[發(fā)明專利]載置臺和檢查裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110672681.6 | 申請日: | 2021-06-17 |
| 公開(公告)號: | CN113851416A | 公開(公告)日: | 2021-12-28 |
| 發(fā)明(設計)人: | 小林將人;中山博之;小林大 | 申請(專利權(quán))人: | 東京毅力科創(chuàng)株式會社 |
| 主分類號: | H01L21/687 | 分類號: | H01L21/687;H01L21/66 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322 | 代理人: | 龍淳;劉芃茜 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 載置臺 檢查 裝置 | ||
本發(fā)明提供能夠抑制翹曲的載置臺和檢查裝置。載置臺包括:載置部,其具有用于載置被檢查體的板部件和透光性部件;以及光照射機構(gòu),其照射光以使上述被檢查體升溫,上述板部件和上述透光性部件由線膨脹系數(shù)為1.0×10?6/K以下的低熱膨脹材料形成。
技術領域
本發(fā)明涉及載置臺和檢查裝置。
背景技術
已知有一種檢查裝置,其將形成有電子器件的晶片、配置有電子器件的載體載置在載置臺,從測試器經(jīng)由探針等對電子器件供給電流,由此來檢查電子器件的電氣特性。利用載置臺內(nèi)的冷卻機構(gòu)、加熱機構(gòu),來控制電子器件的溫度。
專利文獻1公開了一種載置臺,其特征在于:包括用于載置被檢查體的冷卻機構(gòu)和光照射機構(gòu),該光照射機構(gòu)以隔著該冷卻機構(gòu)與前述被檢查體對置的方式配置,前述冷卻機構(gòu)由透光部件構(gòu)成,其內(nèi)部供光可透射的致冷劑流過,前述光照射機構(gòu)具有指向前述被檢查體的多個LED。
現(xiàn)有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2018-151369號公報
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的技術問題
然而,在用光照射機構(gòu)加熱被檢查體時,由于冷卻機構(gòu)的上表面?zhèn)壬郎兀裕蚶鋮s機構(gòu)的上表面與下表面之間的溫度差,而載置臺可能產(chǎn)生翹曲。此外,因為限定了因光照射機構(gòu)而升溫的區(qū)域,所以被光照射機構(gòu)照射光而升溫的高溫區(qū)域和不被光照射機構(gòu)照射光的低溫區(qū)域并存,因此,因冷卻機構(gòu)的高溫區(qū)域與低溫區(qū)域之間的溫度差,而載置臺可能產(chǎn)生翹曲。
在一個方面,本發(fā)明提供抑制翹曲的載置臺和檢查裝置。
用于解決技術問題的技術方案
為了解決上述技術問題,依照一個方面,提供一種載置臺,其包括:載置部,其具有用于載置被檢查體的板部件和透光性部件;以及光照射機構(gòu),其照射光以使上述被檢查體升溫,上述板部件和上述透光性部件由線膨脹系數(shù)為1.0×10-6/K以下的低熱膨脹材料形成。
發(fā)明效果
依照一方面,能夠提供抑制翹曲的載置臺和檢查裝置。
附圖說明
圖1是說明本實施方式的檢查裝置的結(jié)構(gòu)的截面示意圖。
圖2是說明第一實施方式的工作臺的上部結(jié)構(gòu)的截面示意圖。
圖3是將光照射時的參考例的工作臺和第一實施方式的工作臺對比地表示的圖。
圖4是說明第二實施方式的工作臺的上部結(jié)構(gòu)的截面示意圖。
圖5是說明第三實施方式的工作臺的上部結(jié)構(gòu)的截面示意圖。
附圖標記說明
10 檢查裝置
11 工作臺(載置臺)
19 控制部
20 配線
21 致冷劑供給裝置
22 送出配管
23 返回配管
25 電子器件
30、30A、30B 載置部
31、31A、31B 板部件
311 板部件
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- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





