[發(fā)明專利]室內(nèi)管線信息探測方法及系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110653047.8 | 申請日: | 2021-06-11 |
| 公開(公告)號: | CN113406712A | 公開(公告)日: | 2021-09-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李騰;路亞;張科倫;楊睿;郎懌明 | 申請(專利權(quán))人: | 重慶電子工程職業(yè)學(xué)院 |
| 主分類號: | G01V5/00 | 分類號: | G01V5/00;G01B15/00 |
| 代理公司: | 重慶縱義天澤知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 50272 | 代理人: | 舒夢來 |
| 地址: | 401331 重慶市沙坪壩*** | 國省代碼: | 重慶;50 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 室內(nèi) 管線 信息 探測 方法 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明涉及建筑物信息采集技術(shù)領(lǐng)域,提供了一種能夠探測多種信息的室內(nèi)管線信息探測系統(tǒng),包括:對照模塊,包括結(jié)構(gòu)相同的兩個對照塊,對照塊分別固定在墻體的兩側(cè);第一探測模塊,用于發(fā)射穿過墻體和對照塊的非平行的探測介質(zhì);第二探測模塊,用于接收穿過墻體和對照塊的探測介質(zhì);處理模塊,用于根據(jù)第二探測塊的信息進(jìn)行第一次成像,然后在根據(jù)第一探測模塊和第二探測模塊交換位置后進(jìn)行第二次成像,根據(jù)對照塊兩次成像的區(qū)別與墻體內(nèi)管線兩次成像的區(qū)別確定管線深度信息,然后根據(jù)墻體內(nèi)管線成像時的直徑信息和管線深度信息確定管線直徑信息。還公開了一種室內(nèi)管線信息探測方法。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及建筑物信息采集技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及室內(nèi)管線信息探測方法及系統(tǒng)。
背景技術(shù)
目前在建筑行業(yè),獲知墻體內(nèi)管線的布局信息的手段通常是依據(jù)施工圖紙或者施工期間拍攝記錄的管線照片進(jìn)行測算,但是很多施工圖紙都已經(jīng)丟失或者并不會準(zhǔn)確記錄管線的位置,而通過拍攝記錄的方式亦無法獲得墻面完整且較為標(biāo)準(zhǔn)的管線圖紙,且也存在保存困難,信息容易丟失的情況,尤其是針對舊房改造這一現(xiàn)實(shí)情況,很多房屋的首任房主在進(jìn)行裝修時并不會特意對墻內(nèi)的管線布局信息進(jìn)行特別的保存,這就導(dǎo)致在房屋在進(jìn)行二手房交易后,新任的房主無法準(zhǔn)確的獲知到墻內(nèi)的管線布局信息,導(dǎo)致其進(jìn)行舊房改造時需要投入更多的試錯成本。
針對這一情況,市面上出現(xiàn)了各項(xiàng)解決上述問題的技術(shù),如公開號為CN210427836U的中國專利文獻(xiàn)公開了一種便攜管線探測儀,公開號為CN210038200U的中國專利文獻(xiàn)公開了一種地下管線探測儀,均可以用于探測地下自來水管道、金屬管道、電纜等的位置、走向。然而采用管線探測儀進(jìn)行現(xiàn)場探測,需要有經(jīng)驗(yàn)的專業(yè)人員,使用專業(yè)工具,花費(fèi)較長時間進(jìn)行判斷和定位。而且,相關(guān)信息也不便于房主進(jìn)行靈活的調(diào)用。
而且,上述裝置在使用時,僅能夠針對金屬的管線進(jìn)行探測,然而在實(shí)際使用過程中,墻體內(nèi)還存在較多的非金屬的管線(如PE管+光纖),上述裝置無法進(jìn)行探測。另外,用戶在針對墻體內(nèi)的管線布局信息獲取時,除了想要獲取管線的平面坐標(biāo)情況(即哪里有管線,以墻面為平面),還想要獲取管線大概的直徑,大概的深度信息,但是上述方案獲取的信息僅有墻體內(nèi)管線的平面坐標(biāo)信息,存在獲取的信息較少的問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種能夠探測多種信息的室內(nèi)管線信息探測方法及系統(tǒng)。
為了解決上述技術(shù)問題,本申請?zhí)峁┤缦录夹g(shù)方案:
室內(nèi)管線信息探測系統(tǒng),包括:
對照模塊,包括結(jié)構(gòu)相同的兩個對照塊,對照塊分別固定在墻體的兩側(cè);
第一探測模塊,用于發(fā)射穿過墻體和對照塊的非平行的探測介質(zhì);
第二探測模塊,用于接收穿過墻體和對照塊的探測介質(zhì);
處理模塊,用于根據(jù)第二探測塊的信息進(jìn)行第一次成像,然后在根據(jù)第一探測模塊和第二探測模塊交換位置后進(jìn)行第二次成像,根據(jù)對照塊兩次成像的區(qū)別與墻體內(nèi)管線兩次成像的區(qū)別確定管線深度信息,然后根據(jù)墻體內(nèi)管線成像時的直徑信息和管線深度信息確定管線直徑信息。
進(jìn)一步,所述對照塊包括多種供探測介質(zhì)穿過且成像時存在區(qū)別的材質(zhì)。
進(jìn)一步,所述探測介質(zhì)為X光。
進(jìn)一步,所述對照塊包括塑料部和金屬部,塑料部和金屬部相對固定。
進(jìn)一步,所述第一探測模塊還用于接收穿過墻體和對照塊的探測介質(zhì),所述第二探測模塊還用于發(fā)射穿過墻體和對照塊的非平行的探測介質(zhì);在第一探測模塊發(fā)射穿過墻體和對照塊的非平行的探測介質(zhì)時,第一次成像;在第一探測模塊接收穿過墻體和對照塊的探測介質(zhì)時,第二次成像。
進(jìn)一步,還包括坐標(biāo)參考物,所述坐標(biāo)參考物固定于墻體表面,且可供探測介質(zhì)穿過并成像。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于重慶電子工程職業(yè)學(xué)院,未經(jīng)重慶電子工程職業(yè)學(xué)院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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