[發明專利]一種TP-ITO透明導電基膜的制備方法

在審

• 申請號: 202110656694.4
• 申請日: 2021-06-12
• 公開（公告）號: CN113370562A
• 公開（公告）日: 2021-09-10
• 發明（設計）人: 楊彪;李彬彬;孫艷斌;楊建鵬;劉德志;齊寶山;張玲;劉金偉;呂廷磊;姚成法
• 申請（專利權）人: 山東勝通光學材料科技有限公司
• 主分類號: B29D7/01
• 分類號: B29D7/01;H01B13/00;H01B5/14
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1.一種TP-ITO透明導電基膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1、原材料按90:5:5或80:10:10的比例混合攪拌后進入170-200℃的干燥塔中進行結晶干燥，結晶時間設定為90min，干燥時間180min，干燥后的聚酯切片含濕量W＜35ppm；

S2、干燥后的聚酯切片精過濾后通過計量泵進入溫度為220-300℃的溶體擠出機中進行熔融塑化，再進入溫度260-300℃的模頭鑄片系統進行流延鑄片，使鑄片的外形和厚度的均勻，從模頭擠出的鑄片進入急冷輥進行冷卻，保證鑄片冷至60℃以下，計量泵設定溫度為270-300℃；

S3、來自擠出機的聚酯鑄片在加熱狀態下通過慢拉輥與快拉輥之間的速度差進行2.8-4.2倍數的縱向拉伸；

S4、在生產線以20-25m/min運行中的聚酯基膜進行電暈處理；

S5、用原材料按組分配比后進入涂布液供料裝置進行均勻攪拌，PH值測試后，進行在線涂布；

S6、按2.8-4.2倍數進行橫向拉伸后進行熱定型，熱定型溫度190℃-230℃；

S7、基膜通過控制壓力輥、展幅輥、導向輥，最后完成收卷工作。

2.根據權利要求1所述的一種TP-ITO透明導電基膜的制備方法，其特征在于，所述S4中，聚酯薄膜穿過導輥做電暈處理時,利用高頻高壓電源發生器產生直流電壓U，電弧放電，電極形成靜電電場磁場，使空氣發生電離，從而產生電暈，電暈在空氣中產生大量的空間電荷，電暈薄膜經絕緣輥、導輥輸送到涂布系統，在此導輥的溫度在36-38℃,用于基膜的處理電壓范圍在3-15KV，頻率調節范圍10-30KHZ，電極間隙控制在1-2mm，放電使電弧放電，氣體電離后產生的各種能量粒子在強電場的作用下，加速沖擊電極之間的高聚物，使表層分子連接的化學鍵斷裂而絳解，增加表面的粗糙度。

3.根據權利要求1所述的一種TP-ITO透明導電基膜的制備方法，其特征在于，所述S5中，在線涂布的生產工藝主要由涂布液的配制、薄膜電暈處理、涂布液供給、凹輥涂布、干燥系統幾個部分組成，在線涂布用原材料，即涂布液配制：按100份組分為乙酸乙烯樹脂60份、環氧改性有機硅樹脂20份、聚二甲基硅氧烷10份、丙烯酸流平劑3份進行配比，配比后進入涂布液供料裝置進行均勻攪拌10min后，使涂布溶液PH=9.5加入光敏劑7份，再攪拌15min后，使涂布溶液PH=9.5后進行在線涂布。

4.根據權利要求1所述的一種TP-ITO透明導電基膜的制備方法，其特征在于，所述S5中，來自縱拉機上的薄膜經過電暈裝置處理，后經過在線涂布機的導入輥，展平輥，進入涂布壓輥與涂布輥之間，涂布壓輥將薄膜壓在涂布輥上，使涂布輥上的涂布液轉移到薄膜上，在薄膜表面形成涂布層，液泵運行，涂布液供料裝置中的涂布液通過液泵、輸液管道進入涂布分液管，計量輥可以根據薄膜規格、和涂布要求厚度指標可以調整凹輥轉速測量調整涂層厚度，涂布頭用來增強涂布液流平效果，完成涂布后，薄膜由涂布膜導出輥引出，涂布液經熱風干燥器干燥揮發水份，最終在薄膜表面形成均勻的化學處理層，涂布后的基膜經熱風干燥器后經過進入橫向拉伸設備。

5.根據權利要求1所述的一種TP-ITO透明導電基膜的制備方法，其特征在于，所述S1中，原材料包括以下重量百分比的原料：80-90%的樹脂材料，5-10%的固化劑，5-10%納米級無機材料，80-90％的樹脂材料分子量介于20000-40000之間，密度1.48-1.79g/cm3之間。

6.根據權利要求5所述的一種TP-ITO透明導電基膜的制備方法，其特征在于，所述樹脂材料為BOPA、PMMA、UP、ARP、BOPET、TPES的一種或幾種，固化劑為二丁酯、過氧乙酸叔丁酯、過氧化環己酮、聚氨酯固化劑、羥烷基酰胺、過氧化苯甲酰的一種或幾種，納米級無機材料為BaSO4、AiN、ZrO2、SiC、TiS2、蒙脫石的一種或幾種。