[發明專利]光刻設備、用于卸載襯底的方法和用于裝載襯底的方法

在審

• 申請號: 202110667948.2
• 申請日: 2016-12-22
• 公開（公告）號: CN113376974A
• 公開（公告）日: 2021-09-10
• 發明（設計）人: A·B·熱因克;R·F·J·馬騰斯;Y·K·M·德沃斯;R·P·C·范多斯特;G·A·滕布林克;D·J·A·森登;C·H·M·巴爾蒂斯;J·J·H·格里特曾;J·M·卡姆明加;E·W·帕西蒂;T·波伊茲;A·C·沙伊貝利希;B·D·肖爾滕;A·施雷伊德;A·A·索伊碩特;S·A·特羅普;Y·J·G·范德威杰費
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;B25B11/00;H01L21/683;H01L21/687
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 董莘

公開了光刻設備、用于卸載襯底的方法和用于裝載襯底的方法。一種支撐臺，被配置為支撐襯底，支撐臺具有半徑r0并且包括：基面；第一密封，圍繞支撐臺的邊緣；第二密封，位于第一密封的徑向向內，以形成雙密封；多個孔，位于第二密封的徑向向內，并且多個孔被配置為允許銷垂直延伸穿過多個孔；以及多個第一氣流開口，被配置為從基面與襯底之間的間隙中抽取氣體，其中多個第一氣流開口被定位成與支撐臺的中心的徑向距離為r2，多個第一氣流開口被布置為使得r2:r0在0.5和0.8之間。

本申請是國際申請號為PCT/EP2016/082484、國際申請日為2016年12月22日、國家申請號為201680081242.5、發明名稱為“光刻設備、用于卸載襯底的方法和用于裝載襯底的方法”的中國專利申請的分案申請。

相關申請的交叉引用

本參考要求于2016年2月8日和2016年6月2日提交的EP 16154599.1和EP16172678.1的優先權，其全部內容通過引用并入本文。

技術領域

本發明涉及光刻設備、用于卸載襯底的方法和用于將襯底特別地裝載到用于光刻設備的支撐臺上的方法。

背景技術

光刻設備是一種將期望圖案施加到襯底上、通常施加到襯底的目標部分上的機器。例如，光刻設備可以用于制造集成電路(IC)。在這種情況下，可以使用圖案化裝置(替代地稱為掩模或掩模版)來生成要形成在IC的單個層上的電路圖案。該圖案可以轉移到襯底(例如，硅晶片)上的目標部分(例如，包括一個或幾個管芯的部分)上。圖案的轉移通常經由到設置在襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上的成像來進行。通常，單個襯底將包含連續地圖案化的相鄰目標部分的網絡。已知的光刻設備包括所謂的步進器和所謂的掃描儀，在步進器中，通過一次性將整個圖案暴露到目標部分上來照射每個目標部分，在掃描儀中，通過在給定方向(“掃描”方向)上通過輻射束掃描圖案同時在與該方向平行或反平行的方向上掃描襯底來照射每個目標部分。還可以通過將圖案壓印到襯底上來將圖案從圖案化裝置轉移到襯底。

已經提出了將光刻投影設備中的襯底浸入具有相對較高折射率的液體(例如，水)中以填充投影系統的最終元件與襯底之間的空間。在一個實施例中，液體是超純水，但是可以使用另一種液體。將參考液體描述本發明的實施例。然而，另一種流體可能是合適的，特別是潤濕流體、不可壓縮流體和/或折射率高于空氣的流體(期望地是折射率高于水的流體)。排除氣體的流體是特別期望的。其重點是能夠對較小特征進行成像，因為曝光輻射在液體中具有較短的波長。(液體的效果也可以被認為是增加系統的有效數值孔徑(NA)并且還增加聚焦深度。)已經提出了其他浸沒液體，包括其中懸浮有固體顆粒(例如，石英)的水、或具有納米顆粒懸浮物(例如，最大尺寸多達10nm的顆粒)的液體。懸浮顆粒可以具有或不具有與懸浮顆粒懸浮在其中的液體相似或相同的折射率。可能合適的其他液體包括烴，諸如芳族烴、氟代烴和/或水溶液。

將襯底或襯底和支撐臺浸沒在液體浴中(參見例如美國專利No.4,509,852)表示在掃描曝光期間必須加速大體積的液體。這需要附加的或更強大的電機并且液體中的湍流可能導致不期望的和不可預測的影響。

在浸沒設備中，浸沒流體由流體處理系統、裝置結構或設備來處理。在一個實施例中，流體處理系統可以供應浸沒流體并且因此是流體供應系統。在一個實施例中，流體處理系統可以至少部分限制浸沒流體并且從而是流體限制系統。在一個實施例中，流體處理系統可以向浸沒流體提供屏障并且從而是阻擋構件，諸如流體限制結構。在一個實施例中，流體處理系統可以產生或使用氣流，例如以幫助控制浸沒流體的流動和/或位置。氣流可以形成密封以限制浸沒流體，因此流體處理結構可以稱為密封構件；這樣的密封構件可以是流體限制結構。在一個實施例中，浸沒液體用作浸沒流體。在這種情況下，流體處理系統可以是液體處理系統。參考以上描述，在該段落中對關于流體而限定的特征的提及可以被理解為包括關于液體而限定的特征。

發明內容