨削片從裝片位(52)移動到磨削位(51)、從磨削位(51)移動到卸片位(53)的過程中,待磨削片與承片臺(6)之間壓緊連接;

磨削單元(4)上設置有對待磨削片進行磨削的磨削件(43),磨削單元(4)能帶動磨削件(43)轉動,磨削件(43)的轉動速度為1000-6000rpm;磨削件(43)與承片臺(6)之間的距離能調整移動后保持穩定;磨削件(43)與承片臺(6)之間的距離調整一次后,磨削件(43)能磨削完成承片臺(6)上的待磨削片;

磨削單元(4)對承片臺(6)上的待磨削片進行磨削時,工作臺(5)持續帶動承片臺(6)移動,所述承片臺(6)的轉動速度不大于20rpm;

工序1:工作臺(5)帶動承片臺(6)繞工作臺(5)的旋轉軸轉動,磨削單元(4)帶動磨削件(43)繞磨削件(43)的旋轉軸轉動,調整磨削件(43)與磨削位(51)的承片臺(6)相對表面之間的距離大小為磨削成品件的厚度大小;

工序2:將待磨削片放入裝片位(52);

工序3:工作臺(5)帶動裝片位(52)的承片臺(6)轉動至磨削位(51);

工序4:磨削件(43)對繞工作臺(5)旋轉軸轉動的待磨削片進行磨削;

工序5:工作臺(5)帶動磨削位(51)的承片臺(6)轉動至卸片位(53);

工序6:將磨削成品件從卸片位(53)取下。

2.根據權利要求1所述的一種用于半導體設備的多工位全自動減薄磨削方法,其特征在于:承片臺(6)上設置有真空組件(65),所述真空組件(65)包括用于對真空通道和壓縮空氣通道控制開啟或關閉的控制單元;

連接工序1:承片臺(6)上的待磨削片從裝片位(52)移動到磨削位(51)、從磨削位(51)移動到卸片位(53)的過程中,真空組件(65)對待磨削片施加吸附作用,將待磨削片與承片臺(6)壓緊連接;

連接工序2:承載臺移動到卸片位(53)時,真空組件(65)對磨削成品件施加浮片作用,真空組件(65)對磨削成品件施加與承片臺(6)分離的作用力。

3.根據權利要求1所述的一種用于半導體設備的多工位全自動減薄磨削方法,其特征在于:所述磨削單元(4)還包括磨削主軸(41)、磨削電機(44)、進給機構;磨削主軸(41)與磨削件(43)固定連接,磨削電機(44)帶動磨削主軸(41)轉動,進給機構帶動磨削主軸(41)移動、使磨削件(43)與承片臺(6)之間沿垂直于承片臺(6)表面的距離增大或減小。

4.根據權利要求1所述的一種用于半導體設備的多工位全自動減薄磨削方法,其特征在于:包括用于放置待磨削片的上片盒(2),上片盒(2)上的待磨削片取出后放入裝片位(52);包括檢測機構,所述檢測機構用于分別檢測上片盒(2)和承片臺(6)上是否有待磨削片;包括主控制器,主控制器與檢測機構信號連接,主控制器控制磨削單元(4)、工作臺(5)的開啟或關閉;

檢測工序1:檢測機構檢測上片盒(2)和承片臺(6)上均無待磨削片時,檢測機構向主控制器發出信號;

檢測工序2:主控制器控制磨削單元(4)上的磨削件(43) 升起至初始位置并停止轉動、工作臺(5)停止轉動。

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